JPH0237183B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0237183B2 JPH0237183B2 JP59130900A JP13090084A JPH0237183B2 JP H0237183 B2 JPH0237183 B2 JP H0237183B2 JP 59130900 A JP59130900 A JP 59130900A JP 13090084 A JP13090084 A JP 13090084A JP H0237183 B2 JPH0237183 B2 JP H0237183B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sterilization
- vacuum container
- microwave
- sterilized
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、医療器具等の殺菌に用いられるマイ
クロ波放電プラズマ殺菌装置に関するものであ
る。
クロ波放電プラズマ殺菌装置に関するものであ
る。
従来の技術
従来、医療器具等の殺菌には、高圧蒸気や高温
空気等による加熱殺菌、酸化エチレンガス等によ
るガス殺菌、紫外線殺菌や放射線殺菌等が広く用
いられている。
空気等による加熱殺菌、酸化エチレンガス等によ
るガス殺菌、紫外線殺菌や放射線殺菌等が広く用
いられている。
加熱殺菌では被殺菌物が高圧蒸気や高温空気に
さらされ、通常100℃以上の高温となるため、殺
菌処理可能な物質は耐熱性である必要があり、極
めて限定されることになる。従つてどのような加
熱手段を用いてもこの欠点は避けることができな
い。
さらされ、通常100℃以上の高温となるため、殺
菌処理可能な物質は耐熱性である必要があり、極
めて限定されることになる。従つてどのような加
熱手段を用いてもこの欠点は避けることができな
い。
ガス殺菌は、殺菌剤をガス状にして容器内に充
満させ、ガス濃度、温度、湿度、圧力等を調節
し、細菌に作用させるようにしたものであつて、
低温で殺菌することができる。例えばこのガス殺
菌には酸化エチレンが用いられるが、上記の条件
調節が容易でなく、条件の変動によつて作用効果
が著しく左右されることになる。またガス殺菌は
殺菌に長時間かかり、しかも被殺菌物の形状が複
雑な場合にはガスが十分に浸透せず十分な殺菌が
行なわれない恐れがあり、また殺菌後においても
酸化エチレン等の毒性ガスが被殺菌物に吸着し、
長時間残留するので殺菌後被処理物をすぐに使用
できないという欠点がある。
満させ、ガス濃度、温度、湿度、圧力等を調節
し、細菌に作用させるようにしたものであつて、
低温で殺菌することができる。例えばこのガス殺
菌には酸化エチレンが用いられるが、上記の条件
調節が容易でなく、条件の変動によつて作用効果
が著しく左右されることになる。またガス殺菌は
殺菌に長時間かかり、しかも被殺菌物の形状が複
雑な場合にはガスが十分に浸透せず十分な殺菌が
行なわれない恐れがあり、また殺菌後においても
酸化エチレン等の毒性ガスが被殺菌物に吸着し、
長時間残留するので殺菌後被処理物をすぐに使用
できないという欠点がある。
また、紫外線殺菌は極めて短時間で殺菌効果を
発揮するが、紫外線ランプの汚れ等が紫外線強度
が低下することにより殺菌効果も落ち、また細菌
の密度が104／cm2以上では細菌自体の陰影効果に
より陰になる部分は殺菌できない。
発揮するが、紫外線ランプの汚れ等が紫外線強度
が低下することにより殺菌効果も落ち、また細菌
の密度が104／cm2以上では細菌自体の陰影効果に
より陰になる部分は殺菌できない。
さらに放射線殺菌はその設備自体が大がかりと
なり、一般に通常の使用には不向きである。
なり、一般に通常の使用には不向きである。
上述のような殺菌法の欠点を解消する方法とし
て放電またはプラズマを用いた殺菌方法が知られ
ている。放電殺菌装置の従来例は例えば特公昭53
−35715号公報、特開昭57−195461号公報および
特開昭57−200156号公報に記載されている。しか
しこれらの公知の放電殺菌装置ではいずれも真空
容器内に放電電極が配置されており、この放電電
極に高電圧を印加して放電させるため電極が放電
によつて生成されたイオンでスパツタされ、スパ
ツタされたものが被殺菌物に付着し殺菌とは別の
意味で汚染されることになる。
て放電またはプラズマを用いた殺菌方法が知られ
ている。放電殺菌装置の従来例は例えば特公昭53
−35715号公報、特開昭57−195461号公報および
特開昭57−200156号公報に記載されている。しか
しこれらの公知の放電殺菌装置ではいずれも真空
容器内に放電電極が配置されており、この放電電
極に高電圧を印加して放電させるため電極が放電
によつて生成されたイオンでスパツタされ、スパ
ツタされたものが被殺菌物に付着し殺菌とは別の
意味で汚染されることになる。
発明が解決しようとする問題点
そこで本発明は、従来の加熱殺菌法における高
温に伴なう被殺菌対象の制限問題、ガス殺菌法に
伴なう有毒ガスの残留の問題、紫外線殺菌法に伴
なう殺菌むらの生じる問題および放電殺菌法にお
ける電極等のスパツタによる被殺菌物の汚染の問
題を全て解決して低温、短時間で清浄で十分な殺
菌を行なうことのできるマイクロ波放電プラズマ
殺菌装置を提供することにある。
温に伴なう被殺菌対象の制限問題、ガス殺菌法に
伴なう有毒ガスの残留の問題、紫外線殺菌法に伴
なう殺菌むらの生じる問題および放電殺菌法にお
ける電極等のスパツタによる被殺菌物の汚染の問
題を全て解決して低温、短時間で清浄で十分な殺
菌を行なうことのできるマイクロ波放電プラズマ
殺菌装置を提供することにある。
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するために、本発明によるマイ
クロ波放電プラズマ殺菌装置は、排気系に連結さ
れる排気ポートとガス導入ポートとを備えた真空
容器内に被殺菌物の処理棚を配置し、また真空容
器にマイクロ波導入装置を取付け、真空容器内へ
マイクロ波を導入して内部にプラズマを発生さ
せ、さらに真空容器内にプラズマ状態を制御する
磁場を発生させる磁気装置を設けたことを特徴と
しており、この磁気装置は永久磁石または磁気コ
イルから成ることができる。
クロ波放電プラズマ殺菌装置は、排気系に連結さ
れる排気ポートとガス導入ポートとを備えた真空
容器内に被殺菌物の処理棚を配置し、また真空容
器にマイクロ波導入装置を取付け、真空容器内へ
マイクロ波を導入して内部にプラズマを発生さ
せ、さらに真空容器内にプラズマ状態を制御する
磁場を発生させる磁気装置を設けたことを特徴と
しており、この磁気装置は永久磁石または磁気コ
イルから成ることができる。
作 用
以上のように構成することによつて本発明のマ
イクロ波放電プラズマ殺菌装置においては処理棚
に被殺菌物を置き、所定の圧力まで排気される。
そして真空容器内にはガス導入ポートを介して
Ar、He等の不活性ガスやO2、H2、またはCl2、
フツ素ガス、殺菌ガス等が導入され、所定の圧力
にされる。この状態においてマイクロ波導入装置
を作動させてマイクロ波エネルギを真空容器内に
投入し、プラズマを発生させることにより所要の
殺菌処理が行なわれる。
イクロ波放電プラズマ殺菌装置においては処理棚
に被殺菌物を置き、所定の圧力まで排気される。
そして真空容器内にはガス導入ポートを介して
Ar、He等の不活性ガスやO2、H2、またはCl2、
フツ素ガス、殺菌ガス等が導入され、所定の圧力
にされる。この状態においてマイクロ波導入装置
を作動させてマイクロ波エネルギを真空容器内に
投入し、プラズマを発生させることにより所要の
殺菌処理が行なわれる。
またコイルや永久磁石を設けた真空容器内に磁
場を発生させるようにしているので磁場作用によ
つて電子の空間滞在時間がのび、ガス分子と衝突
する回数が増し、プラズマ密度が増加し、殺菌効
率を上げることができる。
場を発生させるようにしているので磁場作用によ
つて電子の空間滞在時間がのび、ガス分子と衝突
する回数が増し、プラズマ密度が増加し、殺菌効
率を上げることができる。
実施例
以上添附図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。
て説明する。
第１図には本発明によるマイクロ波放電プラズ
マ殺菌装置の一実施例を示し、１は真空容器で、
図示してない真空ポンプに連結される排気ポート
２、適当なガス供給源に連結されるガス導入ポー
ト３および被殺菌物を入れたり出したりするため
の扉４を備えている。真空容器１内には被殺菌物
をのせるための処理棚５が配置されている。また
真空容器１の壁の一部には図示したように石英ガ
ラス、セラミツク等の誘電体から成る窓６が設け
られ、この窓６の外側にはマイクロ波導入装置を
構成しているマイクロ波導波管７が取付けられて
いる。このマイクロ波導波管７を介して真空容器
１内に導入されるマイクロ波エネルギのレベルは
運転条件に応じて適当に設定され得る。
マ殺菌装置の一実施例を示し、１は真空容器で、
図示してない真空ポンプに連結される排気ポート
２、適当なガス供給源に連結されるガス導入ポー
ト３および被殺菌物を入れたり出したりするため
の扉４を備えている。真空容器１内には被殺菌物
をのせるための処理棚５が配置されている。また
真空容器１の壁の一部には図示したように石英ガ
ラス、セラミツク等の誘電体から成る窓６が設け
られ、この窓６の外側にはマイクロ波導入装置を
構成しているマイクロ波導波管７が取付けられて
いる。このマイクロ波導波管７を介して真空容器
１内に導入されるマイクロ波エネルギのレベルは
運転条件に応じて適当に設定され得る。
また真空容器１内には磁気を発生させるため永
久磁石８が設けられている。
久磁石８が設けられている。
第２図には別の実施例を示し、９は真空容器
で、第１図の実施例の場合と同様にガス導入ポー
ト１０、排気ポート１１および扉１２を備えてお
り、内部には被殺菌物の置かれる処理棚１３が配
置されている。１４は真空容器１の壁に設けられ
た誘電体材料から成る窓でその外側にはマイクロ
波導波管１４が取付けられており、また真空容器
９の外側には磁気コイル１５が設けられている。
なおこの場合磁気コイル１５の代りに永久磁石を
用いることもできる。
で、第１図の実施例の場合と同様にガス導入ポー
ト１０、排気ポート１１および扉１２を備えてお
り、内部には被殺菌物の置かれる処理棚１３が配
置されている。１４は真空容器１の壁に設けられ
た誘電体材料から成る窓でその外側にはマイクロ
波導波管１４が取付けられており、また真空容器
９の外側には磁気コイル１５が設けられている。
なおこの場合磁気コイル１５の代りに永久磁石を
用いることもできる。
第３図にはマイクロ波エネルギを真空容器内へ
導入する方法の別の例を示す。第３図において真
空容器１６の壁に開口部１７が設けられ、この開
口部１７にはコネクタ１８が取付られ、コネクタ
１８から真空容器１６内にはアンテナ１９がのび
ており、そしてコネクタ１８は同軸ケーブル２０
を介してマイクロ波電源（図示されてない）に接
続される。
導入する方法の別の例を示す。第３図において真
空容器１６の壁に開口部１７が設けられ、この開
口部１７にはコネクタ１８が取付られ、コネクタ
１８から真空容器１６内にはアンテナ１９がのび
ており、そしてコネクタ１８は同軸ケーブル２０
を介してマイクロ波電源（図示されてない）に接
続される。
このように構成された各図示実施例の装置を使
用して殺菌動作を行なう場合には、まず、真空容
器１，９内に配置された処理棚５，１３に処理す
べき被殺菌物を置き、所定の圧力まで真空ポンプ
を用いて排気する。しかる後、ガス導入ポート
２，１０を介して上述のようなガスを真空容器
１，９内に導入し、第１図の実施例では1.3×101
〜1.3×102pa程度、また第１図および第２図の実
施例では1.3×10-2〜1.3×102pa程度の圧力にす
る。この状態においてマイクロ波導波管７，１４
または同軸ケーブル２０を介して真空容器１，９
内に所定のマイクロ波エネルギを投入する。これ
により真空容器１，９内にはプラズマが発生さ
れ、処理棚５，１３に置かれた被殺菌物の殺菌処
理が行なわれる。こうして予定の時間後マイクロ
波の投入が止められ、そして大気圧まで戻して被
殺菌物を取り出す。このようにして一連の殺菌処
理動作が行なわれる。
用して殺菌動作を行なう場合には、まず、真空容
器１，９内に配置された処理棚５，１３に処理す
べき被殺菌物を置き、所定の圧力まで真空ポンプ
を用いて排気する。しかる後、ガス導入ポート
２，１０を介して上述のようなガスを真空容器
１，９内に導入し、第１図の実施例では1.3×101
〜1.3×102pa程度、また第１図および第２図の実
施例では1.3×10-2〜1.3×102pa程度の圧力にす
る。この状態においてマイクロ波導波管７，１４
または同軸ケーブル２０を介して真空容器１，９
内に所定のマイクロ波エネルギを投入する。これ
により真空容器１，９内にはプラズマが発生さ
れ、処理棚５，１３に置かれた被殺菌物の殺菌処
理が行なわれる。こうして予定の時間後マイクロ
波の投入が止められ、そして大気圧まで戻して被
殺菌物を取り出す。このようにして一連の殺菌処
理動作が行なわれる。
なお、第１図および第２図に示すように永久磁
石８や磁気コイル１５を用いて真空容器１，９内
に磁場を発生させ、内部に発生したプラズマの状
態を制御することによつてより高い殺菌効率を得
ることができる。
石８や磁気コイル１５を用いて真空容器１，９内
に磁場を発生させ、内部に発生したプラズマの状
態を制御することによつてより高い殺菌効率を得
ることができる。
一例として第１図に示すような構造の装置を用
いてO2プラズマを0.04×102Paの圧力のもとで発
生させ（この時のマイクロ波入力は200W）、試料
として枯草菌芽胞106個をスライドガラスに塗布
したものを用いて殺菌処理をしたところ、３分間
の処理で完全に殺菌させることができた。同一試
料を従来の蒸気殺菌法で殺菌処理した場合には20
分、また従来の放電殺菌法では５分かかつた。こ
のことから、本発明による装置は低温でしかも短
時間で清浄な滅菌が可能であることが認められ
る。
いてO2プラズマを0.04×102Paの圧力のもとで発
生させ（この時のマイクロ波入力は200W）、試料
として枯草菌芽胞106個をスライドガラスに塗布
したものを用いて殺菌処理をしたところ、３分間
の処理で完全に殺菌させることができた。同一試
料を従来の蒸気殺菌法で殺菌処理した場合には20
分、また従来の放電殺菌法では５分かかつた。こ
のことから、本発明による装置は低温でしかも短
時間で清浄な滅菌が可能であることが認められ
る。
効 果
以上説明してきたように本発明においては電極
を用いずにマイクロ波エネルギの投入によつてプ
ラズマを発生させ、それにより殺菌処理を行なう
ように構成しているので従来の加熱殺菌法、ガス
殺菌法、紫外線殺菌法および放電殺菌法等におけ
る欠点を解消して低温、短時間で汚染のないきれ
いな殺菌を効率よく行なうことができる。
を用いずにマイクロ波エネルギの投入によつてプ
ラズマを発生させ、それにより殺菌処理を行なう
ように構成しているので従来の加熱殺菌法、ガス
殺菌法、紫外線殺菌法および放電殺菌法等におけ
る欠点を解消して低温、短時間で汚染のないきれ
いな殺菌を効率よく行なうことができる。
第１図は本発明の一実施例を示す概略断面図、
第２図は別の実施例を示す概略断面図、第３図は
マイクロ波導入手段の一例を示す図である。 図中、１，９：真空容器、２，１０：ガス導入
ポート、３，１４：排気ポート、５，１３：処理
棚、７，１４，１８，１９，２０：マイクロ波導
入装置、８，１５：磁気装置。
第２図は別の実施例を示す概略断面図、第３図は
マイクロ波導入手段の一例を示す図である。 図中、１，９：真空容器、２，１０：ガス導入
ポート、３，１４：排気ポート、５，１３：処理
棚、７，１４，１８，１９，２０：マイクロ波導
入装置、８，１５：磁気装置。
Claims (1)
- １ 排気系に連結される排気ポートとガス導入ポ
ートとを備えた真空容器内に被殺菌物の処理棚を
配置し、また真空容器にマイクロ波導入装置を取
付け、真空容器内へマイクロ波を導入して内部に
プラズマを発生させ、さらに真空容器内にプラズ
マ状態を制御する磁場を発生させる磁気装置を設
けたことを特徴とするマイクロ波放電プラズマ殺
菌装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13090084A JPS6111049A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | マイクロ波放電プラズマ殺菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13090084A JPS6111049A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | マイクロ波放電プラズマ殺菌装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6111049A JPS6111049A (ja) | 1986-01-18 |
| JPH0237183B2 true JPH0237183B2 (ja) | 1990-08-22 |
Family
ID=15045342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13090084A Granted JPS6111049A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | マイクロ波放電プラズマ殺菌装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6111049A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4716457B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2011-07-06 | 独立行政法人科学技術振興機構 | マイクロ波プラズマ滅菌装置およびそれを用いた滅菌方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3851436A (en) * | 1971-12-13 | 1974-12-03 | Boeing Co | Sterilizing and packaging process utilizing gas plasma |
| US4042325A (en) * | 1976-06-21 | 1977-08-16 | Eli Lilly And Company | Method of killing microorganisms in the inside of a container utilizing a plasma initiated by a focused laser beam and sustained by an electromagnetic field |
| JPS609453B2 (ja) * | 1980-01-11 | 1985-03-11 | バイオフイジクス・リサ−チ・アンド・コンサルテイング・コ−ポレ−シヨン | シ−ド添加した気体プラズマによる滅菌法 |
| JPS56148354A (en) * | 1980-04-18 | 1981-11-17 | Tokyo Shibaura Electric Co | Sterilizing treating device |
-
1984
- 1984-06-27 JP JP13090084A patent/JPS6111049A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6111049A (ja) | 1986-01-18 |
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