JPH0237335Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は半導体ウエハの製造工程で使用され
る純水洗浄槽への純水供給弁における滞留防止機
構付純水供給エアー弁に関するものである。

（従来の技術） 最近の半導体技術の発展には超純水製造技術が
大きく貢献してきた。現在の超純水に対する純度
の要求は非常に高いものであつて次の項目即ち(1)
電気伝導率、(2)微粒子数、(3)生菌数、(4)有機物
（TOC）、(5)その他、によつて管理されている。
このように半導体製造に使用する超純水は高度の
水質を得るために多大な努力が計られている。

以上のようにして作られた超純水は工場内の供
給管を通りユースポイント部を経て、再び純水製
造装置へと環流する。この環流径路内では、上記
(1)〜(5)項目を常に管理してユースポイント部にお
ける被洗浄物である半導体ウエハの洗浄効果が悪
化しないようにしている。更にこのユースポイン
ト部においては、先に出願人において提案した実
願昭59−125348号による純水供給機構を実施する
ことで、よりグレードの高い超純水を供給するよ
うにしている。

第２図は、このユースポイント部における半導
体ウエハの自動洗浄装置における純水洗浄槽への
純水を供給する供給機構部の断面概略図である。
図において１は自動洗浄装置本体であり、２は純
水洗浄槽で、例えばH₂SO₄＋H₂O₂処理を終了し
た後、この純水洗浄槽２に搬送され、所定シーケ
ンスに基づき、純水による洗浄を行ない薬液を除
去するものであり、純水供給口及び排水弁、N₂
バブリング等を具備している。３は２次側純水供
給管、４は純水供給用３方向エアー弁で、通常
COM（Common）ポートからNC（Normary
Open）ポート側へ純水が流れる環流機構となつ
ているものであり、純水洗浄槽２へ供給する時に
COMポートからNC（Normary Close）ポート側
へと切換わるようになつている。５は１次側純水
供給本管で３方向エアー弁４のCOMポートに分
岐されて接続されている。６は純水環流本管で３
方向エアー弁４のNOポート側に分岐されて、１
次側純水供給本管５から３方向エアー弁４へ、こ
のエアー弁４から純水環流本管６へと通常環流し
ているものである。７は排水本管で、廃液処理場
へと連結している。８は排水ダクトであり、角又
は丸パイプ等で通常２〜３箇所排気口がある。９
は各液槽等へウエハキヤリアを把持して搬送する
走行ホイストであり、１〜３台設置されている。
１０は送風フアンが収納されており、HEPAフ
イルタ１１を通して洗浄部へクラス100の洗浄度
エアーを供給するよう構成されている。なお、図
では純水供給管５、純水環流本管６が装置下部に
設置されているが、本来装置の純水洗浄槽２より
上にあるのが望ましいが、水漏れ、破損による他
装置への影響による安全性、又各装置間の間仕切
部のシール及び搬送システムによるレイアウトの
問題及び各装置形態におけるメンテナンスに影響
が多く、下部床下に設置されているものであり、
自動洗浄装置においても純水供給弁４をとりまく
環流機構配管を設置する場所が装置内下部しかス
ペースがなくこの位置に設置されているものであ
る。

（考案が解決しようとする問題点） しかしながら上記構成のユースポイント部にお
ける純水洗浄槽２へ純水を供給する機構におい
て、装置トラブル等によつて純水洗浄槽２を長時
間使用しない場合には、純水供給用弁（３方向エ
アー弁）４と純水洗浄槽２との間における配管パ
イプ（純水供給管）３内で純水が滞留してしまう
という問題点があつた。

この考案は、前記従来技術が持つていた純水が
滞留することによつて生じるバクテリア等の微生
物が増殖することを防ぎ、常にグレードの高い超
純水を被洗浄物に供給する滞留防止機構付純水供
給エアー弁を提供するものである。

（問題点を解決するための手段） この考案は、前記問題点を解決するために半導
体製造工程における純水洗浄槽へ純水を供給する
機構において、従来の純水供給３方向エアー弁
（特願昭59−171595号参照）では、通常純水供給
本管からCOMポートに接続された純水はNOポ
ート側から純水環流本管へとリサイクルしている
が、この考案の３方向エアー弁では装置トラブル
等で長時間装置を停止する場合に、純水洗浄槽側
に接続しているNCポート方向へも微量の純水を
供給し、この間の供給管内における純水の滞留を
なくすもので、COMポートからNOポート側へ
と常時流れているエアー弁内管に微径路をNCポ
ート側へ開口して、外部から調整可能なニードル
弁を設け制御するようにしたものである。

（作用） このように供給エアー弁を作動させることな
く、NCポート側へ微量の純水を供給できるよう
にしたので、装置の故障等で長時間停止した場合
でも、純水洗浄槽に常に微量の純水が流れ、純水
洗浄槽をオーバーフローさせるので純水の滞留が
防止できる。したがつて、前記問題点を除去する
ことができる。

（実施例） 第１図は、この考案の一実施例を示す滞留防止
機構付純水供給エアー弁を示しａはその一部断面
図、ｂはその一部切欠側面図である。このエアー
弁は特願昭59−171595号明細書にも示すように作
動用エアー供給口１１，１２を有し、１１は通常
状態、１２は作動時の供給口で、動作シリンダピ
ストン１３によつて弁座１４ａはNCポート１８
側を遮断することによりCOMポート１６側から
供給された純水は、NOポート１７側に常時流れ
ているものである。

次に、作動時供給口１１から供給口１２へエア
ーが切換つて供給されるとピストン１３が上昇
し、これに連結された弁座１４ｂがNOポート１
７側を遮断し、COMポート１６側からNCポート
１８側に純水の流れが替わるものである。

この考案にでは、上記エアー弁に、図に示すよ
うに通常COM→NO状態で、NCポート１８側に
通ずる径路２０を設け、その径路２０を通る純水
の制御のため、外部より調整できるニードル弁１
９を設けたものである。なお、２１は弁座であ
る。この微量純水は本流のオリフイスに対し、０
〜30％制御が可能である。また、ニードル弁１９
の制御は本体部にねじ切りを施こし、シールした
ねじ回し式で径路２０の流量を可変するようにな
つている。

（考案の効果） 以上詳細に説明したように、本考案によれば供
給エアー弁を作動させることなく、NCポート側
へ微量の純水を供給できるようにしたので、装置
の故障等で長時間停止した場合、この供給エアー
弁と純水洗浄槽間の供給径路に純水の滞留するこ
とが防止できる。また自動洗浄装置の純水洗浄槽
に常に微量の純水を流すことによつて、純水洗浄
槽をオーバーフローさせて、洗浄効果を高めるこ
ともできる。更に、他の常時純水をオーバーフロ
ーさせている処理工程においては、給水機能と、
この機能によつて節水用としても効果のある使用
が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案滞留防止機構付純水供給エアー
弁の一実施例を示しａはその一部断面正面図、ｂ
は一部切欠側面図、第２図は純水供給機構部の断
面概略図である。 １……自動洗浄装置本体、２……純水洗浄槽、
３……２次側純水供給管、４……３方向エアー
弁、５……１次側純水供給本管、６……純水環流
本管、７……排水本管、８……排水ダクト、９…
…走行ホイスト、１０……送風フアン。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 滞留防止のための環流系を持つた純水供給ライ
   ンで純水供給本管と接続するコモンポートと、純
   水環流本管と接続するノーマルオープンポート
   と、純水洗浄槽と接続するノーマルクローズポー
   トを持つた純水供給３方向エアー弁において、 (a) コモンポートにつながつた管路からノーマル
   クローズポート管路に通ずる微細な径路と、 (b) この径路を流れる流量を外部から制御できる
   ようにしたニードル弁とを有することを特徴と
   する滞留防止機構付純水供給エアー弁。