JPH0238441Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は半導体基板や、フオトマスク用ガラス
基板等の現像処理工程において用いられる基板の
現像処理装置に関するものであり、殊に、基板を
略水平に保持して回転させた状態、または一時的
に回転を止めて静止した状態で、その基板の上方
でノズルを掃引させながら、その基板の上面に現
像液を供給するようにした現像処理装置に関する
ものである。

〈従来技術〉 この種の現像処理装置としては、例えば、第５
図に示すものが本出願人により商品化され市場に
提供されている。

それは、基板１０１を略水平に保持し回転する
スピンチヤツク１０２と、基板１０１を静止保持
した状態で、その上面に現像液を供給するノズル
１１０と、現像液の供給に際しノズル１１０を基
板１０１の上方で矢印Ｂ方向に掃引する手段（図
示せず）と、基板１０１を囲うようにして設けら
れ、現像液やリンス液等の処理液飛沫の飛散を防
止する飛散防止カツプ１２０とを備えて成り、ノ
ズル１１０は飛散防止カツプ１２０の側壁開口１
２１より出退するように構成されている。

〈考案が解決しようとする問題点〉 しかるに、上記従来例のものは、ノズル１１０
を掃引して現像液を基板１０１上面に供給する際
に、ノズル１１０から出た現液の一部が直接飛散
防止カツプ１２０の内壁に当りその飛沫が跳ね返
り、基板１０１に付着して現像ムラを生じる。ま
た、現像の後でスピンチヤツク１０２を回転さ
せ、基板上の現像液を飛散除去するとともに、リ
ンス液を供給して現像の進行を停止させるのであ
るが、このときに側壁開口１２１より現像液やリ
ンス液の処理液飛沫が飛び出すという難点があつ
た。

〈問題点を解決するための手段〉 本考案は上記問題点を解決するため、前記従来
例の現像処理装置を次のように改良したものであ
る。

即ち、飛散防止カツプは少なくともいずれか一
方が昇降手段を有し上下に分離可能に設けた上カ
ツプと下カツプとを備え、基板に現像液を供給す
るに際し上カツプと下カツプとが分離した状態で
上カツプは所定の高さに位置し、下カツプはその
上端がスピンチヤツクの基板保持面より下方に位
置するように構成し、上カツプと下カツプとの離
間高さ内にノズルを掃引可能に設けたことを特徴
とするものである。

〈作用〉 現像液を基板の上面に供給するに先立つて、飛
散防止カツプの上カツプと下カツプとを昇降手段
と介して上下に分割離間する。次いで、上カツプ
と下カツプとの離間高さ内に設けられたノズルを
掃引させながら基板上に現像液を供給する。

このとき、下カツプはその上端がスピンチヤツ
クの基板保持面より下方に位置しているので、現
像液が下カツプの上端面で跳ね返されることはな
い。

次いで、上カツプと下カツプとを再び昇降手段
を介して合体させてから、スピンチヤツクを回転
させ、基板上の現像液を飛散除去するとともに、
リンス液を供給して現像の進行を停止させる。こ
れにより、処理液の飛沫が飛散防止カツプの外へ
飛散するおそれもない。

〈実施例〉 以下、本考案に係る現像処理装置の実施例を図
面に基づいて説明する。

第１図は現像処理装置の平面図、第２図は現像
液供給ノズルの要部拡大図、第３図は第１図の
−線矢視縦断面図である。

この現像処理装置は基板１を略水平に吸着保持
し回転するスピンチヤツク２と、基板１を静止保
持した状態でその上面に現像液を供給するノズル
１０と、現像液の供給に際してノズル１０を基板
１の上方で掃引駆動するノズル掃引手段１６と、
基板１を囲うようにして設けられ、処理液飛沫の
飛散を防止する飛散防止カツプ２０とを備えて成
る。

スピンチヤツク２は、第３図に示すようにその
回転軸３を介して回転可能に枢支され、昇降手段
５によつて昇降可能に支持されている。即ち、符
号４はスピンチヤツク２の回転軸３を回転駆動す
るモータ、６は昇降用ガイドレール、７は支持枠
８に固設され昇降用ガイドレール６に沿つて上下
する案内部材であり、スピンチヤツク２が基板１
を受け渡しする移載位置と基板１に処理液を供給
する処理位置とに昇降切換可能に構成されてい
る。

現像液供給ノズル１０は、純水を供給するパイ
プ１１と現像液を供給するパイプ１２を備え、両
液のうちのいずれか一方を選択して単一の吐出ノ
ズル１３より供給することができるようにしてあ
る。そして、このノズル１０は支持腕１４に固定
され、支軸１５を介して水平揺動可能に支持さ
れ、ノズル掃引手段である駆動モータ１６′によ
つて矢印Ａ方向へ掃引されながら基板１の上面に
現像液を供給するようになつている。

なお、第１図において符号１７はN₂ガス噴射
ノズル、１８Ａはプリウエツト液供給ノズル、１
８Ｂはリンス液供給ノズルである。

飛散防止カツプ２０は処理液を回収するための
受け皿１９ａを一体形成した矩形状の外側カツプ
１９内に設けられ、上下に分離可能な上カツプ２
１と下カツプ２２とから成る。

上カツプ２１と下カツプ２２はそれぞれ昇降手
段であるエアシリンダ２３ａ，２３ｂによつて
別々に昇降可能に支持されており、基板１に現像
液等を供給するに際し、上カツプ２１と下カツプ
２２とを分離した状態で支持し、この分離した状
態では上カツプ２１は所定の高さに位置し、下カ
ツプ２２はその上端がスピンチヤツク２の基板保
持面よりも下方に位置するように構成されてい
る。即ち、上カツプ２１はその上端部を固定金具
２５ａに固設し、固定金具２５ａを支持腕２６ａ
で支持し、支持腕２６ａを支柱２７ａの上端に固
定し、支柱２７ａを昇降ガイド部材２８ａを介し
てエアシリンダ２３ａの出力ロツド２９ａに連結
し所要の高さに位置決めすることができるように
なつている。なお符号２４ａは昇降ガイド部材２
８ａのガイドレールである。下カツプ２２にいつ
ても上カツプ２１と同様に部材２３ｂ〜２９ｂに
より昇降可能に支持されている。

前記現像液供給ノズル１０は上カツプ２１と下
カツプ２２との離間高さ内に位置するように設け
られており、両カツプ２１，２２を分離した状態
で駆動モータ１６を正転させることにより、基板
１上でノズル１０を掃引駆動するとともに、吐出
ノズル１３より現像液を供給するようになつてい
る。また、吐出ノズル１３は第２図に示すように
傾め下方に処理液を吐出するように構成されてお
り、第１図に示すように平面視では扇形に処理液
を吐出する構造になつている。

なお図中、符号３０は基板１をスピンチヤツク
２へ受け渡しるための移載手段である。

以下、上記現像処理装置の動作について第４図
を参照しながら説明する。

第４図イはスピンチヤツク２を上昇させて基板
１を受け渡しする状態を示している。基板１を受
け取つたスピンチヤツク２は仮想線で示す位置ま
で下降する。

同図ロは上カツプ２１だけが所定高さまで上昇
した状態を示し、下カツプ２２はその上端がスピ
ンチヤツク２の基板保持面よりも下方に位置して
いる。この状態において、先ず第１図のN₂ガス
ノズル１７よりN₂ガスを吹きつけ、基板１に付
着しているダストと吹き飛ばす。次いでプリウエ
ツト液供給ノズル１８Ａより、現像液の希釈液を
基板１の上面に供給する。その後、前記現像液供
給ノズル１０を水平揺動させながら現像液を基板
１上に供給する。所要の現像時間が経過した後、
純水を基板上に供給して現像液を大まかに洗い流
し、同時に吐出ノズル１３内の現像液も洗に流
す。

同図ハは前記ロの状態から下カツプ２２を上昇
させることにより、下カツプ２２の傾斜面２２ａ
がスピンチヤツク２の基板保持面の高さの位置と
なるように上カツプ２１と下カツプ２２とが合体
した状態を示している。この状態においてスピン
チヤツク２を回転させながら、前記リンス液供給
ノズル１８Ｂよりリンス液（純水）を基板１上に
供給して現像液をすつかり洗い出す。基板１の回
転によつて飛散したリンス液の飛沫は下カツプ２
の傾斜面２２ａに当つて下方の受け皿１９ａに回
収され、ドレン（図示せず）より排出される。こ
のとき飛散防止カツプ２０内は図外の強制排気手
段を接続した排気ダクト１９ｂより負圧排気さ
れ、飛沫が外部へ飛散しないようになつている。
基板１の洗浄が終了した後もハの状態のもとでカ
ツプ２０内を排気し、基板１を高速回転させ、そ
の遠心力にて残存リンス液を飛散させることによ
り基板１を乾燥する。

同図ニは上カツプ２１と下カツプ２２とが合体
したまま運転終了位置に下降した状態を示してい
る。上記イ〜ニの状態における一連の動作を繰り
返えすことにより、次々と基板の現像処理がなさ
れる。

なお、上記実施例においては上カツプと下カツ
プの両者とも昇降手段を有するものについて説明
したが、少なくともいずれか一方が昇降手段を有
するものであれば実施可能である。

また、上記実施例では、基板への現像液の供給
および基板の現像を静止させた状態（いわゆる静
止現像）で行うよう説明したがこれに限定される
ものでなく基板を低速回転させた状態で現像液を
供給したり現像するようにしてもよい。

〈考案の効果〉 以上の説明によつて明らかなように、本考案に
係る基板の現像処理装置においては飛散防止カツ
プを上下に分離可能に設け、上カツプと下カツプ
との離間高さ内にノズルを掃引可能に設け、両カ
ツプを上下に分離した状態で現像液を基板に供給
するようにしたことから、従来例のようにノズル
掃引時に現像液の飛沫が跳ね返り基板に付着して
現像ムラを生じるのをなくし、また上カツプと下
カツプとを合体させた後にリンス処理を行うこと
ができるので処理液飛沫がカツプ外に飛散するこ
とをなくすこともできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る現像処理装置の平面図、
第２図は現像液供給ノズルの要部拡大図、第３図
は第１図の−線矢視縦断面図、第４は動作態
様を示す説明図、第５図は従来例に係る現像処理
装置の斜視図である。 １……基板、２……スピンチヤツク、１０……
現像液供給ノズル、１６……ノズル掃引手段、２
０……飛散防止カツプ、２１……上カツプ、２２
……下カツプ、２３ａ，２３ｂ……カツプ昇降手
段。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 基板を略水平に保持し回転するスピンチヤツク
   と、基板の上面に現像液を供給するノズルと、現
   像液の供給に際してノズルを基板の上方で掃引す
   るノズル掃引手段と、基板を囲うようにして設け
   られ処理液飛沫の飛散を防止する飛散防止カツプ
   とを備えて成る基板の現像処理装置において、 飛散防止カツプは少なくともいずれか一方が昇
   降手段を有し上下に分離可能に設けた上カツプと
   下カツプとを備え、基板に現像液を供給するに際
   し上カツプと下カツプとが分離した状態で上カツ
   プは所定の高さに位置し、下カツプはその上端が
   スピンチヤツクの基板保持面より下方に位置する
   ように構成し、上カツプと下カツプとの離間高さ
   内にノズルを掃引可能に設けたことを特徴とする
   基板の現像処理装置。