JPH024032B2 - - Google Patents

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JPH024032B2
JPH024032B2 JP57222381A JP22238182A JPH024032B2 JP H024032 B2 JPH024032 B2 JP H024032B2 JP 57222381 A JP57222381 A JP 57222381A JP 22238182 A JP22238182 A JP 22238182A JP H024032 B2 JPH024032 B2 JP H024032B2
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JP
Japan
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pattern
points
degree
circuit
point
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57222381A
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Japanese (ja)
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JPS59111577A (en
Inventor
Kazumasa Okumura
Haruhiko Yokoyama
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPS59111577A publication Critical patent/JPS59111577A/en
Publication of JPH024032B2 publication Critical patent/JPH024032B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06VIMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V10/00Arrangements for image or video recognition or understanding
    • G06V10/40Extraction of image or video features
    • G06V10/44Local feature extraction by analysis of parts of the pattern, e.g. by detecting edges, contours, loops, corners, strokes or intersections; Connectivity analysis, e.g. of connected components
    • G06V10/443Local feature extraction by analysis of parts of the pattern, e.g. by detecting edges, contours, loops, corners, strokes or intersections; Connectivity analysis, e.g. of connected components by matching or filtering

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、2次元的なパターンの位置を無接触
で認識するパターン認識方法に関するのである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a pattern recognition method for recognizing the position of a two-dimensional pattern without contact.

従来例の構成とその問題点 近年、無接触で対象物の位置を検出するために
パターン認識の産業界における要求は増々高まり
一部は半導体組立工程等に利用されている。以
下、図面を参照しながら、上述したような従来の
パターンマツチングによる位置認識について説明
を行なう。
Conventional Structures and Their Problems In recent years, the demand for pattern recognition in industry to detect the position of objects without contact has been increasing, and some patterns are being used in semiconductor assembly processes and the like. Hereinafter, position recognition by conventional pattern matching as described above will be explained with reference to the drawings.

第1図は従来のパターンマツチングによる位置
認識方法の構成を示すブロツク図である。第1図
において、1は撮像装置、2は撮像装置1を駆動
するための同期信号発生回路、3は走査ビームの
位置を得るための座標発生回路、4は撮像装置1
からの映像信号を2値化する回路からなる前処理
回路、5はシフトレジスタからなる一時記憶提
供、6は一時記憶回路5に記憶されたパターンの
うち一致度検出に用いるパターンを並列的に切り
出すための2次元パターン切出し回路、7はあら
かじめ登録されているパターンを一致度検出がで
きる形で記憶される標準パターン記憶回路、8は
2次元パターン切出し回路6で切り出されるパタ
ーンと標準パターン記憶回路7に記憶されている
パターンとを比較し、一致の度合を検出する一致
度検出回路、9は一致度を記憶する一致度記憶回
路、10は一致度の比較を行なう比較回路、11
は一致度検出回路8より出力された一致度を一致
度記憶回路9へ伝えるゲート回路、12は座標発
生回路3より出力された座標を座標記憶回路へ伝
えるゲート回路、13は走査ビームの座標を記憶
する座標記憶回路である。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a conventional position recognition method using pattern matching. In FIG. 1, 1 is an imaging device, 2 is a synchronization signal generation circuit for driving the imaging device 1, 3 is a coordinate generation circuit for obtaining the position of the scanning beam, and 4 is the imaging device 1
5 is a temporary storage provision circuit consisting of a shift register; 6 is a pre-processing circuit consisting of a circuit for binarizing the video signal from 5; 6 is a parallel cutout of patterns used for matching degree detection from among the patterns stored in the temporary storage circuit 5; 7 is a standard pattern storage circuit that stores pre-registered patterns in a form that allows for the degree of matching to be detected; 8 is a standard pattern storage circuit 7 that stores the patterns cut out by the 2D pattern extraction circuit 6; 9, a coincidence degree storage circuit that stores the degree of coincidence; 10, a comparison circuit that compares the degree of coincidence; 11;
12 is a gate circuit that transmits the degree of coincidence output from the degree of coincidence detection circuit 8 to the degree of coincidence memory circuit 9; 12 is a gate circuit that conveys the coordinates output from the coordinate generation circuit 3 to the coordinate memory circuit; 13 is a gate circuit that transmits the coordinates of the scanning beam; This is a coordinate storage circuit that stores coordinates.

以上のように構成されたパターンマツチングに
よる位置認識方法について、以下その動作につい
て説明する。まず半導体チツプ等の対象物は、撮
像装置1により映像信号に変換される。この時の
走査ビームは同期信号発生回路2が発生した同期
信号に同期しておりその座標は座標発生回路3よ
り常時得られる。次に映像信号は前処理回路4で
論理回路が扱いやすい2値化信号に変換されシフ
トレジスタからなる一時記憶回路5へ入力され
る。この中から次に2次元パターン切出し回路6
によつて、映像情報が縦横にある大きさ(例えば
16×16画素)をもつた四角形のパターン情報とし
て順次読み出される。一致度検出回路8では、2
次元パターン切出し回路6で切り出されたパター
ンと座標パターン記憶回路7に記憶されている標
準パターンとを比較し一致の度合いを検出する。
検出された一致度は一致度記憶回9に過去におい
て記憶されている一致度と比較回路10で比較
し、検出した一致度の方が大きい時にゲート回路
11を開いて一致度記憶回路9の内容を更新す
る。この比較回路10の出力は、さらにゲート回
路12にも送られ、その時の走査ビームの座標値
を座標記憶回路13へ導き、過去に記憶された座
標値を更新する。
The operation of the position recognition method using pattern matching configured as described above will be explained below. First, an object such as a semiconductor chip is converted into a video signal by the imaging device 1. The scanning beam at this time is synchronized with the synchronization signal generated by the synchronization signal generation circuit 2, and its coordinates are always obtained from the coordinate generation circuit 3. Next, the video signal is converted by a preprocessing circuit 4 into a binary signal that is easy to handle by a logic circuit, and is input to a temporary storage circuit 5 consisting of a shift register. From this, the next two-dimensional pattern cutting circuit 6
Depending on the horizontal and vertical size of the video information (e.g.
(16 x 16 pixels) is sequentially read out as rectangular pattern information. In the coincidence detection circuit 8, 2
The pattern cut out by the dimensional pattern cutout circuit 6 and the standard pattern stored in the coordinate pattern storage circuit 7 are compared to detect the degree of coincidence.
The detected degree of coincidence is compared with the degree of coincidence stored in the past in the degree of coincidence storage circuit 9 in the comparison circuit 10, and when the detected degree of coincidence is greater, the gate circuit 11 is opened and the contents of the degree of coincidence memory circuit 9 are compared. Update. The output of the comparison circuit 10 is further sent to the gate circuit 12, and the coordinate values of the scanning beam at that time are guided to the coordinate storage circuit 13, thereby updating the previously stored coordinate values.

この動作を繰り返し走査の終了するフレームの
最後の時点では、あらかじめ記憶されている標準
パターンに最も合致したパターンが存在した画像
中の座標位置X,Yが、その時の一致度と共に記
憶され保持される。
Repeating this operation, at the end of the frame when scanning ends, the coordinate position X, Y in the image where the pattern that most closely matches the pre-stored standard pattern exists is stored and retained along with the matching degree at that time. .

しかしながら、上記のような構成では最もよく
パターンが合致した座標値しか検出されず、もし
正しく認識されるべきパターンが傷やよごれ等に
より欠陥がある時、他の関係ないパターンの方が
よく合致することがあり、その場合正しく認識さ
れるべきパターンは検出されないという欠点を有
していた。
However, with the above configuration, only the coordinate values that best match the pattern are detected, and if a pattern that should be correctly recognized is defective due to scratches or dirt, other unrelated patterns may match better. In this case, a pattern that should be correctly recognized is not detected.

発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み、正しく認識されるべ
きパターンよりもよく標準パターンと合致するパ
ターンがあつても、正しく認識されるべきパター
ンを認識し信頼性高く位置の検出ができるパター
ン認識方法を提供するものである。
Purpose of the Invention In view of the above-mentioned drawbacks, the present invention provides pattern recognition that recognizes the pattern that should be correctly recognized and can detect the position with high reliability even if there is a pattern that matches the standard pattern better than the pattern that should be correctly recognized. The present invention provides a method.

発明の構成 本発明は2種類以上の標準パターンとその標準
パターン間の相対的位置関係をあらかじめ記憶
し、1標準パターン毎にパターンマツチングによ
り得た一致度が1フレームの画像内で極大となる
座標値を複数個検出し、標準パターン間の可能な
組合せについてその相対的位置関係の検定を行な
い、前記標準パターン間の相対的位置関係に最も
近い組合せ点を求める工程から構成されている。
Structure of the Invention The present invention stores two or more types of standard patterns and the relative positional relationship between the standard patterns in advance, and the degree of matching obtained by pattern matching for each standard pattern is maximized within one frame image. It consists of the steps of detecting a plurality of coordinate values, verifying the relative positional relationship of possible combinations between the standard patterns, and finding the combination point closest to the relative positional relationship between the standard patterns.

実施例の説明 以下本発明の一実施例について、図面を参照し
ながら説明する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第2図は本発明の一実施例におけるパターン認
識方法の構成を示すブロツク図である。第2図に
おいて、20は第1図で示したパターンマツチン
グ回路、21はパターンマツチング20から出力
される一致度を一時的に記憶する一時記憶回路、
22は画面上のある点の周囲8画素分の一致度を
切出す8近傍切出し回路、23a〜23hは8近
傍での一致度と比較する回路、24は比較した結
果を元に極大点がどうか判定する極大点判定回
路、25は極大値の順位を決定する極大値順位決
定回路、26は第1位極大値記憶回路、27は第
2位極大値記憶回路、28はパターンマツチング
回路20より対応される極大点を記憶する第1位
極大点記憶回路、29は第2位極大点記憶回路、
30は切換回路、31a及び31bはどちらも第
1位と第2位の極大点を記憶する極大点記憶回
路、32は合計4点の極大点から2点(1組)の
認識点を決定する認識点決定回路である。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of a pattern recognition method in one embodiment of the present invention. In FIG. 2, 20 is the pattern matching circuit shown in FIG. 1; 21 is a temporary storage circuit that temporarily stores the degree of matching output from the pattern matching 20;
22 is an 8-neighborhood extraction circuit that extracts the degree of coincidence for 8 pixels surrounding a certain point on the screen, 23a to 23h are circuits that compare the degree of coincidence with the 8 neighboring pixels, and 24 is a circuit that determines whether there is a maximum point based on the comparison results. 25 is a local maximum value ranking determination circuit that determines the ranking of local maximum values; 26 is a first local maximum value storage circuit; 27 is a second local maximum value storage circuit; and 28 is from the pattern matching circuit 20. a first local maximum point memory circuit that stores the corresponding local maximum point; 29 is a second local maximum point storage circuit;
30 is a switching circuit; 31a and 31b are both maximum point memory circuits that store the first and second maximum points; 32 is a circuit that determines two recognition points (one set) from a total of four maximum points. This is a recognition point determination circuit.

以上のように構成されたパターン認識方法につ
いて以下その動作について説明する。
The operation of the pattern recognition method configured as described above will be explained below.

対象物を1フレーム走査したときに、パターン
マツチング回路20より出力される一致度が仮に
第3図のように表わされたとする。第3図ではa
点が最も一致度が大きい点であり、b点はa点よ
り1画素ずれた点、c点は正しく認識されるべき
点とする。この状態をさらに第4図にて説明す
る。第4図の1は標準パターンでありこのパター
ンで画面を走査し各々の点における一致度を検出
する。第4図の1は標準パターンであり4は第3
図のc点におけるパターンの例で正しく認識され
るべきパターンであるがイ部分のパターンが欠落
しているために一致度は80/100となりa点〜c
点のうちで最も小さい。第4図の2,3は各々第
3図のa点、b点のパターンの例であり、2は一
致度91/100、3は88/100である。
Assume that when the object is scanned for one frame, the degree of matching output from the pattern matching circuit 20 is expressed as shown in FIG. In Figure 3, a
The point has the highest degree of coincidence, the point b is a point shifted by one pixel from the point a, and the point c is a point that should be correctly recognized. This state will be further explained with reference to FIG. 1 in FIG. 4 is a standard pattern, and the screen is scanned using this pattern to detect the degree of coincidence at each point. 1 in Figure 4 is the standard pattern, and 4 is the third pattern.
In the example of the pattern at point c in the figure, the pattern should be correctly recognized, but because the pattern at part A is missing, the degree of matching is 80/100, which is from point a to c.
The smallest of the points. 2 and 3 in FIG. 4 are examples of the patterns of points a and b in FIG. 3, respectively; 2 has a matching degree of 91/100, and 3 has a matching degree of 88/100.

この例ではc点を検出したいのであるが、一致
度の大きい順に2点の候補点を選ぶとa点、b点
のみ検出されc点は検出されない。c点を2番目
の候補点として検出するには、一致度が極大とな
る座標を検出する必要がある。
In this example, we want to detect point c, but if we select two candidate points in descending order of degree of coincidence, only points a and b will be detected, and point c will not be detected. In order to detect point c as the second candidate point, it is necessary to detect the coordinates at which the degree of matching is maximum.

第2図において、パターンマツチング回路20
より出力される一致度は、シフトレジスタからな
る一時記憶回路21に回路される。
In FIG. 2, a pattern matching circuit 20
The degree of coincidence outputted from the above is sent to a temporary storage circuit 21 consisting of a shift register.

第4図1のロの画素が標準パターンの座標値を
代表するとした場合、ロが第5図のA〜Iで示さ
れる位置を走査した時の各々の一致度を第2図に
示す8近傍切出し回路22にて切出す。第2図の
比較回路23a〜hと極大点判定回路24では、
切出されたE点の一致度とその周囲の点(8近傍
の点)の一致度とを比較し下記の条件がすべて満
足された時、E点の一致度は極大点であると判定
する。
If it is assumed that the pixel B in Figure 4 represents the coordinate values of the standard pattern, then the degree of coincidence of each of the positions indicated by A to I in Figure 5 when B is scanned is the 8 neighborhood shown in Figure 2. It is cut out by the cutting circuit 22. In the comparison circuits 23a to 23h and the local maximum point determination circuit 24 in FIG.
Compare the degree of coincidence of the extracted point E and the degree of coincidence of the surrounding points (8 neighboring points), and when all of the following conditions are satisfied, the degree of coincidence of point E is determined to be the maximum point. .

Eer>Aer 、 Eer>Ber Eer>Cer 、 Eer>Der EerFer 、 EerGer EerHer 、 EerIer 但し、AerはA点における一致度であり以下Ber
〜Ierは各々の点での一致度を表わす。
E er > A er , E er > B er E er > C er , E er > D er E er F er , E er G er E er H er , E er I er , where A er is the degree of agreement at point A and below B er
~ Ier represents the degree of agreement at each point.

F〜I点での一致度とE点での一致度との比較
をした時に等しい一致度であつても極大点と判定
しているので、E点と連続した1点が同じ一致度
であつても極大点を見逃すことなくまた重複して
検出することもなく効果的に極大点判定を行な
う。
When comparing the degree of agreement at points F to I with the degree of agreement at point E, even if the degree of agreement is equal, it is determined to be the maximum point, so if one point consecutive to point E has the same degree of agreement. To effectively determine a maximum point without missing the maximum point or detecting it redundantly.

極大点であることを判定すると、極大値と第1
位極大値記憶回路26に過去に記憶されている極
大値と極大値順位決定回路25で比較し、極大点
と判定した極大値の方が大きい時には第1位極大
値記憶回路26及び第1位極大点記憶回路28の
内容を更新する。また第2位極大値記憶回路27
には第1位極大値記憶回路26に記憶されていた
内容が転送され、第2位極大点記憶回路29には
第1位極大点記憶回路28に記憶されていた内容
が転送される。
If it is determined that it is a local maximum point, the local maximum value and the first
The local maximum value stored in the past in the local maximum value storage circuit 26 is compared with the local maximum value ranking determination circuit 25, and if the local maximum value determined to be the local maximum point is larger, it is ranked as the first local maximum value storage circuit 26 and the first place. The contents of the local maximum point storage circuit 28 are updated. Also, the second local maximum value storage circuit 27
The contents stored in the first local maximum value storage circuit 26 are transferred to the second local maximum point storage circuit 29, and the contents stored in the first local maximum point storage circuit 28 are transferred to the second local maximum point storage circuit 29.

極大と判定した極大値が、第1位極大値記憶回
路26の内容により小さく第2位極大値記憶回路
27の内容より大きい時は、第2位極大値記憶回
路27と第2位極大点記憶回路の内容を更新す
る。
When the local maximum value determined to be local maximum is smaller than the content of the first local maximum value storage circuit 26 and larger than the content of the second local maximum value storage circuit 27, the local maximum value is stored in the second local maximum value storage circuit 27 and the second local maximum point memory. Update the circuit contents.

第1位極大点記憶回路28及び第2位極大点記
憶回路29の内容は切換回路30を経て極大点記
憶回路31aに記憶される。また次に異なる標準
パターンにて極大点を検出した時、極大点記憶回
路31bに記憶される。認識点決定回路32では
合計4点の極大点から2点(1組)の認識点が決
定される。第6図にその例を示す。103aは標
準パターン101に対する第1位極大点、103
bは標準パターン101に対する第2位極大点、
104aは標準パターン102に対する第1位極
大点、104bは標準パターン102に対する第
2位極大点を示す。この場合、まずA〜D→ベクト
ルの距離とE→ベクトルの距離rとの差を各々求め
る。次にA→〜D→ベクトルとx軸とのなす角度とE→
ベクトルとx軸とのなす角度θとの差を求め、距
離の差と角度の差が最小となるA→ベクトルを有す
る103aと104bの極大点が1組の認識点と
して決定される。また、103a座標値と101
の座標値との差及び104bの座標値と102の
座標値との差を演算することにより標準パターン
2点のずれ量が求められる。
The contents of the first maximum point storage circuit 28 and the second maximum point storage circuit 29 are stored in the maximum point storage circuit 31a via the switching circuit 30. Further, the next time a local maximum point is detected in a different standard pattern, it is stored in the local maximum point storage circuit 31b. The recognition point determination circuit 32 determines two recognition points (one set) from a total of four maximum points. An example is shown in FIG. 103a is the first maximum point for the standard pattern 101, 103
b is the second maximum point for the standard pattern 101,
104a indicates the first maximum point for the standard pattern 102, and 104b indicates the second maximum point for the standard pattern 102. In this case, first, the difference between the distances of A to D→vectors and the distance r of E→vectors is determined. Next, A → ~ D → the angle between the vector and the x-axis and E →
The difference between the angle θ between the vector and the x-axis is determined, and the maximum points 103a and 104b having the A→vector where the difference in distance and the difference in angle are minimum are determined as a set of recognition points. Also, 103a coordinate value and 101
By calculating the difference between the coordinate value of 104b and the coordinate value of 102, the amount of deviation between the two points of the standard pattern is determined.

以上のように本実施例によれば、1種類の標準
パターンについて一致度が極大となる座標を2点
検出し、極大点間の距離及び角度の検定を行なう
ことにより正しく認識されるべきパターンより標
準パターンと合致するパターンが存在する場合で
も正しく認識されるべきパターンを効果的に認識
し信頼性の高い位置検出をすることができる。
As described above, according to this embodiment, two coordinates at which the degree of matching is maximum are detected for one type of standard pattern, and the distance and angle between the maximum points are verified. Even if a pattern that matches the pattern exists, the pattern that should be correctly recognized can be effectively recognized and highly reliable position detection can be performed.

発明の効果 以上のように本発明は、1種類の標準パターン
毎にパターンマツチングにより得た一致度が極大
となる座標値を複数個検出し、複数種類の標準パ
ターンから得た極大点間の検定で1組の認識点を
決定することにより、認識されるべきパターンに
よごれや傷等があり他の類似パターンより一致度
が低い場合でも最少種類の標準パターンで効果的
に信頼性高く位置の認識をすることができ、その
実用的効果は大なるものがある。
Effects of the Invention As described above, the present invention detects a plurality of coordinate values at which the matching degree obtained by pattern matching is maximum for each type of standard pattern, and By determining one set of recognition points in the test, even if the pattern to be recognized has dirt or scratches and the degree of matching is lower than other similar patterns, the position can be effectively and reliably determined using the minimum number of standard patterns. It can be recognized, and its practical effects are great.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のパターンマツチングによる位置
認識の構成を示すブロツク図、第2図は本発明の
一実施例におけるブロツク図、第3図は画面走査
に対する一致度の変化の一例を示す図、第4図1
〜4は第3図における一致度の変化をより具体的
に説明するためのパターンの状態を示す図、第5
図は8近傍の点を示す図、第6図は極大点間の検
定の説明図である。 21……一時記憶回路、22……8近傍切出し
回路、22a〜23h……比較回路、24……ピ
ーク判定回路、25……ピーク値順位決定回路、
26……第1位ピーク値記憶回路、27……第2
位ピーク値記憶回路、28……第1位ピーク点記
憶回路、29……第2位ピーク点記憶回路、30
……切換回路、31a……極大点記憶回路、31
b……極大点記憶回路、32……認識点決定回
路。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of position recognition using conventional pattern matching, FIG. 2 is a block diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing an example of changes in the degree of matching with respect to screen scanning. Figure 4 1
~4 is a diagram showing the state of the pattern to more specifically explain the change in the degree of matching in Figure 3;
The figure shows eight neighboring points, and FIG. 6 is an explanatory diagram of the test between local maximum points. 21...Temporary storage circuit, 22...8 neighborhood extraction circuit, 22a to 23h...Comparison circuit, 24...Peak determination circuit, 25...Peak value ranking determination circuit,
26...First peak value storage circuit, 27...Second
1st peak point storage circuit, 29 2nd peak point storage circuit, 30
...Switching circuit, 31a... Maximum point memory circuit, 31
b... Maximum point memory circuit, 32... Recognition point determination circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 撮像装置で対象物を撮像し、パターンマツチ
ングで上記対象物の位置認識を行なう方法におい
て、上記撮像装置から得られる撮像画面上の対象
物の中の複数の部分と略同一のパターンを標準パ
ターンとして記憶すると共に上記標準パターン間
の相対的位置関係を記憶する工程と、上記標準パ
ターンと上記撮像画面上の対象物の部分パターン
とを比較して一致度を検出する工程と、検出され
た多くの上記一致度の中で一致度がその近傍にお
ける一致度より高い値をとる部分パターンの座標
値を極大点として検出する工程と、上記撮像画面
上から複数個所の極大点を極大値の大きい順に所
定数検出して記憶する工程と、1つの標準パター
ンについて得た上記記憶されている複数の極大点
と異種の標準パターンについて得た上記記憶され
ている複数の極大点との組合せ可能な2点間の相
対的位置関係を算出し、上記標準パターン間の相
対的位置関係に最も近い2点間の相対的位置関係
を有する極大点の組合せ点を認識点として決定す
る工程とから成るパターン認識方法。 2 認識点として決定する手段における2点間の
相対位置関係は、2点間の距離又は2点間を結ぶ
直線と基準線とのなす角度もしくは上記距離なら
びに角度の両方により規定することを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載のパターン認識方法。
[Claims] 1. In a method of capturing an image of an object with an imaging device and recognizing the position of the object by pattern matching, a plurality of portions of the object on an imaging screen obtained from the imaging device and storing substantially the same pattern as a standard pattern and storing the relative positional relationship between the standard patterns, and comparing the standard pattern with a partial pattern of the object on the imaging screen to detect the degree of coincidence. a step of detecting, as a local maximum point, the coordinate value of a partial pattern whose degree of agreement is higher than the degree of agreement in its vicinity among the many detected degrees of agreement; a step of detecting and storing a predetermined number of points in descending order of maximum value; and the plurality of stored maximum points obtained for one standard pattern and the plurality of stored maximum points obtained for different standard patterns. calculate the relative positional relationship between two points that can be combined with the standard pattern, and determine the combination point of the maximum points having the relative positional relationship between the two points closest to the relative positional relationship between the standard patterns as the recognition point. A pattern recognition method consisting of a process. 2. The relative positional relationship between two points in the means for determining them as recognition points is defined by the distance between the two points, the angle between the straight line connecting the two points and the reference line, or both the above-mentioned distance and angle. A pattern recognition method according to claim 1.
JP57222381A 1982-12-17 1982-12-17 Pattern recognizing method Granted JPS59111577A (en)

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JP57222381A JPS59111577A (en) 1982-12-17 1982-12-17 Pattern recognizing method

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