JPH0243042A - 多層構造及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は薄い固形膜、特に多層コンデンサを含む薄い多
層膜構造と、これを製造する方法及び装置に係わる。

［発明の背景］ 本発明は同じ出願人に譲渡された下記の特許と関連する
。即ち、１９８５年２月１２日付特許第４．４９９５２
０号“多官能アクリレート・ポリマーから成る誘電体を
含むコンデンサ及びその製法（ｃａｐａｃｉｔ。

ｔ　ＷＨｈ　Ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ　Ｃｏｍｐｒｉｓｉ
ｎｇ　Ｐｏ１７−ＦｕｎｃｔｉｏｎａＡｃｒｙｌａｊｅ
　ＰｏｌｙｍｅｒＡｎｄ　Ｍｅｔｈｏｄ　ｔｈｊ　Ｍａ
ｋｉｎｇ）　”　　；１９８５年１２月２５日付特許第
４．４９０．７７４号“誘電体として多官能アクリレー
ト・ポリマーを含むコンデンサ（ｃａｐａｃｉｔｏｒｓ
　Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　Ｐｏ１７−Ｆａｎｃｔｉｏｎ
ａＡｃ＋ｙｌａｔｃ　Ｐｏｌｙｍｃ＋＋　Ａｓ　Ｄｉｅ
ｌｅｃｔｒｉｃＳ）　”　　；　１９８５年８月６日付
特許第４．５３３．７１０号”コンデンサ誘導体として
有用な１．２−アルカンジオール・ジアクリレート・モ
ノマー及びそのポリマー（１，２Ａｌｋａｎｅｄｉｏｌ
　Ｄｉａｃ＋ｙｌａｔｅ　Ｍｏｎｏｍｃｒ＋　Ａｎｄ　
Ｉ’ｏｉ７ｍｅ＋ｓ　Ｔｈｅｒｅａｔ　Ｕｓｅｆｕｌ　
Ａｓ　Ｃａｐａｃｉｔｏ「Ｄｉｅｌｅｃ＋＋ｉｅ＋　）
″、　１９８５年４月２３日付特許第４．５１３．３４
９号“コンデンサ誘電体として有用なアクリレート含有
混合エテル・モノマー及びそのポリマー（ＡｅＢｌａｔ
ｅ　−Ｃ。

ｎｔａｉｎｉｎｇ　Ｍｉｒｅｄ　ＥｓｔｅｒＭｏｎｏｍ
ｅｒｓ　Ａｎｄ　Ｐｏ１７ｍｅ＋ｓ　Ｔｈｅｒｅａｔ　
Ｕｓｅｆｕｌ　Ａａ　Ｃａｐａｃｉｔｏ「Ｄｉｃｌｅｃ
ｊｒｉｃｓ）　”　　；及び１９８５年５月７日付特許
第４．５１５．９３１号“コンデンサ誘電体として有用
な多官能アクリレート・モノマー及びそのボリア　−（
１”ｏ１７−　Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ　Ａｃｒ７１ａｔ
ｅ　Ｍｏｎｏｍｅ「ｓ　Ａｎｄ　Ｐｏｌｙｍｅ＋＋　Ｔ
ｈｅｒｅａｔ　ＵｓｅＩｕＡｓ　Ｃａｐａｃｉｔｏｒ　
ＤｉｅｌｅｃＨｉｃｓ）”である。

電子システムの小型化に対する要求の増大はマイクロエ
レクトロニクス用薄膜、特に、保護コーティングからコ
ンデンサの形態を取るエネルギー蓄積装置に至る多様の
用途を有する薄膜誘電体の開発を刺戟している。従来、
膜に使用される有機／ポリマー材料はその強度が比較的
高く、力が加わった時に弾性変形して膜構造中に発生す
る応力を最小限に抑制するから、誘電性、光学的、機械
的性質において極めて有望であることが実証されている
。

薄膜誘電体を例えばコンデンサ構造における電荷蓄積装
置として利用する場合、特定のコンデンサ構造とこれを
形成するのに使用される材料の性質とが相俟ってコンデ
ンサの特性及び有用性を決定する。このことはコンデン
サの小型化を望む市場環境において特に重要であり、従
って、新しい誘電システムを開発する際には単位容積当
たりの高キヤパシタンス値が重要なパラメータである。

同様に、薄膜を保護コーティングまたは誘電体として利
用する場合、層間剥離、ピンホール及びボイドがあって
はならない。

所期の物理的、化学的、及び用途によっては電気的また
は光学的性質を有する薄い多層固形膜を得るだけでなく
、用途によっては５．０００層から成る多層膜を商業的
に見合う速度で製造できることが重要である。例えば、
英国特許第１．１６８．６４１号には金属基板にコーテ
ィングを形成する方法が開示されている。しかし、ここ
に開示されている方式は薄膜形成速度が遅過ぎること及
び／または形成される構造が満足できるものではなさそ
うであることから、多くの用途において商業的に実用化
するには問題がある。

本発明の目的は比較的経済的にかつ比較的高い生産速度
で製造できる薄膜多層ポリマー物品を提供することにあ
る。この多層構造は多重誘電層または誘電体及びこれに
挟まれる金属またはその他の無機物質の層を互いに密着
して空気層を残さない一体構造に形成できるという点で
モノリシック構造である。

本発明の他の目的は電荷を蓄積したり、電磁放射線を反
射したり、多層構造のその他の性質を特定用途に活用す
るため、多重誘電層及び／または誘電体及びこれに挟ま
れる金属層を種々の組合わせで利用する多様な用途に有
用な機械的、電気的性質を有する多層構造を提供するこ
とにある。

多層膜の具体的な用途の１つとしてコンデンサ関連の用
途がある。モノリシック・コンデンサは自己支持性の膜
をローリングまたはワインディングしてコンデンサの形
状にするいわゆるメタライズ処理薄膜コンデンサなどと
は異なり、電極層及び誘電層を結合して一体構造とした
コンデンサである。超小型コンデンサは超小型回路に適
した極めて小さいコンデンサである。全体のサイズが小
さいということは殆んど実用価値のない低キャパシタン
スを意味するが、差し挟まれる誘電層の厚さは互いに隣
接する電極間キャパシタンスに対して反比例的に作用し
、電極対の数は正比例的に作用する。従って、基本的な
キャパシタンス理論として、極めて薄い誘電層と多数の
電極対を有するコンデンサはサイズが小さく、電極の有
効面積が極めて狭いにもかかわらず、大きいキャパシタ
ンスを持つことができる。

最近の超小型回路が超小型コンデンサの利用を促してい
るというだけでなく、この種のコンデンサはその用途に
鑑み耐高温性を要求される。電子回路中にあっては、１
２５乃至１５０℃にも達する温度が持続的にコンデンサ
に作用する。さらにまた、最近盛んに採用されるように
なったウェーブ半田付けのような回路製造技術では、半
田の融点を超える温度、即ち、約２６０乃至２９０℃の
温度が５乃至１０秒もの時間に亘ってコンデンサに作用
する。

コンデンサ構造自体を含めたコンデンサに関する新しい
手段を提供すると共に、極めて小型でありながら実用レ
ベルのキャパシタンスを具えたコンデンサを可能にする
前記構造を形成する方法及び装置をも提供することが本
発明の目的である。

使用材料が少なくてすむだけでなく、高速量産できる、
例えば、コンデンサを高速量産できるという意味でもこ
のコンデンサのような多層構造を極めて経済的に製造で
きる上記手段を提供することも本発明の目的である。コ
ンデンサの場合、個々のコンデンサに電気的接続素子ま
たはリード線を容易にかつ経済的に付加することができ
、コンデンサのカプセル封じを容易に行うことができる
ような上記手段を提供することも上記目的に関連する目
的である。

本発明の他の目的はウェーブ半田付けの過程で遭遇する
２６０乃至２９０℃という高温にも耐え得るコンデンサ
を可能にする上記手段を提供することにある。これに付
随する目的はこのようなコンデンサを使用する回路の物
理的サイズをコンパクトにするため回路盤の裏側または
ホイル側への取付けを容易にする上記手段を提供するこ
とにある。

極性に拘束されない、即ち、コンデンサを反転可能にす
る上記手段を提供することも本発明の目的である。これ
に付随して、故障に際してコンデンサが開路する、即ち
、回路全体のショートを招くのではなく、自己回復でき
るようにする上記手段を提供することも本発明の目的で
ある。

ここに開示し、特許を請求する発明は上述した目的を達
成し、公知の多層膜構造及びその製法に伴なう問題点を
解決せんとするものであり、要約すれば、それぞれの厚
さが約４ミクロン以下の、合計１，０００層以上、必要
なら４．０００層以上から成る多層構造の高速形成方法
に係わる。各層はポリアクリレート及びポリアクリレー
トとモノアクリレートの混合物から成る群から選択され
、平均分子量が１５０乃至１１０００、標準温度及び標
準圧力における蒸気圧が１×１０−６乃至ＩＸＩＧ−’
トルの実質的に架橋状態にある成分で形成される。材料
としては、ジアクリレートを使用することが好ましい。

本発明の方法で得られる物品は層間剥離、ピンホール、
及びボイドが殆んどないものである。

本発明の多層物品または構造の製法は回転ドラムのよう
な可動支持体を内蔵する真空チェンバ内で行われ、支持
体表面は蒸着される物質の凝縮を可能にする温度、−船
釣には利用されるモノマー（またはモノマー混合物）に
応じて約−７°乃至約８０℃（２０°乃至１７５　’Ｆ
）に維持される。蒸発器の上記出口を可動支持体の上流
部近傍に設け、硬化手段を可動支持体の下流部近傍に設
ける。圧力が約Ｉ　Ｘ　ＩＱ−’　トル以下、好ましく
はＩＸＩＧ−’トル以下になるまでチェンバを排気する
。

上記群から選択した硬化可能なモノマー成分を加熱され
ている蒸発装置へ配量することによって霧状にし、気化
し、１乃至１．　ＯＱＯｃｍ　／　ｓｅｅの速度で移動
する可動支持体の表面で凝縮させる。好ましくは材料を
フラッシュ蒸発させる。凝縮した膜の厚さは４ミクロン
以下である。可動支持体にモノマーを蒸着したら、電子
ビーム硬化のような適当な手段によって硬化させる。所
要の数の層及び形状が得られるまで蒸着及び硬化段階を
繰返す。

本発明の方法により、それぞれの厚さが４ミクロン以下
の４．０００層以上の多数の層から成る多層物品を形成
することができ、しかも個々の層厚を約０．１乃至４ミ
クロンの範囲内で変化させることができる。完成した構
造はピンホール／ボイドがなく、凝集力が大きいから層
間剥離は殆んど起こらない。多層物品はガラスのように
可撓性にも非可撓性にも形成できる。

ポリマー層の間には金属などのような無機物質の層を挟
むことができる。

本発明の方法に従って製造された多層構造は亀裂や層間
剥離が比較的少ないが、物品中の固有残留応力が低いこ
とに起因すると考えられる。また、この゛構造は含水量
が約１％以下と低く、熱応力耐性が高い。

本発明の方法に従って製造される多層構造の他゛の重要
な性質として、蒸着及び硬化に続いて基板から取外すこ
とができ、自己支持形の物品として使用でき、必要に応
じて固定または接着によって他の面に取付けることもで
きる。

本発明の方法は紙、布、金属薄板や、ポリエステル、ポ
リエーテル、ポリオレフィンなどのようなプラスチック
のほか、殆んどすべての可撓材から成る可撓基板をコー
ティングするのに特に好適である。コーティング生成物
は例えばレーザー反射鏡、電磁（レーダー）吸収コーテ
ィング、窓加工用コーティングまたはパッケージング用
コーティングのような光学フィルターに利用できる。

［実施例］ 本発明のその他の目的及び利点は添付図面に沿った以下
の詳細な説明から明らかになるであろう。

以下の説明では好ましい実施例及び手順に関連して本発
明を考察するが、本発明はこのような実施例または手順
に制限されるものではなく、頭書した特許請求の範囲に
記載されている本発明の思想及び範囲を逸脱しない限り
すべての変更実施態様を包含する。

第１図及び第１ａ図には、リード線１２を接続され、カ
プセル封じされた本体１１を含むコンデンサ１０の形態
を取る本発明の多層構造の一例を示した。切込み１４に
よって別々の部分に分割された導電性基板１３、導電層
１５、及び誘電コーティング１６を示す第１図の断面図
は基板１３のそれぞれの部分にリード線１２を接続し、
コンデンサをカプセル封じする前の状態でコンデンサ１
０を示す。

基板としては厚さ約１．５乃至２ミルの銅シートが好ま
しい。導電層１５は厚さ約２００乃至５００オングスト
ロームの、例えばアルミニウムのような電極材である。

厚さが中央域における約１ミクロンから両側縁における
約０．３ミクロンまでテーパしている誘電コーティング
１６は硬化した、即ち、交差結合した放射線による硬化
可能な樹脂であり、この樹脂は電極材及び基板に接着ま
たは接合することができる。有用な樹脂は多官能アクリ
レート及びその混合物である。

利用されるモノマー材は分子量が１５０乃至１．０００
１好ましくは２００乃至３００と比較的低く、標準温度
及び標準圧力における蒸気圧が約１×１０−６乃至Ｉ　
Ｘ　１０−’　）ル（即ち、沸点が比較的低いモノマー
材）である。約Ｉ　Ｘ　１０−２トルの蒸気圧が好まし
い。多官能アクリレートが特に好ましい。利用されるモ
ノマーは少なくとも２個の二重結合（即ち、複数のオレ
フィン基）を有する。本発明に使用される高蒸気圧モノ
マーは低温で気化させることができるから熱処理で劣化
する（分解する）ことがない。非反応性の劣化生成物が
存在しないということはこれらの低分子量、高蒸気圧モ
ノマーから形成された膜が成分の揮発レベルが低いこと
を意味する。従って、蒸着モノマーの殆んどすべてが反
応性であり、放射線源の作用下に硬化して一体的な膜を
形成する。これらの性質は膜が極めて薄いにもかかわら
ず実質的に連続的なコーティングの形成を可能にする。

硬化した膜はすぐれた接着性を発現し、有機溶媒及び無
機塩による化学的攻撃に耐える。

本発明の方法に使用されるモノマー材は１分子当たり平
均で約２個以上のオレフィン基を提供しなければならな
い。例えば、単一のジオレフィン材、２９のジオレフィ
ンの混合物、またはポリオレフィン及びモノオレフィン
を含有する混合物を使用することができる。これらの成
分は個別にまたは単一混合物の形で蒸発器内へ配量すれ
ばよい。

分子量が低く、平均で２個以上のオレフィン基が存在す
るから、利用されるモノマー（またはモノマー混合物）
はその反応性が高い。従って、高速で、即ち、１乃至１
．０００ｃｍ　／　ｓｅｃの速度でモノマーを蒸着させ
、硬化させることができる。

反応性、物理的性質、及びこれらの成分から形成される
硬化膜の性質に鑑み、モノマー材としては多官能アクリ
レートが特に有用である。このような多官能アクリレー
トの一般式は Ｒ’　　　（ＱＣＣ＝ＣＬ　）　　ｎ Ｒま ただし、 Ｒ１は式Ｒ’　　（ＯＨ）ｍで表わされる化合物から得
られる脂肪族基、脂環基または脂肪族／脂環混合基、 Ｒ２は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは
ペンチル、 ｎは２乃至４、 ｍは２以上である。

このような多官能アクリレートは下記式で表わされる種
々のモノアクリレートと併用することもできる。

即ち、 ＣＨ３（ｃ）１２　）　ｒ　Ｃ−（ｃＩ＋２　）　ｓ　
　Ｘ３ＣＨ２ＱＣＣ＝ＣＨ２ ０Ｒ’ ただし、 Ｒ２は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは
ペンチル、 ｒ及びＳはそれぞれ７または８、ｒとＳの和は１５、 ＸｌはＨまたは Ｘ３はＣ，ＮまたはＣＯＯＲ３であり、Ｒ３は１乃至４
個の炭素原子を含むアルキル基である。多くの場合、Ｉ
３はＣＮまたはＣ００ＣＨ，である。

下記式で表わされるジアクリレートが特に好ましい。即
ち、 ＣＨ３ （ｃＨ２ ）　　ｓ　　ＣＨ２ＣＨ（ｃＩ２　）　　ｔ　　　０Ｏ
ＣＣＨ＝ＣＨ２ＣＩ０ ｔｉｃ　　＝Ｃ）Ｉ２゜ ＣＨ２＝ＣＨＣ００（ｃＨ２）　　ｂ　０ＯＣＣＨ＝Ｃ
Ｈまただし、 ｒ及びＳはそれぞれ７または８、ｒとＳの和は１５であ
る。

次のジアクリレート、 及びアルコキシル化シクロヘキサン・ジメタツール・ジ
アクリレート（アルコキシ基は１乃至４個の炭素原子を
含む）が特に好適である。

硬化は反応物分子の二重結合を開くことによって達成さ
れる。このため、赤外線、電子ビームまたは紫外線を発
射する装置のようなエネルギー源を利用する。

第１図から明らかなように、誘電コーティング１６はキ
ャパシタンス域１７内に達して該キャパシタンス域にお
いて一様の態様で交互に電気的に隔離された関係で重な
り合う互いに食い違う２組に分けられた導電層１５の間
に介在し、分離する。

図面から明らかなように、切込み１４の目的は基板１３
を分割することによって２９の端子部１８間の電気的接
続を断つことにある。

本発明の一実施例では、切込み１４を有し、かつ蒸着装
置に対して高速で移動する基板１３上に電極材及び誘電
体を蒸着することによりコンデンサ１０のようなコンデ
ンサを同時に多数個形成する。蒸着装置を逐次通過させ
ることにより層１５及びコーティング１６を所要数だけ
形成する。その結果（第１０図参照）、詳しくは後述す
る装置方向２６の切断線１９に沿って分離できる一連の
レーン２５が形成され、これらのレーン２５は所要の公
称キャパシタンスに応じた間隔の横断方向切断線２７に
よって個々のコンデンサ１０に分割される。前記間隔が
広ければ広いほど個々のコンデンサ１０のキャパシタン
ス域１７に各導電層１５が占める電極面積が広くなり、
従って、キャパシタンスが高くなる。

各レーンからコンデンサ１０を所要のサイズに切断し、
切込み１４を形成し、リード線１２を取付け、コンデン
サ全体をカプセル封じする。

本発明のコンデンサ製法の一実施例では真空チェンバま
たは複数の真空部に区分された筐体の形態を取るチェン
バ３０（第２図）の内部及びその周りに製造装置が配置
されている。真空環境内には、キャリア３１の形態を取
る可動支持体、誘電体またはモノマー蒸着装置３２、モ
ノマー硬化装置３３及び電極または金属材料蒸着装置３
４を配置する。１×１０−５）ル程度の実質的な真空が
要求される。

キャリア３１はモータ３６によって駆動される水冷ドラ
ム３５であり、その外側円筒面３７が誘電体またはポリ
マー層形成ゾーン及び電極または金属層形成ゾーンを通
過する高速移動連続面または支持体を画定する。ドラム
面３７及び装置３２゜３３が位置する領域は誘電体また
はポリマー層形成ゾーンを構成し、ドラム面３７及び装
置３４が位置する領域は電極または金属層形成ゾーンを
構成する。ドラムの回転に伴なって発生するのが装置方
向２６であり、これはドラム面、即ち可動支持体が上流
側の誘電体形成ゾーン及び下流側の金属層または電極形
成ゾーンを通過する方向である。

寸法が小さいだけに、面３７は平滑かつ精密でなければ
ならない。基板１３がドラム３５に固定され、この状態
で基板１３の外面が面３７となる。

使用する特定モノマーに応じた温度、−船釣には２０℃
乃至８０℃の温度にまでドラム３５を冷却して蒸着層の
凝縮を容易にし、装置を１乃至１．０００ｃｍ／ｓｅｅ
　　ドラム表面速度で作動させる。

必要に応じて基板１３を省き、ドラム３５の面３７で誘
電体を直接凝縮させてもよい。このように基板を省くこ
とで誘電またはポリマー層をドラムに直接密着させるこ
とができる。モノマーをドラム面に蒸着する前にドラム
に剥離剤を蒸着する。

適当な剥離剤はニューシャーシー州　トレントンのＭｉ
ｃｒｏ　Ｉ　ｎｔｅｒｎａ目ｏｎａｌ　ＰｒｏｄＩｌｃ
ｔｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている。こ
の剥離剤はナトリウム、アンモニウム、トリエタノール
アンモニウム、エチレンジアミンテトラアセテート、線
状アルキルアリールスルホネート及びポリエトキシノー
ルフェノールの水溶液である。

電極または金属蒸着装置３４としては、ターゲットにス
パッタリングする公知の電子ビーム蒸着装！！４１また
は一群の抵抗形蒸発源（ボート）を利用すればよい。蒸
発速度をクォーツ・モニター装置４２によって感知し、
該装置４２からのフィードバックにより、装置４１がア
ルミニウムを蒸発させる速度を制御することができる。

アルミニウム蒸気の蒸着パターンを、蒸気が通る開口部
４４を有するマスク、この実施例では後述のシャドウ・
マスク４３（第３図）によって制御する。

コンデンサのような多層構造の製造開始までに装置４１
に給電して安定作用状態にすることが好ましいから、取
外し可能なシャッタ５２を装置４１とマスク４３の間に
介在させ、シャッタ５２が引っ込められるまで蒸気が通
過できないようにする。

本発明の特徴として、誘電体蒸着装置３２（第５図）は
モノマーの形態を取る誘電体をフラッシュ蒸発させ、適
度の差圧下にノズル５５を通してコンデンサ・レーン２
５へ小さい気体分子を案内する。導管５７及び制御弁５
６を通して超音波噴霧器５９のホーン５８の開口端へ液
状モノマーが供給される。その結果発生する微小滴が、
バンド・ヒータ６２により適温、即ち、上記アクリレー
ト樹脂の場合なら約１００乃至４００℃に加熱された蒸
発管６１の内壁に衝突する。こうして液状モノマーは瞬
間気化、即ち、フラッシュ蒸発するから、基板に蒸着さ
れる前に重合が起こるおそれは極めて少なくなる。

管６１内の約１トルの圧力下にモノマー・ガス流がノズ
ル５５を通過してから蒸着され、凝縮する。ノズル５５
は管６１からの伝導によって加熱されるから、ガス流が
ノズルを出るまでに凝縮するおそれは極めて少ない。

ノズル５５に案内デフレクタ６３を設け（第８図、第９
図）、ノズル５５をレーン２５の凝縮面に近接させ、モ
ノマー・ノズル５５の両側に設けたノズル群６４から不
活性ガスを供給してエツジ障壁を形成することによって
モノマー・ガス流を制約することで、蒸着の境界を画定
し、テーパ状エツジを有するコーティング１６を得る。

導管６５及び制御弁６６を介してノズル６４へ不活性ガ
スを供給するが、ノズル６４は端子部１８を形成するゆ
とりが得られるように面３７から約４ミルの間隔を保っ
て固定されている。ドラムが１回転するごとにコントロ
ーラ５０からの信号の制御下に引込モータ６７によりモ
ノマーガスのノズル５５をコーティング１６の厚さにほ
ぼ相当する量だけ後退させる。

コーティング１６の厚さは蒸着時間、即ち、面３７の速
度に対するノズル５５の長さ、及び弁５６を通過するモ
ノマー流量によって決定される。

弁６６を利用して不活性ガス流をモノマーガス流と平衡
させることにより、誘電コーティング帯のテーパ側を制
御することができる。

液状モノマー噴霧装置の他の実施態様として、第６図に
示すように、毛細管６８を通して超音波噴霧器５９のホ
ーン５８に近接した点に向かってモノマーを供給する。

この構成では毛細管６８の端部とホーン５８の端部との
間にメニスカスが形成され、モノマーが均等に管を通過
する。

液状モノマー噴霧装置の他の好ましい実施態様を第６ａ
図示に示した。この実施態様では、毛細管２００を通し
て超音波噴霧器２０１に近接した点ヘモツマ−を供給す
る。モノマー滴は超音波の作用下に霧状となり、噴霧チ
ェンバ２０５の壁を加熱する加熱素子２０３によって気
化される。気化したモノマーはトップハツト形バッフル
２０６、スクリーン２０７及びノズル２０８を通過し、
図示しない可動支持体上で凝縮する。ノズル２０８は可
動ドラムの表面形状とほぼ一致するように形成されてい
る。

基板へのモノマー膜蒸着に利用できるその他の装置はＡ
ｎｇｅｌｏ　Ｙｉａｉｉｘｉｓの１９８６年６月２０日
付出願第８７７、１７５号“モノマー液のフラッシュ蒸
発（Ｆａｓｈ　Ｅｖａｐｏｔａｊｉｏｎ　ｏｆ　Ｍｏｎ
＋ｏｎｅ＋　Ｆｌｕｉｄｓ　）　”　ＳＧｒＢｇ　Ｂ１
５ｃｈｏｆｌの１９８６年８月２５日付出願第９００．
９４１号“気化のためのモノマー噴霧器（Ｍｏｎｏｍｅ
ｒｓ　Ａｔ。ｍ１ｔｅｒ　Ｆｏｔ　Ｅｖａｐｏｔａｊｉ
ｏｎ）”　ｓ　１９８６年４月８日付出願第８５０．４
２７号“モノマー液気化のための噴霧装置（Ａｔｏｍｉ
＊ｉｎｇ　Ｄｅｖｉｃｅ　Ｆｏｒ　Ｖｘｐｏｔｉｔａｔ
ｉｏｎ　ｏｆ　Ｍｏｎｏｍｅｒ　Ｆｌｕｉｄｓ　）”、
及びＣａｒｒｉｃｏの１９８７年７月２８日付特許第４
．６８２．５６５号“ガス・バリヤー・バーを具えた蒸
気ノズル（Ｖａｐｏｒ　Ｎｏｚｚｌｅ　Ｗｉｔｈ　Ｇａ
ｓ　Ｂａｒｒｅｒ　ｂｒｓ）”に開示されており、これ
らの出願及び特許はいずれも本願と同じ譲受人に譲渡さ
れたものである。

凝縮した液状モノマーを誘電体形成ゾーンにおいて第２
装置３３により放射線硬化させるそれぞれの層は次のモ
ノマーまたは金属層が蒸着される前に殆んど硬化を終え
る。硬化処理は下方の蒸着物質に著しい影響を及ぼすこ
となく最上層だけが硬化するように制御される。即ち、
誘電体の厚さに応じて電子ビーム電圧を調整することに
よって硬化プロセスを制御する。例えば、１０Ｋｖ電子
電圧は約１ミクロンのモノマーを透過し、しかも下方の
層には殆んど到達しない。このように層ごとに硬化させ
ることにより、多層構造の品質を高める。と、。なる。

なぜなら、いったん硬化した層にあらためて電子ビーム
を作用させればポリマー結合を破壊して硬化層の劣化を
招くからである。

ただし、必要ならばモノマーの多重層を可動支持体に蒸
着させたのち、１回の硬化処理で全体を硬化゛させるこ
とも可能である。この場合、蒸着された未硬化モノマー
層全体の誘電体厚さに合わせて電子ビーム電圧を調節す
ることにより硬化プロセスを制御することになる。

以上の説明で製造装置の全体的な作用を明らかにした。

電極または金属層を蒸着し、誘電体でコーティングし、
誘電体を硬化させたのち、これらの電極層及び誘電体層
が蒸着されている面が再び装置を通過し、次の電極また
は金属層及び誘電体コーティングが順次蒸着される。電
極層及び誘電体コーティングの所要の厚さは蒸着速度を
ドラム３５の表面速度と整合させることにより決定され
る。

コンデンサ１０は超小型ではあるが、有用なキャパシタ
ンスφレベルを具えている。当業者には明らかなように
、本発明の装置及び方法はコンデンサの高速同時量産を
可能にするだけでなく、個々のコンデンサが極めて僅か
な原料しか使用しないという点でコンデンサ１０を経済
的に生産できるものである。個々のコンデンサのサイズ
は小さいが、その設計上、リード線を結合して完全な集
合体とするのに充分な加工面積を具えている。このコン
デンサは金属及び硬化させた耐高温樹脂のみで形成され
ているから、ウェーブ半田付は組立て技術に伴なう一時
的高温をも含めた高温に耐えることができる。

電極層及び誘電体層の厚さが極めて薄いから、コンデン
サ１０は自己回復性である。即ち、誘電体コーティング
中に欠陥があって少量の金属が互いに対向する組に含ま
れる電極層を電気的に接続することがあっても、供給さ
れる電流がこの接続金属の極めて小さい断面を焼損また
は融解させることによってこの欠陥箇処を開路するもの
と期待される。従って、コンデンサがショートによって
機能できなくなるおそれは極めて少ない。

上記の装置及び方法は第７図、第１図及び第１０図に示
すレーン構成ではなく、全幅構成によるコンデンサ形成
にも利用できる。既に述べた素子と同様の素子を、接尾
文字ａを付した対応の参照番号で示す第１３図から明ら
かなように、厚さが均一な導電層１５ａ及び誘電体コー
ティング１６ａを有する基板１３ａ上にコンデンサ１０
ａを形成する。縦方向切断線１９ａ及び横方向切断線２
７ａに沿って個々のコンデンサ１０ａを分離すると導電
層１５ａのエツジが露出するから、コンデンサの両端に
おいて導電層１５ａを電気的に接続するため、なんらか
の形のエツジ成端が必要である。

以上に述べた装置及び方法によって本発明の構造を製造
できるが、この装置及び方法にはほかにも種々の実施態
様が考えられる。好ましいシステムを示す第２ａ図から
明らかなように、真空チェンバ１０１ａまたは複数の真
空部に区分された筐体内の真空環境中に可動支持体１０
０、即ち、図示しないモータによって駆動され、面１０
１が冷却されている回転ドラムを設ける。ほかに、液状
モノマー供給／配量／蒸着装置１０２、モノマー硬化装
置１０４、及び金属または無機物質蒸着装置１０６が設
けられている。可動支持体１００、モノマー・フラッシ
ュ蒸発器の蒸気出口、硬化装置１０４及び無機物質蒸着
装置１０６は真空環境中に配設されている。

ドラム１００が連続回転し、冷却されているドラム面１
０１が上流側のポリマー層形成ゾーンを通過する。面１
０１がモノマー凝縮装置１０２及び下流側硬化装置１０
４を通過する領域がポリマー層形成ゾーンを構成し、面
１０１が無機物質蒸着装置１０６を通過する領域が無機
または金属層形成ゾーンを構成する。

第２ａ図及び第２ｂ図に示すように、室温の液状モノマ
ーがタンク１１２から脱気装置１１３に供給され、約２
５℃の温度において真空吸引下に撹拌、脱気され、その
結果、モノマー蒸発器における圧力変動が極力回避され
る。次いでモノマーは弁１１４を通って公知のピストン
ポンプ１１６に流入する。ポンプ１１゛６は適圧、適温
のモノマーをモノマー配量手段１１８へ送入し、モノマ
ー配量手段１１８は所要量のモノマーを狭窄導管１２１
を介して超音波噴霧器１２０へ配量する。狭窄導管１２
１は噴霧器１２０へ流入するモノマーに対する積極的な
背圧を発生させる。モノマーは噴霧されて微小滴を形成
し、この微小滴は適温に、即ち、上記アクリレート樹脂
の場合には約１００乃至４００℃に加熱される。蒸発器
１２２においてモノマーを瞬間蒸発、即ち、フラッシュ
蒸発させることによって重合の可能性を極力防止する。

気化したモノマーはノズル１３０を通過し、冷却されて
いるドラム面１０１上に凝縮する。可動支持体１００の
速度、所期の層厚及び蒸着幅によっても異なるが、狭窄
導管１２１を通過するモノマーの流量は経験に照らして
０．５乃至１０ｃｃ／ａ＋ｉｎであることが好ましい。

噴霧器１２０に流入するモノマー量が可動支持体１００
への最適蒸着量となるようにモノマーを配量する。モノ
マーが蒸発器壁で重合して多層物品の製造に悪影響を及
ぼすことがないように、配量されたモノマー材が全部可
動支持体１００上に蒸着されることが肝要である。

凝縮したモノマー液は放射線源、好ましくはガス放電電
子ビーム銃１２４を含むポリマーまたは誘電体層形成ゾ
ーンにおいて放射線の作用下に硬化する。電子ビーム銃
１２４を作動させると、電子の流れがモノマーに当てら
れ、モノマーを重合架橋状態に硬化させる。この実施態
様では、電子ビーム銃１２４をドラム面１０１に対して
接線方向に整合するように位置ぎめして、第２図のよう
に９０°の角度で当たるのではなく、接線方向に電子流
がモノマーと接触するようにする。第２ａ図のようにガ
ンを位置ぎめすることにより、表面帯電を軽減し、帯電
による欠陥を解消し、隣接層に電子を進入させずに個々
の七ツマー層を頂面から底面まで均等に硬化させること
ができる。

硬化したモノマーは無機物質蒸着装置１０６へ移動させ
、必要に応じて、例えば厚さ２００乃至５００オングス
トロームのアルミニウムのような無機物質を硬化モノマ
ー層に蒸着させる。第２ａ図に示すマスク引込／送り装
置１２６及び蒸発器引込装置１２８は第２図に無機物質
または金属蒸着システムとの関連で示した装置と同じで
ある。

図示しないドラム・モータにコントローラ１３２を接続
することによりドラム回転を感知させ、コントローラ１
３２からマスク引込／送り装置１２６に適当な信号を供
給させる。さらにまた、コントローラ１３２はモノマー
供給装置、蒸発器をドラム面から所要の距離に位置ぎめ
するフラッシュ蒸発器引込装置１２８、及び電子ビーム
硬化装置１０４にも適当な信号を供給して硬化装置を作
動させる。

第２Ｃ図は多層構造形成装置の他の実施例を示す。この
実施例の場合、先に述べた同一または２種類のモノマー
材料を回転ドラム１４４の水冷ドラム面１４３上に蒸着
させるために、第１及び第２のモノマー蒸着／フラッシ
ュ蒸発装置１４０゜１４２を利用する。具体的には、蒸
発部１４０において面１４３にモノマー材料を蒸着させ
たのち、蒸発した材料を電子ビーム銃硬化部１４６に移
行させ、これを硬化させ、交差結合させる。次いでこの
交差結合モノマーを無機物質蒸着部１４８に移行させる
ことにより、必要に応じて、上述した硬化モノマーに無
機物質を蒸着できる。

同様に、モノマー蒸着部１４２においてドラム面１４３
上に凝縮したモノマーを電子ビーム銃硬化部１５０に移
行させてモノマー層を硬化させたのち、硬化したモノマ
ーを無機物質蒸着部１５２に移行させ、必要に応じて、
硬化モノマー層上に無機物質を蒸着させることができる
。

なお、２９のモノマー蒸着／硬化部と２９の無機物質蒸
着部を図示しであるが、必要に応じて、モノマー蒸着部
、モノマー硬化部及び無機物質蒸着部をいろいろに組合
わせて利用するその他の実施態様を利用してもよい。

また、本発明の方法及び装置を利用して、第１図、第１
０図及び第１３図に示す構造のほかに、種々の形状及び
サイズの多層構造を製造することができる。

場合によっては、第２図及び第２ａ図に示す回転ドラム
を使用せず、他の手段を可動支持体として利用すること
もできる。例えば、第２ｄ図に示す回転ディスク１６０
を可動支持体として利用し、このディスク上に多層構造
１６２を形成することができる。第２ｅ図に示すディス
ク１６４は所要の速度で連続的に回転するかまたは間歇
的に割り出されて上記蒸着部及び硬化部を通過し、多数
の多層構造１６６．１６８を形成する。

第２ｆ図に示す可動支持体は冷却された面１７２に基板
１７２が取付けられている往復動プレート１７０から成
る。多層構造１７４は基板１７２上に蒸着される。

第２ｇ図は水冷面１７７を有する回転ドラム１７６を示
す。可動ウェブ基板１７５がローラ１７８．１７９上を
通過し、このローラは可動ウェブ基板１７５をドラム面
と接触状態に維持してドラムによって冷却されるように
する。可動ウェブ基板１７５がドラム面と接触している
間に、可動基板１７５上に多層構造１８０を形成するこ
とができる。

なお、上述したような可動支持体構造とは別の可動支持
体構造をも利用できることに当業者にとって容易であろ
う。

第２ｈ図には本発明の方法のステップをブロックダイヤ
グラムで示す。既に述べるように、真空環境中で行われ
る本発明の方法には、タンク内のモノマー材料１８８が
所定量のモノマーを配量する配量部１９０に流入するス
テップと、狭窄導管を通って噴霧器に流入するステップ
が含まれる。

霧状化したモノマーはフラッシュ蒸発チェンバ１９１に
移行し、マニホルドまたはノズル１９２を通って、必要
に応じて支持面上に基板が取付けられている可動支持体
１９３上へ供給される。

所要の厚さのモノマー膜が支持面または基板上に凝縮す
ると、可動支持体はモノマー硬化部１９４へ移動し、電
子ビーム硬化装置、プラズマまたは熱電子銃によってモ
ノマーが交差結合させられ、硬化する。

硬化したモノマーは無機物質蒸着部１９６に移行し、必
要に応じ、オプショナル・マスク装置１９７を介して交
差結合状態のモノマーに金属またはその他の無機物質が
蒸着またはスパッタリングされる。

このプロセスを繰返して適当数の層を形成したら、多層
構造１９９を支持体１９３から取外し、必要に応じて切
断及びトリミング加工を施す。このようにして各層の厚
さが約０．１乃至４ミクロンの４，０００層以上から成
る多層構造が形成されるが、本発明の高速形成方法を利
用して製造された場合、個々の層に層間剥離、ピンホー
ル及びボイドは殆んどない。しかも、この多層構造は自
己支持形であるから、基板に取付ける必要はない。さら
にまた、層ごとにその厚さに差があってもよく、必要な
ら個々の層の厚さが均一でなくてもよい。

本発明の方法及び装置によって多様なサイズ及び形状の
多層構造を形成することができる。第１４ａ図は上述し
た材料群から選択した２種類のモノマー成分を利用して
２９の誘電体３００．３０１を有する薄い多層構造を形
成した第１０図及び第１３図に示す全体形状を有する構
造の部分断面図である。この構造は必要に応じて２９の
モノマー蒸着部１４０，１４２及び２９の硬化ｍ１４６
゜１５０を利用してモノマー膜を蒸着、硬化する第２Ｃ
図のシステムによって形成することができる。

第２図に示すフラッシュ蒸発装置を利用して得られる第
１４ｂ図の多層構造は交互に重ねられた２種類のモノマ
ー成分から成る層３０２，３０３と無機物質層３０４．
３０５とから成る。層３０４．３０５はそれぞれ異なる
無機物質から成る。

第１４ａ図の多層構造と同様に、この構造は第２ｂ図ま
たは第２ｃ図に示すフラッシュ蒸発装置を使用して形成
することができる。

第１４ｃ図は誘電層を材料３０７，３０８から形成した
多層構造を示す。誘電層間には無機物質層が挿入されて
いる。なお、誘電層３０８は誘電層３０７よりも薄い。

第１４ｄ図に示す多層構造は１種類のモノマー成分から
形成された複数の誘電層３１０を有し、誘電層間には無
機層３１１が挿入されている。

比較的透明な構造となるように構造中のすべての硬化膜
が透明な多層構造も製造されている。

実施例　■ 厚さ約２０ミル、幅１０インチ（２５ｃｍ）の酸化鋼ホ
イルを直径約Ｈ，１ｃｍ、　　ドラム面温度５２℃の高
温ドラム面に固定した。ホイルを固定したら、ドラム温
度を約１８℃まで下げると同時にモノマー蒸着ノズルを
基板面から約０．０１５２４ｃｍにセットし、次いで、
蒸着ノズルが所要の温度に加熱されるまで２０ミルだけ
後退させた。

フラッシュ蒸発器及びノズルを約３４３℃に加熱し、シ
ステムを加圧し、電子ビーム硬化膜への給電を８Ｋｖ及
び１０ｍａにセットした。

加熱後、蒸発器及びノズルを層スタック・プロフィルを
維持するためのガス・バリヤー・バーと共に再び０．０
１５２４ｃｍゲージ点で戻し、１．７５乃至２゜Ｑｇｍ
／ｗｉｎの流量で蒸発器へプロポキシル化シクロヘキサ
ン・ジメタツール・ジアクリレート（ｃ−９０２４）を
供給した。

約３４３℃でモノマーをホイル基板にフラッシュ蒸着さ
せ、凝縮させた。約１００ｃｍ　／ｓｅｅの連続的なド
ラム速度でホイルが電子ビーム銃を通過するのに伴なっ
て凝縮モノマー膜が硬化した。それぞれが約１ミクロン
の均一な厚さを有する複数の誘電体層を蒸着させた。各
層が蒸着されるごとにノズルを後退させた。層はガス・
バリヤー・バーの間に蒸着され、このような蒸着及び硬
化を１つの手順で約１．３ＱＯ回繰返した。この手順を
利用して、それぞれが厚さ約０．６３５ｃｍの誘電体か
ら成る４つの個別スタックを一度に形成することにより
第１０図に示すような多層構造を得た。得られた構造は
ピンホールもボイドもなく、層間剥離が殆んど認められ
ず、すぐれた耐水性を示した。

この手順に従って４０００層を蒸着したが、その場合に
も好ましい成果が得られた。

実施例　■ 実施例■の手順に従って、単一モノマー成分（ｃ−９０
２４）を蒸着、硬化して誘電層を形成した。

それぞれが厚さ約０．８ミクロンの約１００層の誘電層
を形成したのち厚さ約２００乃至５００オングストロー
ムのアルミニウム層を、次の誘電層が蒸着される前に蒸
着して第１図、第１ａ図及び第１０図に示すような構造
を得た。最初の１００層の誘電層を形成したのち１，２
００層のアルミニウム層と１，２００層の誘電層を交互
に蒸着した。次いで５０層の誘電層を蒸着させることに
より、約１，３５０層の誘電層を有する構造を完成した
。完成したら、この構造を回転ドラムから取外し、所要
のサイズに切断した。チップにリード線を取付け、キャ
パシタンスを測定したところ、ｌＫＨ２における散逸率
１．５％で、５Ｘ５ｍｍ有効面積に亘って１．Ｏｍｌで
あった。完成した多層構造は眉間剥離が殆んどなく、す
ぐれた耐水性を示した。

実施例　■ この例でも実施例工の手順に従ったが、モノマーを基板
に蒸着させるのではなく、ドラムに直接蒸着させた。

垂直方向に０１６３５ｃｍ　、水平方向に１２．７ｃｍ
のスリットを有する第６ａ図に示すような形状のノズル
をドラム面から０．０１５２４ｃｍの位置にセットし、
２０ミルだけ後退させた。ドラム面温度は４，４４４℃
であった。

システムを加圧し、ノズルを３４３℃に加熱したのちフ
ラッシュ蒸発器及びノズルを再びドラム面から０．０１
５２４ｃｍの位置に戻した。ドラムの表面速度は１０１
．５ｃｍ／ｓｅｃであった。電子ビーム銃に対する給電
を１０ｋｖ及び５ｍａにセットし、２．５ｇｍ／ｍｉｎ
の流量で蒸発器へプロポキシル化シクロヘキサン・ジメ
タツール・ジアクリレート（ｃ−９０２４）から成るモ
ノマー成分を供給し、ドラム面にフラッシュ蒸着し、凝
縮させた。モノマー膜の厚さは１．０ミクロンであり、
モノマーを１層蒸着するごとにノズルを１．０　ミクロ
ン後退させた。

１．３００層の誘電層を蒸着することにより、エツジが
ややテーパ状を呈する第１３図に示すような形状の５イ
ンチ幅帯状構造を形成した。ドラムから取外した状態で
、この構造は自己支持性であり、層間剥離もボイド／ピ
ンホールも殆んど認められなかった。

実施例　■ 実施例■に述べた手順に従った。ただし、厚さ約２００
乃至５００オングストロームのアルミニウム層を誘電層
間に細長い帯状に蒸着し、第１３図に示すような形状の
構造（幅５．０８０ｃｍのものと幅１２．７ｃｍのもの
）を形成し、それぞれが約０．５ｃｍ幅のレーンに裁断
できるようにした。この例では、プロポキシル化シクロ
ヘキサン・ジメタツール・ジアクリレート（ｃ−９０２
４）を使用して一方の構造を形成し、Ｃ−９０２４の場
合の３４３℃よりもはるかに低い約１６６℃でヘキサン
・ジオール番ジアクリレート（ｃ−７１６）を蒸発させ
ることによって他方の構造を形成した。形成後、これら
両モノマーを使用して得たサンプルを温度１２５℃、圧
力１５ｐｓｉｇ　（１，０５ｋｇ／ｃｍ２Ｇ）で６３時
間圧力釜で処理し、窒素雰囲気中での２４０℃予備焼成
は行わなかった。このような温度、圧力及び温度条件下
での試験で、本発明の方法にＣ−７１６モノマー材料を
使用すればＣ−９０２４材料で得られるよりも安定度の
高い誘電体構造を得られることが判明した。Ｃ−９０２
４材料を利用した構造はある種の用途には充分であるが
黄色に変色し、劣化を示唆するある程度の収縮を示した
のに対して、Ｃ−７１６材料は６３時間経過したのちで
も色、サイズに殆んど変化が見られなかった。

本発明の方法を利用することにより、多様なサイズ及び
形状の多層構造を形成することができる。

全体的な形状はテーバ状、正方形、矩形、弯曲形など特
定用途に応じた形状を選ぶことができる。

同様に、隣接層は第１ａ図に示すように形成してもよい
が、長手方向または幅方向に連続的または間歇的に形成
しても本発明の範囲を逸脱しない。

本発明の方法によって形成される多層物品のサイズ及び
形状は特定の用途に応じて選択できる。

例えば、挿入層はその幅及び長さ方向に連続的でもよい
が、それぞれの幅及び／または長さ方向に間歇的であっ
てもよい。同様に、挿入金属層の、物品の幅方向エツジ
が隣接ポリ、マー層のエツジよりも内側に配置しても外
側に配置してもよい。

上記例にいくつかのモノマー材料を開示したが、経験に
照らしてＣ−７１６材料が好ましいと考えられる。多層
構造の形成に利用したその他のモノマーとしてはジオー
ル・ジアクリレート、トリメチロールプロパン・トリア
クリレート、プロポキシル化トリメチオールプロパン・
トリアクリレートなどが挙げられる。

上述した寸法から明らかなように、外周に囲まれた面積
が１インチ平方、厚さが数ミリの第１図に示すような超
小型コンデンサでも、交互に重なる電極層及び誘電層を
１．０００層以上含むことができる。従って、全体的な
サイズ及び電極対の数にもよるが、５０ボルトまでの電
圧で０．００１乃至１００マイクロフアラツドのキャパ
シタンスを有するコンデンサが得られる。

本発明の一実施例では、切断線１９で終る電気的接続部
を画定し、対向側とは大きい間隔を保つ基板１３の端子
部１８と、中央キャパシタンス域１７の両縁とが存在す
る。第１図に示すように、コーティング１６はキャパシ
タンス域１７における均一な厚さから端子部１８の近傍
におけるゼロ厚さまでテーパするから、コンデンサには
傾斜部２１が形成される。中央キャパシタンス域１７か
ら切断線１９及び端子部１８までの距離は所与のコンデ
ンサが基板１３の平面に対応する水平方向に傾斜部２１
への最終導電層１５の蒸着を可能にする寸法を確保でき
るように設定する。即ち、基板１３に対してほぼ垂直に
電極材料を蒸着し、層が重なるに従って基板に対する傾
斜部２１の勾配が次第に大きくなるとすれば、最終電極
層１５が基板に対して垂直にならないようにキャパシタ
ンス域と切断線との間の所期間隔を充分大きく設定しな
ければならない。実際には、上述したような厚さのコー
ティング及び層を形成する場合、端子部１８を中央キャ
パシタンス域１７から少なくともｌＯミクロン離さない
と、傾斜部２１におけるコーティング及び層１５．１６
の制御が困難になり、構造の形成が不確実になる。

第１図から明らかなように、それぞれの電極材帯を蒸着
したのち、基板１３の同じ相対位置にコーティング帯を
蒸着することによって誘電コーティング１６を形成する
ことができる。１つの蒸着パスで複数組の電極層１５を
挿入するため、一方の端子部１８及び隣接のキャパシタ
ンス域１７に電極材料を蒸着し、誘電コーティングを介
在させたのち、前回蒸着が行われなかった端子部１８及
び各隣接キャパシタンス域１７に電極材料を蒸着する（
第４ａ図及び第４ｂ図）。

アルミニウム蒸気電極材料の蒸着に利用されるシャドウ
・マスク４３に形成した開口部４４は２９の隣接するレ
ーン２５におけるキャパシタンス域１７及び中間の端子
部１８にまたがる広さの主要部分４５を有する。コンデ
ンサが完成に近づくに従って傾斜部２１の表面積が広く
なり、電流を搬送することのできる一体的な層を形成す
るのに必要なアルミニウムの量も増大する。このため、
マスクの開口部４４に、隣接の傾斜部２１及び介在する
端子部１８にまたがる延長部４６を形成する。蒸着され
る電極材料の量は蒸着面がマスク４３の開口部の下方に
位置する時間に比例するから、キャパシタンス域１７よ
りも傾斜部２１の方が蒸着金属量が多い。

第４ａ図及び第４ｂ図に関連して上述した金属蒸着の交
互パターンはドラムが１回転するごとにドラム３５の軸
線方向にマスク４３を移動させることによって得られる
。ニューヨーク州ロングアイランド、ホラページのＡｎ
ｏｒａｄ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている
ようなマスク送りモータ４７または高圧線形プロダクシ
ョン・モータが簡単な機械的連動機構４８を介してマス
クを移動させる（第２図）。コントローラ５０をドラム
・モータ３６と接続することによってドラム回転を感知
させ、マスク送りモータ４７に適当な駆動信号を供給さ
せる。金属蒸着すべき面に近接した位置にマスク４３を
維持しなければらないが、この近接関係はコントローラ
５０からの信号に呼応してドラムの１回転ごとに、マス
クを面３７から、蒸着しようとする電極層の厚さにほぼ
相当する距離だけ後退させるマスク引込モータ５１によ
って維持される。

第１３図に示すような形状のコンデンサ１０ａは不活性
ガス・ノズル６４を省き、モノマー蒸着装置３２を介し
てモノマーを均一に蒸着することにより形成することが
できる。導電層１５ａは傾斜していないから、金属材料
蒸着装置３４のシャドウ・マスク４３に延長部分４６を
形成する必要はない。装置３２．３３及び３４の幅と一
致する全幅構成でコンデンサ１０ａを形成することも可
能である。

第２の装置３３に関しては、誘電体形成ゾーンに放射線
源、好ましくはガス放電式電子ビーム銃７０を設ける（
第１１図、第１２図）。銃７０は筐体チェンバ７１から
発射窓７２を通してモノマーに電子流を当てることによ
って、モノマーを、コンデンサ１０に作用する可能性が
ある高温に耐え得る重合架橋状態に硬化させる。

銃７０は筐体７１に固定したグラウンド・シールド７６
に設けた絶縁体７５に囲まれたコネクタ７４によって支
持される矩形の銅陰極７３を含む。

窓７２の全面にタングステン・メツシュ抽出スクリーン
７７を固定する。導管７８及び制御弁７９を介して筐体
チェンバ７１にアルゴンのようなガスを供給する。陰極
７３及びそのコネクタ７４と、シールド７６、筐体７１
及びスクリーン７７との間に電圧が作用し、その結果、
真空環境であることから、筐体内に、主として陰極７３
とスクリーン７７の間にプラズマが発生する。電子が非
線形ビームの形で筐体チェンバ７１内のほぼ全体に広が
るように陰極７３の面に溝８１を形成することが好まし
い。プラズマの発生により、チェンバの種々の部分にお
いてイオン化ガス分子から他の電子が奪われ、いわゆる
電界強化効果が起こるから、広範囲に亘って変化するエ
ネルギー・レベルの電子が窓７２から発射される。モノ
マーが表面帯電を殆んど伴なわずに硬化するという所見
は発射電子のエネルギー・レベルが広範囲に亘ることで
裏づけできると考えられ、コーティング１６の表面帯電
を回避することで電極層へのアーク発生を極力防止でき
る。また、銃７０は幅の広い電子ビームを発射するから
、多数のコンデンサ・レーンを同時に処理できる。その
他のタイプの銃、例えば、熱電子銃を使用することもで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるコンデンサを完成前の
状態で示す拡大断面図、第１ａ図は第１図に示したタイ
プの完成コンデンサの斜視図、第２図は本発明の方法を
実施するための装置及びシステムの一実施例を示す構成
図、第２ａ図は本発明の方法を実施するための装置及び
システムの第２の好ましい実施例を示す構成図、第２ｂ
図は配量されたモノマーを可動支持体上に蒸着させるた
めのモノマー供給システムの実施例を示す部分構成図、
第２Ｃ図は２９のモノマー蒸着部、２９の硬化部及び２
９の無機物質蒸着部を利用して本発明の方法を実施する
装置及びシステムの第３実施例を示す構成図、第２ｄ図
は回転ディスクから成る可動支持体の他の実施例を示す
部分傾斜図、第２ｅ図は連続的または間歇的に割出され
る回転ディスクから成る可動支持体のさらに他の実施例
を示す部分斜視図、第２ｆ図は往復動プレートから成り
、その底壁に配置された基板に多層構造が蒸着される可
動支持体の別の実施例を示す部分斜視図、第２ｇ図は可
動ウェブ基板から成り、その底壁に多層物品が蒸着され
る可動支持体のさらに別の実施例を示す部分斜視図、第
２ｈ図は本発明の方法に従って多層物品を形成するプロ
セス・ステップのブロックダイヤグラム、第３図は第２
図に示したアルミニウム金属マスクの一部を示す部分斜
視図、第４ａ図及び第４ｂ図は第２図に示した装置の一
部を、その位置が交代し、その結果、構造または物品に
対するマスクの作用モードも切換わった状態でそれぞれ
示す断面図、第５図は第２図に示した装置のモノマー蒸
発システムに関連する部分を一部断面で示す拡大図、第
６図は第５図の装置に代わる装置、第６ａ図は好ましい
誘電体フラッシュ蒸発装置を一部断面で示す拡大図、第
７図は第２図に示した装置のモノマー蒸発システムのノ
ズルに関連する部分を示す部分図、第８図は第７図に示
した装置の底面図、第９図は第８図に示した装置の斜視
図、第１０図は第１図に示した構造を有するコンデンサ
を製造階段の形態で示す部分斜視図、第１１図は第２図
に示した装置の電子ビーム硬化システムに関連する部分
を一部断面で示す部分斜視図、第゛１２図はほぼ第１１
図の１２−１２線における断面図、第１３図は第１０図
と同様の、ただし、同様の態様で製造される形態の異な
るコンデンサ構造を示す斜視図、第１４ａ図は本発明の
方法に従って、２種類のポリマー材または誘電材から形
成された多層構造の部分断面図、第１４ｂ図は本発明の
方法に従って、２種類のポリマー材または誘電材から層
を形成し、その間に２９の無機金属層を挟んで形成した
多層物品の部分断面図、第１４ｃ図は第１４ｂ図の構造
と同様の、ただし、誘電層の厚さにばらつきがあり、か
つ金属層を１層だけ利用した多層構造の部分断面図、第
１４ｄ図は１種類のポリマー層材料及び１種類の無機物
質だけを使用して形成した本発明の多層構造を示す部分
断面図である。 １０．１０ａ・・・コンデンサ　　１３・・・基板１６
・・・誘電体コーティング　　３０・・・真空チェンバ
　　３１・・・キャリア（可動支持体）　　３２・・・
モノマー蒸着装置　　３３・・・モノマー硬化装置３４
・・・金属材料蒸着装置　　４１・・・電子ビーム蒸着
装置　　１００・・・可動支持体　　１０１ａ・・・真
空チェンバ　　１０２・・・モノマー蒸着装置１０４・
・・モノマー硬化装置　　１０６・・・無機物質蒸着装
置 特許出願人　　スペクトラム　コントロール。 インコーホレイテッド ＦＩＧ、１ ＦＩＧ、２ｃ ＦＩＧ、２ｄ ＦＩＧ、２ｅ ＦＩＧ、２ｆ ＩＧ２ｇ ＦＩＧ、５ Ｆ＋に、３ ＦＩＧ、４ａ ＦＩＧ、４ｂ Ｆ＋に６ ＦＩＧ、６ａ ＦＩＧ、７ ＦＩＧ８ ＦＩＧ、＋２ ＦＩＧ、＋３ Ｆｉ（：、　ＩＱ ＦＩＧ ａ ＦｌＧ、ｌ４ｂ Ｆｌ（ｉ、ｌ４ｃ ＦＩＧ、ｉ４ｄ

Claims (63)

【特許請求の範囲】
1. （１）　層間剥離、ピンホール及びボイドが殆んどない
   複数の層から成る多層物品の高速形成方法であって、 （ａ）可動支持体と、この可動支持体の上流側部分の近
   傍に取付けた誘電体蒸発器の少なくとも１つの蒸気出口
   と、前記可動支持体の下流側部分の近傍に取付けた少な
   くとも１つの硬化手段と、前記可動支持体を前記蒸発器
   の温度以下の温度に維持する手段とを内蔵する真空チェ
   ンバを設け、（ｂ）前記チェンバ内の圧力が約１×１０
   ＾−＾４トル以下になるまで前記チェンバから排気し、 （ｃ）分子ごとのオレフィン基が約２個以上であり、平
   均分子量が１５０乃至１，０００であり、標準温度及び
   標準圧力における蒸気圧が１×１０＾−＾６乃至１×１
   ０＾−＾１トルである硬化可能な成分を選択し、（ｄ）
   前記硬化可能な成分を前記蒸発器の入口部分へ配量し、 （ｅ）前記成分を前記蒸発器内で蒸発させ、（ｆ）前記
   蒸気出口及び前記硬化手段に対して前記可動支持体を約
   １ｃｍ／ｓｅｃ乃至１，０００ｃｍ／ｓｅｃの速度で移
   動させ、 （ｇ）前記蒸気出口から前記可動支持体の表面へ分配さ
   れる蒸発成分の厚さが４ミクロンまたはそれ以下の膜を
   凝縮させ、 （ｈ）前記硬化手段を作用させることにより前記可動支
   持体上にほぼ架橋状態のポリマー膜を形成し、 （ｉ）段階（ｃ）乃至（ｈ）を繰り返すことにより多層
   物品を形成する 段階から成ることを特徴とする多層物品の高速形成方法
   。
2. （２）　層間剥離、ピンホール及びボイドが殆んどない
   複数の層から成る多層物品の高速形成方法であって （ａ）可動支持体と、この可動支持体の上流側部分の近
   傍に取付けた誘電体蒸発器の少なくとも１つの蒸気出口
   と、前記可動支持体の下流側部分の近傍に取付けた少な
   くとも１つの硬化手段と、前記可動支持体を前記蒸発器
   の温度以下の温度に維持する手段を内蔵する真空チェン
   バとを設け、（ｂ）前記チェンバ内の圧力が約１×１０
   ＾−＾４トル以下になるまで前記チェンバから排気し、 （ｃ）分子ごとのオレフィン基が約２個以上であり、平
   均分子量が１５０乃至１，０００であり、標準温度及び
   標準圧力における蒸気圧が１×１０＾−＾６乃至１×１
   ０＾−＾１トルである硬化可能な成分を選択し、（ｄ）
   前記硬化可能な成分を前記蒸発器の入口部分へ配量し、 （ｅ）前記成分を前記蒸発器内で蒸発させ、（ｆ）前記
   蒸気出口及び前記硬化手段に対して前記可動支持体を約
   １ｃｍ／ｓｅｃ乃至１，０００ｃｍ／ｓｅｃの速度で移
   動させ、 （ｇ）前記蒸気出口から前記可動支持体の表面へ分配さ
   れる蒸発成分の厚さが４ミクロンまたはそれ以下の膜を
   凝縮させ、 （ｈ）段階（ｃ）乃至（ｇ）を繰返すことにより複数の
   前記成分膜を形成し、 （ｉ）前記硬化手段を作用させることにより前記膜を硬
   化させて前記可動支持体上にほぼ架橋状態のポリマー膜
   を形成する 段階から成ることを特徴とする多層物品の高速形成方法
   。
3. （３）　層間剥離、ピンホール及びボイドが殆んどない
   複数の層から成る多層物品の高速形成方法であって、 （ａ）可動支持体と、この可動支持体の上流側部分の近
   傍に取付けた誘電体蒸発器の少なくとも１つの蒸気出口
   と、前記可動支持体の下流側部分の近傍に取付けた少な
   くとも１つの硬化手段と、前記可動支持体を前記蒸発器
   の温度以下の温度に維持する手段と、無機物質を蒸着さ
   せる手段とを内蔵する真空チェンバを設け、 （ｂ）前記チェンバ内の圧力が約１×１０＾−＾４トル
   以下になるまで前記チェンバから排気し、 （ｃ）分子ごとのオレフィン基が約２個以上であり、平
   均分子量が１５０乃至１，０００であり、標準温度及び
   標準圧力における蒸気圧が１×１０＾−＾６乃至１×１
   ０＾−＾１トルである硬化可能な成分を選択し、（ｄ）
   前記硬化可能な成分を前記蒸発器の入口部分へ配量し、 （ｅ）前記成分を前記蒸発器内で蒸発させ、（ｆ）前記
   蒸気出口及び前記硬化手段に対して前記可動支持体に対
   して約１ｃｍ／ｓｅｃ乃至１，０００ｃｍ／ｓｅｃの速
   度で移動させ、 （ｇ）前記蒸気出口から前記可動支持体の表面へ分配さ
   れる蒸発成分の厚さが４ミクロンまたはそれ以下の膜を
   凝縮させ、 （ｈ）前記硬化手段を作用させることにより前記可動支
   持体上にほぼ架橋状態のポリマー膜を形成し、 （ｉ）段階（ｃ）乃至（ｈ）を繰返し、 （ｊ）１層または複数層のほぼ硬化したポリマー膜上に
   無機物質の層を蒸着させることにより、複数のポリマー
   層及び少なくとも１つの無機物質層から成る多層物品を
   形成する 段階から成ることを特徴とする多層物品の高速形成方法
   。
4. （４）　複数の無機物質層を前記ポリマー層間に挟むこ
   とを特徴とする請求項第（３）項に記載の方法。
5. （５）　前記蒸発及び硬化段階に先立って前記可動支持
   体上に取外し自在な基板を配置し、前記基板上に複数の
   ポリマー層を蒸着させる段階をも含む請求項第（１）項
   、第（２）項または第（３）項に記載の方法。
6. （６）　前記物品を剥離するための剥離手段を、前記蒸
   発段階に先立って前記基板上に蒸着する段階を含むこと
   を特徴とする請求項第（１）項、第（２）項または第（
   ３）項に記載の方法。
7. （７）　前記多層物品を剥離するための剥離手段を、前
   記蒸発段階に先立って前記可動支持体上に溶着する段階
   を含むことを特徴とする請求項第（１）項、第（２）項
   または第（３）項に記載の方法。
8. （８）　前記真空チェンバ内に蒸発器の複数の蒸気出口
   を設け、 ポリアクリレート及びモノアクリレートとポリアクリレ
   ートの混合物から成る群から平均分子量が１，０００以
   下、標準温度及び標準圧力における蒸気圧が１×１０＾
   −＾６乃至１×１０＾−＾１トルの硬化可能な成分を選
   択し、 少なくとも２つの前記蒸発器の入口部分へ前記硬化可能
   な成分を配量し、 各蒸発器において前記成分を蒸発させ、 約１ｃｍ／ｓｅｃ乃至１，０００ｃｍ／ｓｅｃの速度で
   前記蒸気出口及び前記硬化手段に対して前記可動支持体
   を移動させ、 前記蒸気出口から前記可動支持体の表面に分配される気
   化状態の硬化可能な成分の厚さが４ミクロンまたはそれ
   以下の単数または複数の膜を凝縮させ、 前記硬化手段を作用させることによりほぼ架橋状態の膜
   を前記可動支持体上に形成する 段階をも含む請求項第（１）項、第（２）項または第（
   ３）項に記載の方法。
9. （９）　前記配量段階、蒸発段階、前記可動支持体を移
   動させる段階、凝縮段階及び前記硬化手段を作用させる
   段階を繰返すことにより、前記多層物品を形成するため
   の所要の数の膜を得る段階をも含むことを特徴とする請
   求項第（８）項に記載の方法。
10. （１０）　前記蒸発器の前記入口部分のそれぞれに配量
    される前記硬化可能な成分が同じであることを特徴とす
    る請求項第（９）項に記載の方法。
11. （１１）　前記群から選択される前記硬化可能な成分が
    異なることを特徴とする請求項第（１０）項に記載の方
    法。
12. （１２）　前記真空チェンバ内に、それぞれが各蒸発器
    出口の下流に位置するように複数の前記硬化手段を配置
    し、 前記支持体上の気化状態成分の膜を凝縮させたのち少な
    くとも１つの硬化手段を作用させる段階をも含むことを
    特徴とする請求項第（８）項に記載の方法。
13. （１３）　硬化可能な成分の膜を凝縮したのち前記硬化
    手段の１つを作用させることによって前記凝縮成分を交
    差結合させる段階を含むことを特徴とする請求項第（１
    ２）項に記載の方法。
14. （１４）　前記配量に先立って前記硬化可能な成分を脱
    気処理する段階をも含むことを特徴とする請求項第（１
    ）項、第（２）項または第（３）項に記載の方法。
15. （１５）　前記可動支持体が連続的に運動することを特
    徴とする請求項第（１）項、第（２）項または第（３）
    項に記載の方法。
16. （１６）　前記可動支持体が割出されることを特徴とす
    る請求項第（１）項、第（２）項または第（３）項に記
    載の方法。
17. （１７）　前記硬化可能な成分がジアクリレートである
    ことを特徴とする請求項第（１）項、第（２）項または
    第（３）項に記載の方法。
18. （１８）　前記基板が可撓性であることを特徴とする請
    求項第（５）項に記載の方法。
19. （１９）　前記可動支持体が回転ドラムから成ることを
    特徴とする請求項第（１）項、第（２）項または第（３
    ）項に記載の方法。
20. （２０）　前記可動支持体がディスクから成ることを特
    徴とする請求項第（１）項、第（２）項または第（３）
    項に記載の方法。
21. （２１）　前記可動支持体が無端ベルトから成ることを
    特徴とする請求項第（１）項、第（２）項または第（３
    ）項に記載の方法。
22. （２２）　前記硬化階段を電子ビームによって行うこと
    を特徴とする請求項第（１）項、第（２）項または第（
    ３）項に記載の方法。
23. （２３）　前記可動支持体上に連続的な多層帯状物体を
    形成し、 前記連続的な帯状物体を前記可動支持体から取外す 段階をも含むことを特徴とする請求項第（１）項、第（
    ２）項または第（３）項に記載の方法。
24. （２４）　前記可動支持体が回転ドラムであることを特
    徴とする請求項第（２３）項に記載の方法。
25. （２５）　請求項第（１）項、第（２）項または第（３
    ）項に記載の方法に従って製造された多層物品。
26. （２６）　前記製品が少なくとも１，０００層から成る
    ことを特徴とする請求項第（１）項または第（２）項に
    記載の方法に従って製造された多層物品。
27. （２７）　前記物品が少なくとも１，０００層の硬化成
    分を含むことを特徴とする請求項第（３）項に記載の方
    法に従って製造された多層物品。
28. （２８）　前記無機物質が金属であることを特徴とする
    請求項第（３）項または第（４）項に記載の方法に従っ
    て製造された多層物品。
29. （２９）　層間剥離、ピンホール及びボイドが殆んどな
    い複数のポリマー層から成り、 それぞれのポリマー層が４ミクロンまたはそれ以下の厚
    さを有し、ポリアクリレート、及びモノアクリレートと
    ポリアクリレートの混合物から成る群から選択された実
    質的に架橋状態の成分であり、 前記成分の平均分子量が１，０００以下、標準温度及び
    標準圧力における蒸気圧が１×１０＾−＾６乃至１×１
    ０＾−＾１トルである ことを特徴とする多層物品。
30. （３０）　物品が自己支持形であることを特徴とする請
    求項第（２９）項に記載の多層物品。
31. （３１）　前記ポリマー層のそれぞれが同じ成分から形
    成されていることを特徴とする請求項第（２９）項また
    は第（３０）項に記載の多層物品。
32. （３２）　前記ポリマー層が前記群を構成する異なる成
    分から形成されていることを特徴とする請求項第（２９
    ）項または第（３０）項に記載の多層物品。
33. （３３）　前記ポリマー層のそれぞれが気化状態の前記
    成分により真空中で可動支持体上に形成されることを特
    徴とする請求項第（２９）項または第（３０）項に記載
    の多層物品。
34. （３４）　前記ポリマー層の各層間の少なくとも一部に
    無機物質の層を挟んだことを特徴とする請求項第（２９
    ）項または第（３０）項に記載の多層物品。
35. （３５）　前記無機物質層のそれぞれを同じ物質で形成
    したことを特徴とする請求項第（３４）項に記載の多層
    物品。
36. （３６）　前記無機物質が金属であることを特徴とする
    請求項第（３４）項に記載の多層物品。
37. （３７）　前記ポリマー層のそれぞれがその全厚に亘っ
    て実質的に架橋状態にあることを特徴とする請求項第（
    ２９）項または第（３０）項に記載の多層物品。
38. （３８）　前記ポリマー層のそれぞれの厚さが異なるこ
    とを特徴とする請求項第（２９）項または第（３０）項
    に記載の多層物品。
39. （３９）　前記ポリマー層を前記群のうち異なる成分か
    ら形成したことを特徴とする請求項第（３８）項に記載
    の多層物品。
40. （４０）　可撓性であることを特徴とする請求項第（２
    ９）項または第（３０）項に記載の多層物品。
41. （４１）　連続的であることを特徴とする請求項第（２
    ９）項または第（３０）項に記載の多層物品。
42. （４２）　前記無機物質のうちの少なくともいくつかの
    層がその幅方向に連続的であることを特徴とする請求項
    第（３４）項に記載の多層物品。
43. （４３）　前記無機物質のうちの少なくともいくつかの
    層がその長手方向に連続的であることを特徴とする請求
    項第（３４）項に記載の多層物品。
44. （４４）　前記無機物質層のそれぞれが長手方向にも幅
    方向にも連続的であることを特徴とする請求項第（３４
    ）項に記載の多層物品。
45. （４５）　前記無機物質層のうちの少なくともいくつか
    の層が前記ポリマー層の幅よりも狭い幅を有し、前記挟
    まれている無機物質層の幅方向縁端が前記ポリマー層の
    幅方向縁端より内側に位置するように配置されているこ
    とを特徴とする請求項第（３４）項に記載の多層物品。
46. （４６）　前記無機物質層のうちの少なくともいくつか
    の層が前記ポリマー層の幅よりも大きい幅を有し、前記
    挟まれている無機物質層の幅方向縁端が前記ポリマー層
    の幅方向縁端より外側に位置するように配置されている
    ことを特徴とする請求項第（３４）項に記載の多層物品
    。
47. （４７）　前記層の幅を変化させることにより前記物品
    の側壁を傾斜させたことを特徴とする請求項第（２９）
    項または第（３０）項に記載の多層物品。
48. （４８）　単数または複数の層の厚さが幅方向に変化す
    ることを特徴とする請求項第（２９）項または第（３０
    ）項に記載の多層物品。
49. （４９）　単数または複数の層の厚さをその長さ方向に
    変化させたことを特徴とする請求項第（２９）項または
    第（３０）項に記載の多層物品。
50. （５０）　前記層を蒸着される基板をも含むことを特徴
    とする請求項第（２９）項に記載の多層物品。
51. （５１）　少なくとも５００層から成ることを特徴とす
    る請求項第（２９）項または第（３０）項に記載の多層
    物品。
52. （５２）　少なくとも１，０００層から成ることを特徴
    とする請求項第（３４）項に記載の多層物品。
53. （５３）　前記無機物質層のそれぞの厚さが４ミクロン
    以下であることを特徴とする請求項第（３４）項に記載
    の多層物品。
54. （５４）　前記成分をポリアクリレート、及びモノアク
    リレートとポリアクリレートの混合物から成る群から選
    択することを特徴とする請求項第（１）項、第（２）項
    または第（３）項に記載の方法。
55. （５５）　Ｒ＾１が式Ｒ＾１（ＯＨ）ｍの化合物から得
    られる脂肪族基、脂環基または脂肪族／脂環混合基であ
    り、 Ｒ＾２が水素、メチル、エチル、プロピル、ブチルまた
    はペンチルであり、 ｎが２乃至４、 ｍが２以上 であるとして、前記ポリアクリレートが式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされることを特徴とする請求項第（ｌ）項、第（
    ２）項または第（３）項に記載の方法。
56. （５６）　Ｒ＾２が水素、メチル、エチル、プロピル、
    ブチルまたはペンチルであり、 ｒ及びｓがそれぞれ７または８、ｒとｓ の和が１５であり、 Ｘ＾１がＨまたは ▲数式、化学式、表等があります▼　であり、 Ｘ＾３がＣＮまたはＣＯＯＲ＾３であってＲ＾３が１乃
    至４個の炭素原子を含むアルキル基であるとして、前記
    モノアクリレートが式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされることを特徴とする請求項第（１）項、第（
    ２）項または第（３）項に記載の方法。
57. （５７）　ｒおよびｓがそれぞれ７または８、ｒとｓの
    和が１５であるとして、前記ポリアクリレートが式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるジアクリレートであることを特徴とする請
    求項第（１）項、第（２）項または第（３）項に記載の
    方法。
58. （５８）　前記ポリアクリレートを （ｉ）　１，６−ヘキサン・ジオール・ジアクリレート
    、 （ｉｉ）　アルコキシ基が１乃至４個の炭素原子を含む
    としてアルコキシル化・シクロヘキサン・ジメタノール
    ・ジアクリレート、及び （III） ▲数式、化学式、表等があります▼ から成る群から選択することを特徴とする請求項第（１
    ）項、第（２）項または第（３）項に記載の方法。
59. （５９）　前記可動支持体を約−７℃乃至約８０℃の温
    度に維持することを特徴とする請求項第（１）項、第（
    ２）項または第（３）項に記載の方法。
60. （６０）　前記可動支持体が回転ドラムであり、前記ド
    ラムが約ｌ００ｃｍ／ｓｅｃの速度で前記蒸気出口及び
    前記硬化手段を通過することを特徴とする請求項第（１
    ）項、第（２）項または第（３）項に記載の方法。
61. （６１）　前記硬化手段がガス放出電子ビームであるこ
    とを特徴とする請求項第（１）項、第（２）項または第
    （３）項に記載の方法。
62. （６２）　前記蒸発器がフラッシュ蒸発器であり、前記
    成分をフラッシュ蒸発させることを特徴とする請求項第
    （１）項、第（２）項または第（３）項に記載の方法。
63. （６３）　前記蒸発器がフラッシュ蒸発器であり、前記
    成分をフラッシュ蒸発させることを特徴とする請求項第
    （８）項に記載の方法。