JPH0244509A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0244509A JPH0244509A JP63194093A JP19409388A JPH0244509A JP H0244509 A JPH0244509 A JP H0244509A JP 63194093 A JP63194093 A JP 63194093A JP 19409388 A JP19409388 A JP 19409388A JP H0244509 A JPH0244509 A JP H0244509A
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- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はＶＴＲ等の磁気記録再生装置に用いられる磁気
ヘッド及びその製造方法に関するものである。
ヘッド及びその製造方法に関するものである。
従来の技術
従来から磁気ヘッド用コア材として、フェライト材料が
用いられているが、近年の高密度記録化、高画質化の要
求にともない、高飽和磁束密度を有するパーマロイ、セ
ンダヌト、アモルファス合金等の金属磁性体を用いた磁
気ヘッドが脚光をあびている。その中でアセｌレフ１フ
合金は、耐食性、耐摩耗性等の点で優れており、高性能
磁気ヘッドとして特に有望な材料である。
用いられているが、近年の高密度記録化、高画質化の要
求にともない、高飽和磁束密度を有するパーマロイ、セ
ンダヌト、アモルファス合金等の金属磁性体を用いた磁
気ヘッドが脚光をあびている。その中でアセｌレフ１フ
合金は、耐食性、耐摩耗性等の点で優れており、高性能
磁気ヘッドとして特に有望な材料である。
磁気ヘッドの組立てにおいて、ギャップ面における両コ
ア半体の接合は、従来から信頼性の点で、ガラスの融着
によシ行なわれている。第３図は従来のアモルファス合
金を用いたヘッドの斜視図を示スモので、ヘッドコア１
１はアモルファス合金により構成され、ヘッドコアの両
側を基板１２で挟持した構造になっている。磁気ギャッ
プは非磁性材１４と低融点ガラス１６で構成され、両コ
ア半体のギャップ面での接合は低融点ガラス１５の融着
により行なわれている。
ア半体の接合は、従来から信頼性の点で、ガラスの融着
によシ行なわれている。第３図は従来のアモルファス合
金を用いたヘッドの斜視図を示スモので、ヘッドコア１
１はアモルファス合金により構成され、ヘッドコアの両
側を基板１２で挟持した構造になっている。磁気ギャッ
プは非磁性材１４と低融点ガラス１６で構成され、両コ
ア半体のギャップ面での接合は低融点ガラス１５の融着
により行なわれている。
アモルファス合金はその磁気特性を考慮すると従来のフ
ェライトヘッドで用いたように高融点ガラスを用いるこ
とはできない。アモルファス合金は一般的には第４図に
示すように、キュリー温度Ｔｃで磁化が零となシ、結晶
化温度Ｔ工付近よ）再び磁化が出て来る。磁気ヘッドと
しての特性を考慮すると透磁率が高い程望ましく、高透
磁率を得るためには、Ｔｃ以上、Ｔ８以下の温度領域で
熱処理して磁性膜中の磁気異方性を取り除く必要がある
。またＴｘ以上の温度になると、アモルファス合金は結
晶化して、透磁率が低下する。実用的には通常Ｔ工はｓ
ｏｏ′ｃ付近であり、ＴＯは磁気ヘッド材料としての飽
和磁束密度を考慮すれば、４５０℃付近以上となる。従
って、アモルファス合金を用いた両ヘッドコア半体のギ
ャップ面における接合に用いるガラスは、軟化点の低い
低融点鉛ガラスしかない。軟化点を下げるにはガラス中
の鉛の含有ｎを多くすれば良いが、これを多くすればガ
ラス自身が不安定になシ、また機械的強度が低下するな
どの問題が起こる。このため現在のところ、軟化温度が
３６００〜４ｔｓｏ”ｃ付近の低融転ガラスが実用に供
されている。
ェライトヘッドで用いたように高融点ガラスを用いるこ
とはできない。アモルファス合金は一般的には第４図に
示すように、キュリー温度Ｔｃで磁化が零となシ、結晶
化温度Ｔ工付近よ）再び磁化が出て来る。磁気ヘッドと
しての特性を考慮すると透磁率が高い程望ましく、高透
磁率を得るためには、Ｔｃ以上、Ｔ８以下の温度領域で
熱処理して磁性膜中の磁気異方性を取り除く必要がある
。またＴｘ以上の温度になると、アモルファス合金は結
晶化して、透磁率が低下する。実用的には通常Ｔ工はｓ
ｏｏ′ｃ付近であり、ＴＯは磁気ヘッド材料としての飽
和磁束密度を考慮すれば、４５０℃付近以上となる。従
って、アモルファス合金を用いた両ヘッドコア半体のギ
ャップ面における接合に用いるガラスは、軟化点の低い
低融点鉛ガラスしかない。軟化点を下げるにはガラス中
の鉛の含有ｎを多くすれば良いが、これを多くすればガ
ラス自身が不安定になシ、また機械的強度が低下するな
どの問題が起こる。このため現在のところ、軟化温度が
３６００〜４ｔｓｏ”ｃ付近の低融転ガラスが実用に供
されている。
発明が解決しようとする課題
このように、従来におけるアモルファス合金を用いた磁
気ヘッドのギャップ面における接合は、アモルファス合
金の結晶化温度Ｔ工が６００℃程度という点から、低融
点ガラス６を用いなければならず、低融点ガラス５の機
械的強度の弱さの点より、機械加工中にギャップ面で割
れが発生し、ヘッドの歩留りを低下させたり、ヘッドの
ギャップでの強度が弱いことから、ヘッドの信頼性を欠
く等の問題点が多く発生していた。本発明は、このよう
な問題点を解決した磁気ヘッド及びその製造方法を提供
することを目的とする。
気ヘッドのギャップ面における接合は、アモルファス合
金の結晶化温度Ｔ工が６００℃程度という点から、低融
点ガラス６を用いなければならず、低融点ガラス５の機
械的強度の弱さの点より、機械加工中にギャップ面で割
れが発生し、ヘッドの歩留りを低下させたり、ヘッドの
ギャップでの強度が弱いことから、ヘッドの信頼性を欠
く等の問題点が多く発生していた。本発明は、このよう
な問題点を解決した磁気ヘッド及びその製造方法を提供
することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明の磁気ヘッドは、金属磁性体例えばアモルファス
合金からなるヘッドコアの磁気ギャップを、結晶化ガラ
スを非磁性材で挟持した構造のもので構成し、ヘッドコ
アのギャップ面における接合を前記結晶化ガラスによシ
行なうものである。
合金からなるヘッドコアの磁気ギャップを、結晶化ガラ
スを非磁性材で挟持した構造のもので構成し、ヘッドコ
アのギャップ面における接合を前記結晶化ガラスによシ
行なうものである。
また本発明の磁気ヘッドの製造方法としては、ヘッドコ
ア半体の磁気ギャップ面に非磁性材を形成する工程と、
前記非磁性材上に結晶化ガラスをスパッタリングで形成
する工程と、前記結晶化ガラスで両コア半体をギャップ
面で接合する工程とを有するものである。
ア半体の磁気ギャップ面に非磁性材を形成する工程と、
前記非磁性材上に結晶化ガラスをスパッタリングで形成
する工程と、前記結晶化ガラスで両コア半体をギャップ
面で接合する工程とを有するものである。
作 用
２つのヘッドコア半体をギャップ面で接合させる熱処理
工程において、ギャップ面上の非磁性材上に形成した非
晶質状態の結晶化ガラスは、まず溶融して２つのヘッド
コア半体を接合させた後に、結晶化が進行し、ガラスの
強度が増大する。したがって、非晶質ガラスと同一の温
度で、ギャップ接合を行なうことができるとともに、接
合後は、結晶化によって強度が増大し、ヘッドコアのギ
ャップ面での接合力が高まり、ヘッド歩留り、およびヘ
ッドの信頼性が飛躍的に向上する。また結晶化ガラスと
ヘッドコア半体のギャップ面間の非磁性材は熱処理中に
結晶化ガラスとヘッドコア３を構成する磁性体とが反応
して、磁気特性を劣化させるのを防止する作用がある。
工程において、ギャップ面上の非磁性材上に形成した非
晶質状態の結晶化ガラスは、まず溶融して２つのヘッド
コア半体を接合させた後に、結晶化が進行し、ガラスの
強度が増大する。したがって、非晶質ガラスと同一の温
度で、ギャップ接合を行なうことができるとともに、接
合後は、結晶化によって強度が増大し、ヘッドコアのギ
ャップ面での接合力が高まり、ヘッド歩留り、およびヘ
ッドの信頼性が飛躍的に向上する。また結晶化ガラスと
ヘッドコア半体のギャップ面間の非磁性材は熱処理中に
結晶化ガラスとヘッドコア３を構成する磁性体とが反応
して、磁気特性を劣化させるのを防止する作用がある。
又非磁性材に結晶化ガラスをスパッタリングで形成する
ので、前記ガラスを非晶質状態とすることができる。
ので、前記ガラスを非晶質状態とすることができる。
実施例
以下、本発明の一実施例を第１図に基づいて説明する。
磁気ヘッドコアはアモルファス合金からなるヘッドコア
１の両側を基板２で挟持した構造で、両ヘッドコア半体
のギャップ面での接合は、ヘッドコア１のギャップ面上
の非磁性材４上に形成した結晶化ガラス３の融着、結晶
化によって行なわれている。本実施例では結晶化ガラス
としては、軟化点が４４０℃である鉛含有結晶化ガラス
を用いている。６は接着ガラス層である。
１の両側を基板２で挟持した構造で、両ヘッドコア半体
のギャップ面での接合は、ヘッドコア１のギャップ面上
の非磁性材４上に形成した結晶化ガラス３の融着、結晶
化によって行なわれている。本実施例では結晶化ガラス
としては、軟化点が４４０℃である鉛含有結晶化ガラス
を用いている。６は接着ガラス層である。
次に本実施例の磁気ヘッドの製造工程を第２図に基づい
て説明する。第２図ａに示すように、まず基板２０片面
上にヘッドコア１となるべきアモルファス合金をスパッ
タリング等の薄膜作製法によシ形成する。さらにその基
板２の反対側に接着ガラス層６を形成する。本実施例で
は接着ガラスとして結晶化ガラスを用いた。なお本実施
例でのアモルファス合金の特性は飽和磁束密度Ｂｓ：８
３００ｇａｕｓ ｓ、結晶化温度Ｔ、ｃ＝５７５′Ｃ，
キュリー温度Ｔｏ＝５００℃であった。
て説明する。第２図ａに示すように、まず基板２０片面
上にヘッドコア１となるべきアモルファス合金をスパッ
タリング等の薄膜作製法によシ形成する。さらにその基
板２の反対側に接着ガラス層６を形成する。本実施例で
は接着ガラスとして結晶化ガラスを用いた。なお本実施
例でのアモルファス合金の特性は飽和磁束密度Ｂｓ：８
３００ｇａｕｓ ｓ、結晶化温度Ｔ、ｃ＝５７５′Ｃ，
キュリー温度Ｔｏ＝５００℃であった。
次に第２図すに示すように各基板２を重ね合わせ、加圧
熱処理することにより積層ブロック７を作成する。この
時の熱処理によって、接着ガラス層６は結晶化し、軟化
点が非晶質時に比べ約１００℃上昇するので、以降の熱
処理によっても、この接Ｍ層は、ゆるみやけがれを生じ
ない。
熱処理することにより積層ブロック７を作成する。この
時の熱処理によって、接着ガラス層６は結晶化し、軟化
点が非晶質時に比べ約１００℃上昇するので、以降の熱
処理によっても、この接Ｍ層は、ゆるみやけがれを生じ
ない。
続いて、前記積層ブロック７を加工することにより第２
図Ｃに示すような一対のコアパー８ａ。
図Ｃに示すような一対のコアパー８ａ。
８ｂを作成する。
第２図ｄに示すように片方のコアパー８ａのギャップ面
９ａに巻線溝１ｏを形成し、ギャップ面９ａ、９ｂを平
滑に研摩し、所定の厚みのＳ ｉＯ２等の非磁性材４を
スパッタリング等の薄膜作成法で形成する。次に８１０
２上に所定の厚みの結晶化ガラス３をスパッタリングで
形成する。この時Ｓ ｉＯ２上に形成された結晶化ガラ
スは、スパッタリング法によるため、非晶質状態にある
。本実施例では５１０２の厚みを５００Å以上、結晶化
ガヌスの厚みを１００Å以上としている。しかる後、第
２図ｅに示すように各コアパーｓａ、ａｂのギャップ面
９ａ、９ｂを突き合わせて加圧熱処理する。この熱処理
工程ではＳ １０２上の結晶化ガラス３はまず溶融し、
南着をおこす。その後、徐々に結晶化が起こり、その結
果、非常に強固で、機械的強度の大きなギャップ接合が
実現できる。まだ本実施例で用いた結晶化ガラス３は熱
処理によってアモルファス合金と反応をおこし、もろく
なる性質を有している。したがって本実施例では、Ｓ
ｉＯ２層を結晶化ガラス３とギャップ面間に形成し、こ
れにより結晶化ガラス３とアモルファス合金との熱処理
による反応を防止することができた。
９ａに巻線溝１ｏを形成し、ギャップ面９ａ、９ｂを平
滑に研摩し、所定の厚みのＳ ｉＯ２等の非磁性材４を
スパッタリング等の薄膜作成法で形成する。次に８１０
２上に所定の厚みの結晶化ガラス３をスパッタリングで
形成する。この時Ｓ ｉＯ２上に形成された結晶化ガラ
スは、スパッタリング法によるため、非晶質状態にある
。本実施例では５１０２の厚みを５００Å以上、結晶化
ガヌスの厚みを１００Å以上としている。しかる後、第
２図ｅに示すように各コアパーｓａ、ａｂのギャップ面
９ａ、９ｂを突き合わせて加圧熱処理する。この熱処理
工程ではＳ １０２上の結晶化ガラス３はまず溶融し、
南着をおこす。その後、徐々に結晶化が起こり、その結
果、非常に強固で、機械的強度の大きなギャップ接合が
実現できる。まだ本実施例で用いた結晶化ガラス３は熱
処理によってアモルファス合金と反応をおこし、もろく
なる性質を有している。したがって本実施例では、Ｓ
ｉＯ２層を結晶化ガラス３とギャップ面間に形成し、こ
れにより結晶化ガラス３とアモルファス合金との熱処理
による反応を防止することができた。
その後、所定のコア幅に第２図ｅに示した切断線Ｆ１．
Ｆ２よシ切り出し、ヘッド前面を研摩して第１図に示し
たようなヘッドチップが完成する。このようにして得ら
れた磁気ヘッドは従来のヘッドに比べ、加工歩留りがす
ぐれ、また良質の磁気ギャップが実現でき、ヘッドチッ
プとしての信頼性も向上した。
Ｆ２よシ切り出し、ヘッド前面を研摩して第１図に示し
たようなヘッドチップが完成する。このようにして得ら
れた磁気ヘッドは従来のヘッドに比べ、加工歩留りがす
ぐれ、また良質の磁気ギャップが実現でき、ヘッドチッ
プとしての信頼性も向上した。
なお本発明はアモルファス合金を用いた磁気ヘッドだけ
に限定されるものではなく、他の金属磁性体や、フェラ
イト等の酸化物磁性体を用いた磁気ヘッドに応用しても
同様の効果が得られるものである。
に限定されるものではなく、他の金属磁性体や、フェラ
イト等の酸化物磁性体を用いた磁気ヘッドに応用しても
同様の効果が得られるものである。
発明の効果
ヘッドコアのギャップ面における接合を、ヘッドコアの
ギャップ面上に形成した非磁性材上の結晶化ガラスによ
って行なうことにより、ヘッドコアのギャップ面での接
合力が高まり、またガラス自身の強度も大きいことから
、磁気ヘッド加工時に生じていたギャップ割れ等の不良
が減少し、磁気ヘッド製造の歩留りが飛躍的に向上する
ほか、ヘッドチップとしての信頼性を高めることができ
る。また結晶化ガラス中の鉛の熱処理による磁性体中へ
の拡散を、結晶化ガラスとギャップ面間に設けた非磁性
材により防止することにより、良質のギャップが実現で
きる。
ギャップ面上に形成した非磁性材上の結晶化ガラスによ
って行なうことにより、ヘッドコアのギャップ面での接
合力が高まり、またガラス自身の強度も大きいことから
、磁気ヘッド加工時に生じていたギャップ割れ等の不良
が減少し、磁気ヘッド製造の歩留りが飛躍的に向上する
ほか、ヘッドチップとしての信頼性を高めることができ
る。また結晶化ガラス中の鉛の熱処理による磁性体中へ
の拡散を、結晶化ガラスとギャップ面間に設けた非磁性
材により防止することにより、良質のギャップが実現で
きる。
第１図は本発明の磁気ヘッドの実施例の斜視図、第２図
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは本発明方法の実施例における製造
工程を示す斜視図、第３図は従来の磁気ヘッドの斜視図
、第４図はアモルファス合金の温度に対する磁化を示す
特性図である。 １・・・・・・ヘッドコア、２・・・・・・基板、３・
・・・・・結晶化ガラス、４・・・・・・非磁性材。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名／−
ｍ−へノドヨア ？一基板 ３゛°玲品化カ゛ラス ４− 非砲口生材 （−ｍ−、−一−） ｋ Ｔｘ 温度 Ｔ’ｃ
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは本発明方法の実施例における製造
工程を示す斜視図、第３図は従来の磁気ヘッドの斜視図
、第４図はアモルファス合金の温度に対する磁化を示す
特性図である。 １・・・・・・ヘッドコア、２・・・・・・基板、３・
・・・・・結晶化ガラス、４・・・・・・非磁性材。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名／−
ｍ−へノドヨア ？一基板 ３゛°玲品化カ゛ラス ４− 非砲口生材 （−ｍ−、−一−） ｋ Ｔｘ 温度 Ｔ’ｃ
Claims (6)
- （１）ヘッドコアの磁気ギャップが結晶化ガラスを非磁
性材で挟持した構造のギャップ材から形成されているこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 - （２）ヘッドコアが金属磁性体により形成されているこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - （３）金属磁性体がアモルファス合金であることを特徴
とする請求項２記載の磁気ヘッド。 - （４）ヘッドコア半体の磁気ギャップ面に非磁性材を形
成する工程と、前記非磁性材上に結晶化ガラスをスパッ
タリングで形成する工程と、前記結晶化ガラスで両コア
半体をギャップ面で接合する工程とを有することを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。 - （５）ヘッドコアが金属磁性体により形成されているこ
とを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッドの製造方法。 - （６）金属磁性体がアモルファス合金であることを特徴
とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194093A JPH0775053B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| EP89307819A EP0353998B1 (en) | 1988-08-03 | 1989-08-01 | Magnetic Head |
| DE68912987T DE68912987T2 (de) | 1988-08-03 | 1989-08-01 | Magnetkopf. |
| US07/762,739 US5170301A (en) | 1988-08-03 | 1991-09-18 | Magnetic head having core parts joined by low-melting point crystallized glass with composite gap |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194093A JPH0775053B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244509A true JPH0244509A (ja) | 1990-02-14 |
| JPH0775053B2 JPH0775053B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=16318832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63194093A Expired - Lifetime JPH0775053B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0353998B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0775053B2 (ja) |
| DE (1) | DE68912987T2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55108922A (en) * | 1979-02-09 | 1980-08-21 | Tdk Corp | Magnetic head |
| JPS5654622A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
| JPS58211317A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-12-08 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS62281111A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Toshiba Corp | 磁気ヘツド |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6288109A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Hitachi Ltd | アモルフアス磁性合金磁気ヘツドおよびその製法 |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP63194093A patent/JPH0775053B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-08-01 EP EP89307819A patent/EP0353998B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-01 DE DE68912987T patent/DE68912987T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55108922A (en) * | 1979-02-09 | 1980-08-21 | Tdk Corp | Magnetic head |
| JPS5654622A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
| JPS58211317A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-12-08 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS62281111A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Toshiba Corp | 磁気ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0353998A1 (en) | 1990-02-07 |
| DE68912987T2 (de) | 1994-05-19 |
| DE68912987D1 (de) | 1994-03-24 |
| EP0353998B1 (en) | 1994-02-09 |
| JPH0775053B2 (ja) | 1995-08-09 |
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