JPH0244522Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、半導体基板や、液晶基板等の薄板状
の基板を、現像液・エツチング液・レジスト剥離
液・洗浄液などの処理液槽内に順次浸漬して処理
する浸漬型基板処理装置において用いられるカセ
ツト搬送用フツクの液切り装置に関するものであ
る。

〈従来技術〉 上記のような浸漬型基板処理装置としては、従
来より例えば第４図に示すものが知られており、
この装置においては、例えば第３図に示すような
カセツト搬送ロボツトと称する複数のカセツト搬
送装置３を備え、多数の基板１を収納したカセツ
ト２を２連式カセツト搬送装置３の揺動可能なフ
ツク３１で掛持し、カセツト２を搬送・昇降して
順次各処理槽４に浸漬して乾燥までの一貫処理が
なされるように構成されている。

ところでこのような浸漬型基板処理装置におい
ては、カセツト２やフツク３１に付着した前工程
の処理液が後工程の処理液中に混入することは望
ましくないとされているが、無視できない場合を
除き、許容される工程、例えば薬液処理工程４２
〜４６に対しては１台のカセツト搬送装置３ａを
対応させるとともに、必要に応じてカセツト搬送
用フツク３１を洗浄しうるように１つの洗浄槽４
１を設けてある。また処理槽４６〜４９に対して
は別のカセツト搬送装置３ｂを対応させるととも
に、最後の薬液処理槽４６と高純度の純水を貯溜
した超純水洗浄槽４８の間に前段洗浄槽４７を設
け、最終の薬液処理を終えたカセツト２をこの前
段洗浄槽４７であらかじめ洗浄したり、リンサー
ドライヤ４９内からカセツト２を取り出す際にフ
ツク３１から水滴が滴下して基板に付着するのを
避けるために、この前段洗浄槽４７内に設けた液
切り装置でフツク３１の水滴を吹き飛ばすように
構成されている。

上記洗浄槽４１，４７内に設けられる液切り装
置としては、従来より例えば第５図に示すものが
本出願人により提案されている（実開昭61−
153340号公報）。

それは洗浄槽４内に一対のカセツト搬送用フツ
ク３１に対応させて２組で一対でエアナイフ１０
５を設けて成り、洗浄ノズル１２８でジエツト洗
浄した後、当該フツク３１を上昇させながらフツ
ク３１に付着した水滴をエアナイフ１０５で吹き
飛ばすように構成されている。

また、この従来例のものは、エアナイフ１０５
のエア吹出孔を、フツク３１の掛持横腕部３１ｂ
の軸線方向に多数開口し、フツク３１を上昇させ
ながらフツク３１の揺動縦腕部３１ａに付着した
水滴を吹き飛ばし、第５図の実線で示す位置でフ
ツク３１の上昇を止めて掛持横腕部３１ｂに付着
した水滴を吹き飛ばして液切りをするように構成
されている。

〈考案が解決しようとする問題点〉 しかしながら、上記従来例のものは、掛持横腕
部３１ｂに付着した水滴の液切れ効果が十分とは
言えないという問題を残していた。

上記先願の考案は、有用なものであるが、なお
若干の不都合が存在することが認められる。それ
は、ある程度大きな水滴はエア吹き付けによる衝
撃にてフツク３１から即座に吹き飛ばされるが、
細かな水滴はフツク３１の表面から離れにくく、
吹き飛ばしにくい点に関しての不都合である。す
なわち、細かな水滴であつても、フツク３１の揺
動縦腕部３１に付着した水滴は、フツク３１を上
昇させる際に下方へ吹き流され、寄せ集まつて大
きな水滴となつて吹き飛ばされるから支障はない
が、しかし、掛持横腕部３１ｂに付着した細かな
水滴は、エアナイフ１０５のように多数のエア吹
出孔を掛持横腕部３１ｂの軸線方向に開口させた
ものでは、容易に吹き流すことができず、液切が
十分とは言えないという不都合がある。

さらに上記従来例のものは、多数のエア吹出孔
より不活性ガス等の高価なエアを吹き出すもので
あるため、そのエアの消費量も多くなり、ランニ
ングコストの面でコスト高となる。

本考案は、このような問題点を解決することを
目的とする。

〈問題点を解決するための手段〉 上記目的を達成するために本考案に係る液切り
装置は次のように構成される。

即ち、洗浄槽内に少なくとも一組以上のガスノ
ズルを設け、カセツト搬送用フツクに付着した洗
浄液を除去するように構成したカセツト搬送用フ
ツクの液切り装置において、 ガスノズルがフツクの掛持横腕部に対向するよ
うに配置され水平移動可能に設けられた移動ノズ
ルを備えて成り、掛持横腕部に付着した洗浄液を
当該横腕部に沿つて吹き流すように構成したこと
を特徴とするものである。

〈作用〉 フツクの掛持横腕部が移動ノズルに対応する高
さでフツクの上昇を止め、移動ノズルをフツクの
掛持横腕部に沿つて移動させながらガスを当該横
腕部に吹きつけると、横腕部に付着していた洗浄
液は横腕部に沿つて吹き流され、その風下側へ吹
き寄せられてその一端より吹き飛ばされる。これ
により、十分な流切れ効果が得られ、エアの消費
も節約できる。

〈実施例〉 以下、本考案に係るカセツト搬送フツクの液切
り装置の１実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本考案の液切り装置を備える洗浄槽内
を示す縦断正面図、第２図はその縦断側面図であ
る。

本実施例の液切り装置は２連式カセツト搬送装
置３の一対のフツク３１，３１の各揺動縦腕部３
１ａに対応させて設けられた２組で一対の固定ノ
ズル５，５・５，５と、これらの固定ノズルの下
方に位置し、一対のフツク３１，３１の各掛持横
腕部３１ｂ，３１ｂに対向するように、かつ、水
平移動可能に設けられた２組で一対の移動ノズル
１０，１０・１０，１０とを備えて成る。

各固定ノズル５は第２図に示すように、その両
端を固定具８，８によつて水平に支持されたエア
パイプ６と、このエアパイプ６に突設され、揺動
縦腕部３１ａに向けて斜め下向へエア吹き出すよ
うに設けられた複数のエア噴出具７とを具備して
成り、洗浄装置本体の下方に配設されている第１
のガス供給弁２１によつてチツ素ガスが供給され
るようになつている。

また、２組一対の移動ノズル１０，１０・１
０，１０は、各一組１０，１０がゴニオヘツド１
３によつて角度調節可能に立設された角パイプ１
２，１２と、角パイプ１２，１２の上端に固設さ
れ、フツク３１の横腕部３１ｂに向けてエアを吹
き出すように設けられたエア噴出具１１，１１を
具備して成り、上記固定ノズル５と同様に、第２
のチツ素ガス供給弁２２によつてチツ素ガスが供
給されるようになつている。

一対のゴニオヘツド１３，１３は、それぞれ中
間支持部材１４，１４を介して支持枠１５に固定
され、支持枠１５はエアシリンダ１７によつて水
平移動可能に設けられた移動枠１６の上端に固定
され、エアシリンダ１７を三位置切換弁１８で伸
縮駆動することによる移動ノズル１０，１０，１
０，１０を同時に水平移動するように構成されて
いる。

上記固定ノズル５には、処理槽４の前面に設け
たエア中継具２３を介してエア供給路２４が接続
され、また、移動ノズル１０には移動板１６に設
けたエア中継具２５を介してエア供給路２６が接
続され、前記エア供給弁２１，２２を切換作動す
ることにより順次固定ノズル５と移動ノズル１０
とにエアを切換えて供給するように構成されてい
る。

上記移動ノズル１０のエア噴出具１１には、フ
ツク３１の横腕部３１ｂの軸線方向に向かう正面
向きよりも、後述する排気ダクト４０の向きへ若
干傾斜させてエア噴出孔が開口されており、移動
ノズル１０，１０をフツクの横腕部３１ｂに沿つ
て移動させながらエアを吹き付けると、横腕部３
１ｂに付着している洗浄液を当該横腕部３１ｂに
沿つて吹き流すようになつている。

なお、図中符号２８はフツクに洗浄液を噴射す
る洗浄液噴射ノズルであり、カセツト搬送装置３
を下降させることによりフツク３１を洗浄槽４内
に挿入しながら弁２８ａを開いて洗浄液を噴射さ
せてフツク３１を洗浄し、洗浄液は洗浄槽４の下
壁より連出したドレイン２９より排出されるよう
になつている。

次に上記実施例装置の動作について説明する。

洗浄後の洗浄液が付着したフツク３１は、第２
図の仮想線で示す下限位置にある。カセツト搬送
装置３を上昇させながら、ガス供給弁２１を開い
て固定ノズル５よりエアをフツク３１の縦腕部３
１ａに向けて噴出させると、縦腕部３１ａに付着
していた洗浄液はその縦腕部３１ａに沿つて流下
する。次いで、フツク３１の横腕部３１ｂが第１
図、第２図の実線で示す位置まで上昇した高さで
フツク３１の上昇を止める。必要により、フツク
３１の横腕部３１ｂを実線位置以上に上昇させ、
縦腕部３１ａに付着した液滴を完全に流下させた
後、再び横腕部３１ｂを実線位置に下降して止め
るようにしても良い。この状態でエアシリンダ１
７を伸長作動させておいてから、エアシリンダ１
７を縮めさせることにより、移動ノズル１０をフ
ツク３１の横腕部３１ｂに沿つて水平移動させる
のであるが、このエアシリンダ１７を縮める際
に、ガス供給弁２２を開いて移動ノズル１０より
チツ素ガスをこの横腕部３１ｂに向けて吹き付け
る。そうすると、横腕部３１ｂに付着していた洗
浄液は横腕部３１ｂに沿つて吹き流され、風下側
に吹き寄せられ、ついてはその一端部より吹き飛
ばされる。なお、符号４０は移動ノズル１０の風
下側に対応させて洗浄槽４の前面壁より連出して
設けた排気ダクトである。

上記実施例装置は、洗浄槽４内に洗浄液を貯溜
しないタイプのもの、つまり、フツクのみを洗浄
するタイプのもの（例えば第４図の４１）につい
て説明したが、カセツトごと洗浄することが可能
な洗浄槽（例えば第４図の４７）においても適用
しうる。この場合には、各一組の固定ノズル５，
５のうち、内側のものを第１図の仮想線で示す位
置まで回転可能に設け、カセツトの挿入に際し邪
魔にならない位置へ退避させるように構成すると
もに、移動ノズル１０を適宜移動可能の設ける。

また、上記固定ノズル５は洗浄液の種類によつ
ては、必ずしも必要ではない。つまり、縦腕部３
１ｂに付着した洗浄液が自然流下し易い性質のも
の（例えばアルコール等）の場合には、この固定
ノズル５を省くこともできる。さらに、カセツト
搬送用フツクは上記一対の挟持式フツクに限ら
ず、単一の掛持可能なフツクでも本考案に係る液
切り装置を適用することが可能である。また、上
記実施例では固定ノズル５や移動ノズル１０から
吹き出すガスをチツ素ガスとしたが、空気でもよ
く、ガスの種類は限定しない。

〈考案の効果〉 本考案によれば、洗浄槽内に略水平移動可能に
設けた移動ノズルによつてフツクの掛持横腕部に
付着した洗浄液を当該横腕部に沿つて吹き流しな
がら風下側へ吹き寄せて、フツクの一端より吹き
飛ばすように構成されていることから、液切れ効
果に優れる。また、多数のエア吹出孔は不要であ
り、不活性ガス等の高価なガスを無駄に消費する
こともないから、ランニングコストの低減を図る
こともできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る液切り装置を備える洗浄
槽内を示す縦断正面図、第２図はその縦断側面
図、第３図〜第５図は従来例に関するもので、第
３図は２連式カセツト搬送装置の斜視図、第４図
は浸漬型基板処理装置の斜視図、第５図は液切り
装置の従来例を示す縦断正面図である。 ４……洗浄槽、５……固定ノズル、１０……移
動ノズル、１７……エアシリンダ、２１……第１
のガス供給弁、２２……第２のガス供給弁、２８
……洗浄液供給バルブ、３１……カセツト搬送用
フツク、３１ａ……揺動縦腕部、３１ｂ……掛持
横腕部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 洗浄槽内に少なくとも一組以上のガスノズル
   を設け、カセツト搬送用フツクに付着した洗浄
   液を除去するように構成したカセツト搬送用フ
   ツクの液切り装置において、 ガスノズルがフツクの掛持横腕部に対向する
   ように配置され水平移動可能に設けられた移動
   ノズルを備えて成り、掛持横腕部に付着した洗
   浄液を当該横腕部に沿つて吹き流すように構成
   したことを特徴とするカセツト搬送用フツクの
   液切り装置。 ２ ガスノズルがフツクの揺動継腕部に対向する
   ように配置された少なくとも一組の固定ノズル
   を含んで成り、ガス供給弁を介して順次固定ノ
   ズルと移動ノズルとにガスを切換えて供給する
   ように構成した実用新案登録請求の範囲第１項
   の記載のカセツト搬送用フツクの液切り装置。