JPH0247996B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D477/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
- C07D477/10—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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Description
本発明は7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸骨格
を有する新規化合物に関し、さらに詳しくは式 式中、R1は水素原子又はヒドロキシル基を表
わし;R2は式−CH2NO2、−CN→O又は
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸骨格
を有する新規化合物に関し、さらに詳しくは式 式中、R1は水素原子又はヒドロキシル基を表
わし;R2は式−CH2NO2、−CN→O又は
【式】の基を表わし、ここでAは式
【式】
又は
【式】の基を表わし、R4は水素原子
又はアルコキシカルボニル基を表わし、R5はフ
エニル基、アルコキシカルボニル基又はアルカノ
イルオキシメチル基を表わし、R6はアルキル基
を表わし、R7はフエニル基、ナフチル基、ピリ
ジル基、フリル基又はチエニル基を表わし;R3
は水素原子又は置換もしくは未置換の炭化水素基
を表わす、 で示される化合物及びその製造方法に関する。 上記式()の化合物は従来の文献に未載の新
規な化合物であり、殊にR2が−CH2NO2又は
エニル基、アルコキシカルボニル基又はアルカノ
イルオキシメチル基を表わし、R6はアルキル基
を表わし、R7はフエニル基、ナフチル基、ピリ
ジル基、フリル基又はチエニル基を表わし;R3
は水素原子又は置換もしくは未置換の炭化水素基
を表わす、 で示される化合物及びその製造方法に関する。 上記式()の化合物は従来の文献に未載の新
規な化合物であり、殊にR2が−CH2NO2又は
【式】を表わす場合の式()の化合物
はそれ自体各種病原菌に対する優れた抗菌活性を
示すと共に、β−ラクタマーゼ生産性耐性菌に対
する既知のβ−ラクタム系抗生物質の抗菌力を増
進する能力を有し、抗菌剤又は抗菌力増進剤の有
効成分として、細菌感染症の予防、治療及び/ま
たは処置のために使用することができる。 また、R2が−CN→Oを表わす場合の式()
の化合物は反応性に富み、R2が
示すと共に、β−ラクタマーゼ生産性耐性菌に対
する既知のβ−ラクタム系抗生物質の抗菌力を増
進する能力を有し、抗菌剤又は抗菌力増進剤の有
効成分として、細菌感染症の予防、治療及び/ま
たは処置のために使用することができる。 また、R2が−CN→Oを表わす場合の式()
の化合物は反応性に富み、R2が
【式】
を表わす場合の式()の化合物又はこの他のさ
らに抗菌活性に優れた有用性の高いカルバペネム
誘導体を合成する際の中間体としても使用するこ
とが可能である。 上記式()において「アルキル基」並びに
「アルコキシカルボニル基」及び「アルカノイル
オキシメチル基」におけるアルキル部分としては
直鎖状又は分岐鎖状のいずれのタイプのものであ
つてもよく、一般に低級のもの、すなわち炭素原
子数が6個以下、好ましくは4個以下のものが適
している。しかして「アルキル基」としては例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル基等が挙げられ、「アル
コキシカルボニル基」としては例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル基等が包含され、また、「アルカノ
イルオキシメチル基」としては、アセチルオキシ
メチル、プロピオニルオキシメチル、イソバレリ
ルオキシメチル基等が挙げられる。 他方、前記式()の化合物の2−位のカルボ
キシ側鎖におけるR3は水素原子又はエステル残
基であり、このエステル残基としては具体的には
以下に述べる置換もしくは未置換の炭化水素基が
包含される。 (1) 置換又は未置換のアルキル、アルケニル又は
アルキニル基; (2) シクロアルキル基; (3) シクロアルキル−アルキル基; (4) 置換又は未置換のアリール基; (5) 置換又は未置換のアラルキル基; (6) 複素環式−アルキル基。 これらのエステル残基のうち、特に(5)の「置換
又は未置換のアラルキル基」が好適であり、この
アラルキル基におけるアリール部分はフエニルの
如き単環、及びナフチルの如き多環のいずれのタ
イプのものであつてもよく、また、アルキル部分
は低級のものが好ましい。該該アラルキル基は通
常7〜25個、好ましくは7〜22個、さらに好まし
くは7〜19個の炭素原子を有することができる。
しかして未置換のアラルキル基としては、例えば
ベンジル、p−tert−ブチルベンジル、p−メチ
ルベンジル、2,4−ジメチルベンジル、2,
4,6−トリメチルベンジル、ベンズヒドリル、
1,1−ジフエニルエチル、1,1−ジフエニル
プロピル、1,1−ジフエニルブチル、トリチ
ル、p−メチルトリチル等が挙げられる。一方、
置換アラルキル基における芳香核上の置換基とし
ては、中でも、ハロゲン原子、低級アルコキシ
基、アリ−ロキシ基、低級ハロアルキル基、アシ
ルオキシ基、アシルアミノ基、カルボキシル基又
はその塩、低級アルコキシカルボニル基、水酸基
及びニトロ基が好適であり、これら基で置換され
たアラルキル基の代表例には、p−クロロベンジ
ル、p−ブロモベンジル、p−メトキシベンジ
ル、p−tert−ブトキシベンジル、3,5−ビス
−tert−ブトキシ−4−ヒドロキシベンジル、m
−フエノキシベンジル、p−トリフルオロメチル
ベンジル、o−もしくはp−ピパロイルオキシベ
ンジル、p−アセトキシベンジル、p−ベンゾイ
ルオキシベンジル、p−2−エチルヘキサノイル
ベンジル、p−ベンズアミドベンジル、p−カル
ボキシベンジル(該カルボキシル基のアルカリ金
属塩の基も含む)、p−メトキシカルボニルベン
ジル、p−エトキシカルボニルベンジル、p−ブ
トキシカルボニルベンジル、p−ヒドロキシベン
ジル、o−もしくはp−ニトロベンジル、p−ク
ロロベンズヒドリル、p−メトキシベンズヒドリ
ル、p−アセトキシベンズヒドリル、p−ニトロ
ベンズヒドリル、m−もしくはp−クロロトリチ
ル、p−ブロモトリチル、p−メトキシトリチ
ル、p−エトキシトリチル、p−ニトロトリル等
が挙げられる。 本発明により提供される前記式()の化合物
の代表例としては、後記実施例に掲げるものの他
に以下のものを挙げることができる。 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸ベンジルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸ベンズヒドリルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸o−ニトロベンジルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸p−クロロベンズヒドリルエステ
ル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸p−クロロベンジルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸o.p−ジニトロベンジルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸ベンジルエステ
ル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸o−ニトロベン
ジルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−クロロベン
ジルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−クロロベン
ズヒドリルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸o.p−ジニトロ
ベンジルエステル、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸ベンジルエステル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル・ニトリルオキ
シド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸o−ニトロベンジルエステル・ニトリル
オキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−クロロベンズヒドリルエステル・ニ
トリルオキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−クロロベンジルエステル・ニトリル
オキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸o.p−ジニトロベンジルエステル・ニト
リルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキシ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸ベンジルエステルニト
リルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキシ−1−アザビシクロ〔3.2−0〕ヘプト
−2−エン−2−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸o−ニトロベンジルエ
ステル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸p−クロロベンジルエス
テル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−クロロベンズヒド
リルエステル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸o.p−ジニトロベンジ
ルエステル・ニトリルオキシド、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(メトキシカルボニル)イソキサゾリン−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−エトキシカルボニルイ
ソキサゾリン−3−イル)−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(エトキシカルボニル)イソキサゾリン−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベン
ジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−(5−イソプロピ
ルオキシカルボニルイソキサゾリン−3−イル)
−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−アセチルオキシメチル
イソキサゾリン−3−イル)−7−オキソ−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸、 6−ヒドロキシエチル−3−(5−イソバレリ
ルオキシメチルイソキサゾリン−3−イル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−エチル−3−(5−フエニルイソキサゾリ
ン−3−イル)−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(メトキシカルボニル)イソキサゾール−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−エトキシカルボニルイ
ソキサゾール−3−イル)−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(エトキシカルボニル)イソキサゾール−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベン
ジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−(5−イソプロピ
ルオキシカルボニルイソキサゾール−3−イル)
−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−アセチルオキシメチル
イソキサゾール−3−イル)−7−オキソ−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸、 6−ヒドロキシエチル)−3−(5−イソバレリ
ルオキシメチルイソキサゾール−3−イル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−エチル−3−(5−フエニルイソキサゾー
ル−3−イル)−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−(4−メチル−5
−フエニルイソキサジアゾリン−3−イル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−エチル−3−〔4−エチル−5−(2−ピリ
ジル)イソキサゾリン−3−イル〕−7−オキソ
−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4−プロピル−
5−(4−ピリジル)イソキサジアゾリン−3−
イル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕
ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベ
ンジルエステル、 6−エチル−3−〔4−イソプロピル−5−(2
−フリル)イソキサジアゾリン−3−イル〕−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4−メチル−5
−(2−チエニル)イソキサジアゾリン−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−フエニルイソキサジア
ゾール−3−イル)−7−オキソ−1−アザビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン
酸p−ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔5−(3−ピリジ
ル)イソキサゾール−3−イル〕−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸・p−ニトロベンジルエステル、 6−エチル−3−〔5−(2−ナフチル)イソキ
サジアゾール−3−イル〕−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸など。 R3が水素原子を表わす場合の式()の化合
物はまた塩の形で存在することができ、かかる塩
の例としては、ナトリウム塩、カリウム塩、リチ
ウム塩の如きアルカリ金属塩;カルシウム塩、マ
グネシウム塩の如きアルカリ土類金属塩;アルミ
ニウム塩の如きその他の金属塩;アンモニウム
塩;モノエチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン等の如き第一級、第二級または第三級ア
ミンによる塩;ベンザチン塩、プロカイン塩等の
他の有機塩基による塩、などが包含され、中でも
製薬学的に許容しうる塩が好ましく、就中、ナト
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩が好
適である。 本発明に従えば、R2が−CH2NO2を表わす場
合の前記式()の化合物、すなわち、下記式 式中、R3′は置換もしくは未置換の炭化水素基
を表わし;R1は前記の意味を有する、 で示される化合物は式 式中、Zは式−CH2CH2NHCOH3又は の基を表わし;R1及びR3′は上記の意味を有す
る、 で示される化合物を塩基の存在下にニトロメタン
と反応させることにより製造することができる。 式()の化合物とニトロメタンとの反応は、
通常溶媒の不在下にニトロメタンを大過剰に用い
て行なうことができるが、必要により、N,N−
ジメチルホルムアミド(DMF)、テトラヒドロフ
ラン(THF)、ジオキサン、ヘキサメチルホスホ
ルアミド(HMPA)、グライム等の極性溶媒中で
行なつていてもよい。後者の場合ニトロメタンは
式()の化合物1モル当り少なくとも1モル、
好ましくは10〜100モルの割合で使用するのが望
ましい。 また、上記の反応は一般に約−50℃〜約80℃、
好ましくは約−30℃〜室温の範囲内の温度におい
て、本体15分〜3時間程度で終らせることができ
る。 上記の反応は塩基の存在下に行なわれ、使用可
能な塩基としては、例えば、テトラメチルグアニ
ジン、2−ジメチルアミノ−1−ピロリン、1,
4−ジアザビシクロ〔2.2.〕オクタン、1,5−
ジアザビシクロ〔3.4.0〕ノネン−5(DBN)、1,
5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−5
(DBU)、トリエチルアミン等の有機塩基が包含
され、中でも、テトラメチルグアニジン、DBN
及びDBUが有利に用いられる。これら塩基の使
用量は特に制限されるものではないが、一般には
式()の化合物1モル当り少なくとも1/2モル、
好ましくは1〜5モルの割合で使用するのが好適
である。 上記の反応において出発原料として用いられる
式()の化合物のうち、Zが−
CH2CH2NHCOCH3を表わす場合の化合物は例
えば特開昭55−62088号公報に記載された既知の
化合物である。他方、Zが を表わす場合の式()の化合物は新規な化合物
であるが、この化合物は例えばヨーロツパ特許出
願公開第48999A1号公報に記載された既知の抗性
物質OA−6129A、OA−6129B1又はOA−
6129B2のパントイル基のα−及びγ−位の水酸
基をそれ自体公知の方法によりケタール化した
後、上記特開昭55−62088号公報に記載されてい
る如く酸化することにより容易に製造することが
できる。 かくして式(−1)の化合物が好収率で生成
し、このものはそれ自体公知の方法、例えば有機
溶媒による抽出、又はシリカゲル、バイオビーズ
(バイオラツト社製)、セフアデツクスLH−20
(フアルマシア社製)等を用いるカラムクロマト
グラフイー等により反応混合物から単離すること
ができるが、場合によつては単離せずそのままで
以下に述べる反応に供することができる。 上記の如くして得られる式(−1)は次いで
脱水することにより、R2が−CN→Oを表わす場
合の式()の化合物、すなわち、下記式 式中、R1及びR3′は上記の意味を有する、 で示される化合物に導くことができる。 式(−1)の化合物の脱水は、通常前述した
如き極性溶媒中で脱水剤で処理することにより行
なうことができる。使用しうる脱水剤としては、
例えば、クロル炭酸メチル、塩化アセチル、オキ
シ塩化リン、塩化チオニル等の酸塩物、フエニル
イソシアネート、等のイソシアネート類が挙げら
れる。これら脱水剤の使用量は特に制限されるも
のではないが、一般には式(−1)の化合物1
モル当り少なくとも1当量、好ましくは1.2〜2
当量の割合で用いるのが好適である。 反応温度は一般に約−50℃〜室温、好ましくは
約−20℃〜約0℃の範囲内とすることができ、か
かる条件下に約15分〜第3時間程度で終らせるこ
とができる。 かくして、上記式(−1)の化合物が好収率
で得られ、このものは前述の如き方法で単離する
ことができ、或いは単離することなくそのまま次
の反応に供することができる。 式(−2)の化合物はさらに、下記 R4−CH=CH−R5 () R4−C≡C−R5 () R6−N=CH−R7 () 又は R7−C≡N () 式中R4、R5、R6及びR7は前記の意味を有す
る、 で示される化合物と反応させることにより、R2
が式
らに抗菌活性に優れた有用性の高いカルバペネム
誘導体を合成する際の中間体としても使用するこ
とが可能である。 上記式()において「アルキル基」並びに
「アルコキシカルボニル基」及び「アルカノイル
オキシメチル基」におけるアルキル部分としては
直鎖状又は分岐鎖状のいずれのタイプのものであ
つてもよく、一般に低級のもの、すなわち炭素原
子数が6個以下、好ましくは4個以下のものが適
している。しかして「アルキル基」としては例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル基等が挙げられ、「アル
コキシカルボニル基」としては例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル基等が包含され、また、「アルカノ
イルオキシメチル基」としては、アセチルオキシ
メチル、プロピオニルオキシメチル、イソバレリ
ルオキシメチル基等が挙げられる。 他方、前記式()の化合物の2−位のカルボ
キシ側鎖におけるR3は水素原子又はエステル残
基であり、このエステル残基としては具体的には
以下に述べる置換もしくは未置換の炭化水素基が
包含される。 (1) 置換又は未置換のアルキル、アルケニル又は
アルキニル基; (2) シクロアルキル基; (3) シクロアルキル−アルキル基; (4) 置換又は未置換のアリール基; (5) 置換又は未置換のアラルキル基; (6) 複素環式−アルキル基。 これらのエステル残基のうち、特に(5)の「置換
又は未置換のアラルキル基」が好適であり、この
アラルキル基におけるアリール部分はフエニルの
如き単環、及びナフチルの如き多環のいずれのタ
イプのものであつてもよく、また、アルキル部分
は低級のものが好ましい。該該アラルキル基は通
常7〜25個、好ましくは7〜22個、さらに好まし
くは7〜19個の炭素原子を有することができる。
しかして未置換のアラルキル基としては、例えば
ベンジル、p−tert−ブチルベンジル、p−メチ
ルベンジル、2,4−ジメチルベンジル、2,
4,6−トリメチルベンジル、ベンズヒドリル、
1,1−ジフエニルエチル、1,1−ジフエニル
プロピル、1,1−ジフエニルブチル、トリチ
ル、p−メチルトリチル等が挙げられる。一方、
置換アラルキル基における芳香核上の置換基とし
ては、中でも、ハロゲン原子、低級アルコキシ
基、アリ−ロキシ基、低級ハロアルキル基、アシ
ルオキシ基、アシルアミノ基、カルボキシル基又
はその塩、低級アルコキシカルボニル基、水酸基
及びニトロ基が好適であり、これら基で置換され
たアラルキル基の代表例には、p−クロロベンジ
ル、p−ブロモベンジル、p−メトキシベンジ
ル、p−tert−ブトキシベンジル、3,5−ビス
−tert−ブトキシ−4−ヒドロキシベンジル、m
−フエノキシベンジル、p−トリフルオロメチル
ベンジル、o−もしくはp−ピパロイルオキシベ
ンジル、p−アセトキシベンジル、p−ベンゾイ
ルオキシベンジル、p−2−エチルヘキサノイル
ベンジル、p−ベンズアミドベンジル、p−カル
ボキシベンジル(該カルボキシル基のアルカリ金
属塩の基も含む)、p−メトキシカルボニルベン
ジル、p−エトキシカルボニルベンジル、p−ブ
トキシカルボニルベンジル、p−ヒドロキシベン
ジル、o−もしくはp−ニトロベンジル、p−ク
ロロベンズヒドリル、p−メトキシベンズヒドリ
ル、p−アセトキシベンズヒドリル、p−ニトロ
ベンズヒドリル、m−もしくはp−クロロトリチ
ル、p−ブロモトリチル、p−メトキシトリチ
ル、p−エトキシトリチル、p−ニトロトリル等
が挙げられる。 本発明により提供される前記式()の化合物
の代表例としては、後記実施例に掲げるものの他
に以下のものを挙げることができる。 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸ベンジルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸ベンズヒドリルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸o−ニトロベンジルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸p−クロロベンズヒドリルエステ
ル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸p−クロロベンジルエステル、 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸o.p−ジニトロベンジルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸ベンジルエステ
ル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸o−ニトロベン
ジルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−クロロベン
ジルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−クロロベン
ズヒドリルエステル、 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸o.p−ジニトロ
ベンジルエステル、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸ベンジルエステル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル・ニトリルオキ
シド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸o−ニトロベンジルエステル・ニトリル
オキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−クロロベンズヒドリルエステル・ニ
トリルオキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−クロロベンジルエステル・ニトリル
オキシド、 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸o.p−ジニトロベンジルエステル・ニト
リルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキシ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸ベンジルエステルニト
リルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキシ−1−アザビシクロ〔3.2−0〕ヘプト
−2−エン−2−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸o−ニトロベンジルエ
ステル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸p−クロロベンジルエス
テル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−クロロベンズヒド
リルエステル・ニトリルオキシド、 3−シアノ−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸o.p−ジニトロベンジ
ルエステル・ニトリルオキシド、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(メトキシカルボニル)イソキサゾリン−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−エトキシカルボニルイ
ソキサゾリン−3−イル)−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(エトキシカルボニル)イソキサゾリン−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベン
ジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−(5−イソプロピ
ルオキシカルボニルイソキサゾリン−3−イル)
−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−アセチルオキシメチル
イソキサゾリン−3−イル)−7−オキソ−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸、 6−ヒドロキシエチル−3−(5−イソバレリ
ルオキシメチルイソキサゾリン−3−イル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−エチル−3−(5−フエニルイソキサゾリ
ン−3−イル)−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(メトキシカルボニル)イソキサゾール−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−エトキシカルボニルイ
ソキサゾール−3−イル)−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4,5−ビス
(エトキシカルボニル)イソキサゾール−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベン
ジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−(5−イソプロピ
ルオキシカルボニルイソキサゾール−3−イル)
−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−アセチルオキシメチル
イソキサゾール−3−イル)−7−オキソ−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸、 6−ヒドロキシエチル)−3−(5−イソバレリ
ルオキシメチルイソキサゾール−3−イル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−エチル−3−(5−フエニルイソキサゾー
ル−3−イル)−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−(4−メチル−5
−フエニルイソキサジアゾリン−3−イル)−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−エチル−3−〔4−エチル−5−(2−ピリ
ジル)イソキサゾリン−3−イル〕−7−オキソ
−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4−プロピル−
5−(4−ピリジル)イソキサジアゾリン−3−
イル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕
ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベ
ンジルエステル、 6−エチル−3−〔4−イソプロピル−5−(2
−フリル)イソキサジアゾリン−3−イル〕−7
−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔4−メチル−5
−(2−チエニル)イソキサジアゾリン−3−イ
ル〕−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸、 6−エチル−3−(5−フエニルイソキサジア
ゾール−3−イル)−7−オキソ−1−アザビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン
酸p−ニトロベンジルエステル、 6−ヒドロキシエチル−3−〔5−(3−ピリジ
ル)イソキサゾール−3−イル〕−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸・p−ニトロベンジルエステル、 6−エチル−3−〔5−(2−ナフチル)イソキ
サジアゾール−3−イル〕−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸など。 R3が水素原子を表わす場合の式()の化合
物はまた塩の形で存在することができ、かかる塩
の例としては、ナトリウム塩、カリウム塩、リチ
ウム塩の如きアルカリ金属塩;カルシウム塩、マ
グネシウム塩の如きアルカリ土類金属塩;アルミ
ニウム塩の如きその他の金属塩;アンモニウム
塩;モノエチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン等の如き第一級、第二級または第三級ア
ミンによる塩;ベンザチン塩、プロカイン塩等の
他の有機塩基による塩、などが包含され、中でも
製薬学的に許容しうる塩が好ましく、就中、ナト
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩が好
適である。 本発明に従えば、R2が−CH2NO2を表わす場
合の前記式()の化合物、すなわち、下記式 式中、R3′は置換もしくは未置換の炭化水素基
を表わし;R1は前記の意味を有する、 で示される化合物は式 式中、Zは式−CH2CH2NHCOH3又は の基を表わし;R1及びR3′は上記の意味を有す
る、 で示される化合物を塩基の存在下にニトロメタン
と反応させることにより製造することができる。 式()の化合物とニトロメタンとの反応は、
通常溶媒の不在下にニトロメタンを大過剰に用い
て行なうことができるが、必要により、N,N−
ジメチルホルムアミド(DMF)、テトラヒドロフ
ラン(THF)、ジオキサン、ヘキサメチルホスホ
ルアミド(HMPA)、グライム等の極性溶媒中で
行なつていてもよい。後者の場合ニトロメタンは
式()の化合物1モル当り少なくとも1モル、
好ましくは10〜100モルの割合で使用するのが望
ましい。 また、上記の反応は一般に約−50℃〜約80℃、
好ましくは約−30℃〜室温の範囲内の温度におい
て、本体15分〜3時間程度で終らせることができ
る。 上記の反応は塩基の存在下に行なわれ、使用可
能な塩基としては、例えば、テトラメチルグアニ
ジン、2−ジメチルアミノ−1−ピロリン、1,
4−ジアザビシクロ〔2.2.〕オクタン、1,5−
ジアザビシクロ〔3.4.0〕ノネン−5(DBN)、1,
5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−5
(DBU)、トリエチルアミン等の有機塩基が包含
され、中でも、テトラメチルグアニジン、DBN
及びDBUが有利に用いられる。これら塩基の使
用量は特に制限されるものではないが、一般には
式()の化合物1モル当り少なくとも1/2モル、
好ましくは1〜5モルの割合で使用するのが好適
である。 上記の反応において出発原料として用いられる
式()の化合物のうち、Zが−
CH2CH2NHCOCH3を表わす場合の化合物は例
えば特開昭55−62088号公報に記載された既知の
化合物である。他方、Zが を表わす場合の式()の化合物は新規な化合物
であるが、この化合物は例えばヨーロツパ特許出
願公開第48999A1号公報に記載された既知の抗性
物質OA−6129A、OA−6129B1又はOA−
6129B2のパントイル基のα−及びγ−位の水酸
基をそれ自体公知の方法によりケタール化した
後、上記特開昭55−62088号公報に記載されてい
る如く酸化することにより容易に製造することが
できる。 かくして式(−1)の化合物が好収率で生成
し、このものはそれ自体公知の方法、例えば有機
溶媒による抽出、又はシリカゲル、バイオビーズ
(バイオラツト社製)、セフアデツクスLH−20
(フアルマシア社製)等を用いるカラムクロマト
グラフイー等により反応混合物から単離すること
ができるが、場合によつては単離せずそのままで
以下に述べる反応に供することができる。 上記の如くして得られる式(−1)は次いで
脱水することにより、R2が−CN→Oを表わす場
合の式()の化合物、すなわち、下記式 式中、R1及びR3′は上記の意味を有する、 で示される化合物に導くことができる。 式(−1)の化合物の脱水は、通常前述した
如き極性溶媒中で脱水剤で処理することにより行
なうことができる。使用しうる脱水剤としては、
例えば、クロル炭酸メチル、塩化アセチル、オキ
シ塩化リン、塩化チオニル等の酸塩物、フエニル
イソシアネート、等のイソシアネート類が挙げら
れる。これら脱水剤の使用量は特に制限されるも
のではないが、一般には式(−1)の化合物1
モル当り少なくとも1当量、好ましくは1.2〜2
当量の割合で用いるのが好適である。 反応温度は一般に約−50℃〜室温、好ましくは
約−20℃〜約0℃の範囲内とすることができ、か
かる条件下に約15分〜第3時間程度で終らせるこ
とができる。 かくして、上記式(−1)の化合物が好収率
で得られ、このものは前述の如き方法で単離する
ことができ、或いは単離することなくそのまま次
の反応に供することができる。 式(−2)の化合物はさらに、下記 R4−CH=CH−R5 () R4−C≡C−R5 () R6−N=CH−R7 () 又は R7−C≡N () 式中R4、R5、R6及びR7は前記の意味を有す
る、 で示される化合物と反応させることにより、R2
が式
【式】の基を表わす式()の化合
物、すなわち、下記式
式中、R1、R3′及びAは前述の意味を有する、
で示される化合物に変えることができる。
式(−2)の化合物と式()、()、()
又は()の化合物の反応は、通常、前述した如
き非プロトン性極性溶媒中にて、約−20℃〜約80
℃、好ましくは約0℃〜室温の範囲内の温度でほ
ぼ定量的に進行する。 式()、()、()又は()の化合物の使
用量も特に制限されないが、一般には式()の
化合物1モル当り少なくとも1モル、好ましくは
1.5〜10.0モルの割合で使用するのが有利である。 かくして得られる式(1−3)の化合物はそれ
自体公知の方法、例えば、反応液をベンゼン、ト
ルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル等の如き
有機溶媒で希釈した後、水又はリン酸バツフアー
などで洗浄、必要により濃縮し、更にカラムクロ
マトグラフイー、例えばシリカゲル、アルミナ、
バイオビーズ、セフアデツクスLH−20など、又
はそれらを組合わせを用いるカラムクロマトグラ
フイーによつて精製することにより反応混合物か
ら単離することができる。 なお、上記の反応において式(−2)の化合
物と反応せしめられる化合物は、いわゆるダイポ
ーラロフアイルに属するものであれば何んでも用
いることができるがその代表的な式()、()、
()又は()の化合物は一般に公知のもので
あり、或いは新規なものであつても既知化合物と
同様の方法で合成することができる。上記の反応
で使用しうる式()、()、()又は()の
化合物の代表例を示せば以下のとおりである。 式()の化合物: アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
フマル酸エステル、ケイ皮酸エステル等の各種エ
ステル化合物を挙げることができる。 式()の化合物: アセチレンジカルボン酸エステル、アセチレン
モノカルボン酸エステル、プロパギルアルコール
のエステル等の各種エステル化合物、及びフエニ
ルアセチレンを挙げることができる。 式()の化合物: アルキリデンアルキルアミン、ベンジリデンア
ルキルアミン、ピリジルメチリデンアルキルアミ
ン、フリルメチリデンアルキルアミン、チエニル
メチリデンアルキルアミンのようなシツフ塩基を
あげることができる。 式()の化合物: ベンゾニトリル、ナフチルニトリル、ピリジル
ニトリルのような芳香族ニトリル誘導体をあげる
ことができる。 以上に述べた如くして製造されるR3が置換も
しくは未置換の炭化水素基を表わす場合の式
()の化合物は、例えば、馬血と接触させるこ
と又は水素添加分解に付すことにより対応する
R3が水素原子を表わす場合の対応する式()
の化合物に変えることができ、これはさらに常法
により前述した如き塩に変えることができる。 前述したように、本発明により提供される式
()の化合物、特に前記式(−1)又は(
−3)の化合物は、優れた抗菌活性を有してお
り、この抗菌活性はそれ自体公知の寒天平板を用
いた抗菌活性測定法によつて確認することができ
る。なお、上記化合物のエステル体は寒天平板を
作成する際に、培地組成として10%馬血を混入せ
しめることによりエステル体のまま、抗菌活性を
知ることができる。 以下実施例及び参考例(原料化合物の製造例)
を掲げて本発明をさらに詳しく説明する。なお、
以下の実施例及び参考例において、PS−5、OA
−6129A、OA−6129B2は下記の化合物を意味す
る。 PS−5=3−(2−アセタミドエチル)チオ−6
−エチル−7−オキソ−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸 OA−6129A=6−エチル−3−パンテテイニル
−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸 OA−6129B2=5,6−トランス−3−パンテテ
イニル−6−(1−ヒドロキシエチル)−
7−オキソ−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸 実施例 1 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル
の製造 pS−5.pニトロベンジルS−オキシド100mg
(0.22mmole)をニトロメタン10mlに溶解後−25
℃に冷却し、テトラメチルグアニジン140μ
(1.1mmoles)を加え、同温度で30分間反応させ
た後酢酸132μ(2.2mmoles)を加える。反応液
を酢酸エチル70mlに注ぎ、水洗を3回行ない、有
機層を芒硝で乾燥した。過後溶媒を2mlで減圧
濃縮し、直ちにバイオビーズ(1.2cm×90cm)の
カラムに付し、ベンゼンにて展開させた。溶出部
でベンゼン:酢酸(3:1)展開のシリカゲル
TLCにてRf値0.42にUV吸収を有する区分を集め
て減圧乾固すると、表題化合物が48mg(58%)得
られた。このものの理化学的性状を以下に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1780(β−ラクタム)1725(エス
テ
ル)1555、1520、1350(ニトロ) UVλCH2Cl2 naxnm(ε);268(12100)NMR(CDCl3、
TMS) δ;1.07(3H、t、J=7.0Hz、CH 3−CH2) 1.65−2.00(2H、m、CH3−CH 2) 3.02(2H、d、like、J=9.0Hz、C−
4Hz) 3.22(1H、m、C−6H) 4.02(1H、dt、J=3.0Hz、J=9.0Hz、C
−5H) 5.22(1H、d、J=14.0Hz CHH−Ar) 5.31(1H、d、J=15.5Hz、CHH−
NO2) 5.49(1H、d、J=14.0Hz、CH−Ar) 5.78(1H、d、J=15.5Hz、CHH−NO2) 7.64(2H、d、J=8.5Hz、Ar.H) 8.20(2H、d、J=8.5Hz、Ar・H) この化合物へOA−6129A、p−ニトロベンジ
ルエステル.S−オキシドを原料に用いて前記条
件で処理することによつても得られる。 実施例 2 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸ベンジルエステルの製造 PS−5・ベンジルエステル・S−オキシド5
mgをニトロメタン2mlに溶解後、−25℃でテトラ
メチルグアニジン7μを加え、同温度で30分間
反応させた後、実施例1と同様に後処理及び精製
を行ない、溶出部でベンゼン:アセトン(3:
2)展開のシリカゲルTLCにてRf値0.78にUV吸
収を有する区分を集めて減圧乾固すると、表題化
合物が2.5mg得られた。 IR νCHCl3 naxcm-1;1785(β−ラクタム)1728(エス
テ
ル)1560、1340(ニトロ) 実施例 3 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕
ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロ
ベンジルエステルの製造 イソプロピリデンOA−6129B2.p−ニトロベン
ジルエステル・−オキシド44.6mg(0.07mmole)
をニトロメタン4mlに溶解後、テトラメチルグア
ニジン44μ(0.36mmole)を−25℃にて加え、
同温度で30分反応させた。反応液をシユウ酸45mg
を含む酢酸エチル50mlに注ぎ、水洗を3回行な
い、有機層を芒硝で乾燥後減圧乾固した。残渣は
少量の塩化メチレンに溶解後、LH−20(1.2cm×
90cm)のカラムに付し、アセトンにて展開し、溶
出区分でベンゼン:アセトン(1:1)展開のシ
リカゲルTLCにてRf値0.59にUV吸収を有する区
分を集めて減圧乾固すると、表題化合物が15mg
(54%)得られた。この化合物の理化学的性状を
以下に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1780(β−ラクタム)1720(エス
テ
ル)1555、1520、1350(ニトロ) UV λCH2Cl2 nax(ε);268(13100) NMR(CDCl3、TMS) δ:1.37(3H、d、J=6.5Hz、CH 3−CH) 2.98(2H、d、like、J=9.0Hz、C−
4Hz) 3.30(1H、m、C−6H) 3.85−4.35(2H、m、C−5H、CH3−CH 5.14(1H、d、J=14.0Hz、CHH−Ar) 5.29(1H、d、J=15.0Hz、CHH−
NO2) 5.40(1H、d、J=14.0Hz、CHHH−
Ar) 5.66(1H、d、J=15.0Hz、CHH−NO2) 7.50(2H、d、J=8.5Hz、Ar.H) 8.09(2H、d、J=8.5Hz、Ar.H) 実施例 4 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 p−ニトロベンジルエステルニト
リルオキシドの製造 実施例1の方法により得られた6−エチル−3
−ニトロメチル−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル41mg(0.11mmole)を
DMF5mlに溶解した後、0℃に冷却し、トリエチ
ルアミン38μ(0.22mmole)及びクロル酸メチ
ル20μ〔0.22mole)を加え、同温度で30分間反
応させた後、酢酸エチル50mlに反応液を注ぐ、水
洗後有機層を芒硝で乾燥し、減圧乾固した後残渣
を少量のメチレンクロリドに溶解し、シリカゲル
5gのカラムに吸着させ、ベンゼン:アセトン
(20:1)及び(10:1)にて溶出させた。溶出
区分でベンゼン:アセトン(10:1)展開のシリ
カゲルTLCにてRf値0.40にUV吸収を有する区分
を集めて減圧乾固すると、20mgの表題化合物が得
られた。 この化合物の理化学的性状を以下に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;2295(ニトリル)1792(β−ラク
タ
ム)1730(エステル)1525、1355(ニトロ) UV λCH2Cl2 naxnm(ε);324(10600)、267(12000) NMR(CDCl3、TMS) δ;1.02(3H、t、J=7.5Hz、CH 3−CH2) 1.87(2H、m、CH3−CH 2) 2.98(1H、dd、J=10.0Hz、J=19.0Hz、
C−4HH) 3.17(1H、dd、J=10.0Hz、J=19.0Hz、
C−4HH) 3.28(1H、m、C−6H) 4.08(1H、dt、J=3.0Hz、J=10Hz、C
−5H) 5.32(1H、d、J=10.0Hz、CHH−Ar) 5.51(1H、d、J=14.0Hz、CHH−Ar) 7.63(2H、d、J=9.0Hz、Ar.H) 8.24(2H、d、J=9.0Hz、Ar.H) 実施例 5 6−エチル−3〔4,5−ビス(メトキシカル
ボニル)イソキサゾール−3−イル〕−7−オ
キソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジジル
エステルの合成 PS−5.p−ニトロベンジルエステル・s−オキ
サイド50mg(0.111mmol)を9mlのニトロメタン
にとかし、−30℃でテトラメチルグアニジン63.9
mg(0.55mmol)を加え、30分間反応させた。反
応液をシユウ酸100mgを含む100mlの酢酸エチルで
希釈し、飽和食塩水で洗浄(50ml×3)し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた油状物をN,N−ジメチルホルムアミド
(DMF)10mlに溶解し、氷冷した後、トリエチル
アミン42μ(0.3mmol)、クロル炭酸メチル
15.4μ(0.2mmol)を加え30分間反応させた。
同温度で19.5μ(0.159mmole)のアセチレンジ
カルボン酸メチルエステルを加え、反応温度を室
温にあげて4時間反応させた。反応液をベンゼン
50mlで希釈し、飽和食塩水で洗浄(20ml×3)し
た。ベンゼン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧留去し、残留物をベンゼン−アセ
トン混合液(50:1 ν/ν)を展開溶媒とする
シリカゲルカラムで分離精製し、20mgの表題化合
物を得た。その理化学的性状を下記に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1790(β−ラクタム)1740(エス
テ
ル)、1525、1350(ニトロ) UV λTHF naxnm(ε);268(13400)、260(12900)、2
53
(12000)、248(11300) NMR(CDCl3) ε;1.07(3H、t、J=7Hz、CH2CH 3、1.80
(2H、m、CH 2CH3)、3.27(3H、m、C−
4H2、C−6H)、3.73(3H、S、OCH3)、3.97
(3H、S、OCH3)、4.10(1H、dt、J=3、
9Hz、C−5H)、5.10(1H、d、J=14Hz、
CHHAr)、5.30(1H、d、J=14Hz、CHH
Ar)、7.43(2H、d、J=9Hz、ArH)、8.13
(2H、d、J=9Hz、ArH) MaSS(m/z);499(M+)、429(M+−EtCH=C
=O) 実施例 6 6−エチル−3−(5−メトキシカルボニルイ
ソキサゾリン−3−イル)−7−オキソ−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸p−ニトロベンジルエステルの合
成 PS−5.p−ニトロベンジルエステル・s・オキ
サイド50mgを用い、実施例1と同様にして合成し
た3−ニトロメチル誘導体を5mlのDMFに溶解
し、氷冷下でクロル炭酸メチル15.4μ
(0.2mmol)とトリエチルアミン42μを加え3分
間反応させた。同温度でアクリル酸メチル25.8mg
(0.3mmol)を加え、室温で4時間反応させた。
反応液を30mlのベンゼンで希釈し、飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去し、得られた油状物をベンゼン−ア
セトン混合液(25:1ν/ν)を展開溶媒としてシ
リカゲルカラムで分離精製し、25mgの表題化合物
を得た。その理化学的性状を下記に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1785(β−ラクタム)、1740(エ
ス
テル)、1525、1350(ニトロ)、 UV λTHF naxnm(ε);325(12300)、269(12000)、
262.5(14200)、257.5(13600)、251(12200)、 NMR(CDCl3) δ;1.05(3H、t、J=7Hz、CH2CH3)、1.85
(2H、m、CH 2CH3)、3.00〜3.80(5H、m、
C−4H2、C−6H、C−4′H2)、3.75(3H、
s、OCH3)、3.93(1H、dt、J=3、9Hz、
C−5H)、5.10(1H、m、C−5′H)、5.20
(1H、d、J=14Hz、CHHAr)、5.45
(1H、d、J=14Hz、CHHAr)、7.60(2H、
d、J=9Hz、ArH)、8.20(2H、d、J=
9Hz、ArH)。 Mass(m/z);443(M+)、374、314。 実施例 7 6−エチル−3−(4−メチル−5−フエニル
イソキサジアゾリン−3−イル)−7−オキソ
−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸・p−ニトロベンジルエス
テルの合成 PS−5・p−ニトロベンジルエステル−s−
オキサイド50mgを用い、実施例1と同様にして合
成した3−ニトロメチル誘導体を5mlのDMFに
とかし、氷冷下でトリエチルアミン42μとクロ
ル炭酸メチル15.4μを加え、30分間反応させた。
同温度でベンジリデンメチルアミン47.6mg
(0.4mmol)を加え、室温で4時間反応させた。
反応液を20mlのベンゼンで希釈し、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減
圧留去した。得られた油状物をベンゼン−アセト
ンの混合液(50:1ν/ν)を展開溶媒としたシリ
カゲル(マリンクロツトCC−7)カラムで精製
し、18mgの表題化合物を得た。その理化学的性状
を下記に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1790(β−ラクタム)、1735(エ
ス
テル)、1525、1350(ニトロ) UV λTHF naxnm(ε);270(11000)、264(10700)、2
61
(10000)、255(8800)。 NMR(CDCl3 δ;1.03(3H、t、J=7Hz、CH2CH 3)、1.80
(2H、m、CH 2CH3)、2.50(3H、s、N−
CH3)、3.16(3H、m、C−4Hz、C−6H)、
4.06(1H、m、C−5H)、5.26(1H、d、J
=14Hz、CHHAr)、5.43(1H、d、J=
14Hz、CHHAr)、5.83、5.90(1H、s、C
−5′H)、7.33(5H、m、ArH)、7.63(2H、
d、J=9Hz、ArH)、8.13(2H、d、J=
9Hz、ArH) Mass(m/z);476(M+)、406(M+−EtCH=C
=O) 参考例 1 抗生物質OA−6129B2.p−ニトロベンジルエス
テルのイソプロピリデン化法 前記ヨーロツパ特許出願公開第48999A1号公報
の実施例5の方法によつて得られる抗生物質OA
−6129B2.p−ニトロベンジルエステル20mgをアセ
トン5.0ml、2.2−ジメトキシプロパン2.0ml、硫酸
ナトリウム(無水)100mgの混合溶媒に溶解させ、
室通で撹拌しながらp−トルエンスルホン酸0.5
mgを加える。30分間反応させた後、反応液にトリ
エチルアミンμを加え、5分間撹拌した。反応
液を減圧留去し、残渣に30mlのメチレンクロライ
ドを加え、0.1Mリン酸緩衝液(PH8.4)20mlで
洗浄後、抽出層を硫酸ナトリウム(無水)で脱水
し、減圧留去した。残渣を少量のメチレンクロラ
イドに溶解し、ベンゼン/アセトン(2/1)で
充填したシリカゲル2gのカラムに吸着させた。
ベンゼン/アセトン(2/1)、(1/1)、(1/
2)の混合溶媒で順次展開し、ベンゼン/アセト
ン(1/1)から(1/2)で液出する区分を集
めて、濃縮すると、ベンゼン/アセトン(1/
4)の混合溶媒展開のシリカゲルTLCにて、Rf
値(0.64)を示す標題のイソ・プロピリデン化物
(抗生物質OA−6129B2・p−ニトロベンジルエ
ステル・9′,11′−o−イソプロピリデン)6.6mg
が得られた。 この化合物の理化学的性状を以下に示す。 (1) 比旋光度 〔α〕24 D 55.1゜(c=0.5、CH2Cl2) (2) UVスペクトル λCH2Cl2 naxnm(ε):319(9700)、270(11900) (3) IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1778(β−ラクタム)1700(エス
テル)1668(アミド) 参考例 2 抗生物質OA−6129B2.p−ニトロベンジルエス
テル・9′,11′−o−イソプロピリデンのS−
酸化法 抗生物質OA−6129B2・p−ニトロベンジルエ
ステル・9′,11′−o−イソプロピリデン110mgを
メチレンクロライド7.7mlに溶解後、−30℃に冷却
し、m−クロロ過安息香酸42.9mgを含むメチレン
クロライド溶液を滴下し、同温度で30分間反応さ
せた。この反応液をメチレンクロライド20ml中に
注ぎ、飽和重炭酸ナトリウム水溶液にて洗浄し、
さらにリン酸緩衝液(pH6.80)にて洗浄し、有
機層を硫酸ナトリウム(無水)で脱水し、減圧濃
縮した。この残渣をベンゼン/アセトン(2/
1)で充填したシリカゲル5gに吸着させ、ベン
ゼン/アセトン(1/1)、(1/3)、(1/10)
にて溶出し、ベンゼン/アセトン(1/3)のシ
リカゲルTLCにて、Rf値0.24にUV吸収(波長
2537Å)を示す区分を減圧濃縮し乾固すると、S
−酸化物81.8mgが得られた。該化合物の理化学的
性状は以下の通りである。 (1) 比旋光度 〔α〕23.5 D 18.5゜(c=1.0、CHCl3) (2) UVスペクトル λCHCl3 naxnm(ε):314(7400)、268(12100) (3) NMRスペクトル(CDCl3、δ(ppm)) 0.97(3H、s、
又は()の化合物の反応は、通常、前述した如
き非プロトン性極性溶媒中にて、約−20℃〜約80
℃、好ましくは約0℃〜室温の範囲内の温度でほ
ぼ定量的に進行する。 式()、()、()又は()の化合物の使
用量も特に制限されないが、一般には式()の
化合物1モル当り少なくとも1モル、好ましくは
1.5〜10.0モルの割合で使用するのが有利である。 かくして得られる式(1−3)の化合物はそれ
自体公知の方法、例えば、反応液をベンゼン、ト
ルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル等の如き
有機溶媒で希釈した後、水又はリン酸バツフアー
などで洗浄、必要により濃縮し、更にカラムクロ
マトグラフイー、例えばシリカゲル、アルミナ、
バイオビーズ、セフアデツクスLH−20など、又
はそれらを組合わせを用いるカラムクロマトグラ
フイーによつて精製することにより反応混合物か
ら単離することができる。 なお、上記の反応において式(−2)の化合
物と反応せしめられる化合物は、いわゆるダイポ
ーラロフアイルに属するものであれば何んでも用
いることができるがその代表的な式()、()、
()又は()の化合物は一般に公知のもので
あり、或いは新規なものであつても既知化合物と
同様の方法で合成することができる。上記の反応
で使用しうる式()、()、()又は()の
化合物の代表例を示せば以下のとおりである。 式()の化合物: アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
フマル酸エステル、ケイ皮酸エステル等の各種エ
ステル化合物を挙げることができる。 式()の化合物: アセチレンジカルボン酸エステル、アセチレン
モノカルボン酸エステル、プロパギルアルコール
のエステル等の各種エステル化合物、及びフエニ
ルアセチレンを挙げることができる。 式()の化合物: アルキリデンアルキルアミン、ベンジリデンア
ルキルアミン、ピリジルメチリデンアルキルアミ
ン、フリルメチリデンアルキルアミン、チエニル
メチリデンアルキルアミンのようなシツフ塩基を
あげることができる。 式()の化合物: ベンゾニトリル、ナフチルニトリル、ピリジル
ニトリルのような芳香族ニトリル誘導体をあげる
ことができる。 以上に述べた如くして製造されるR3が置換も
しくは未置換の炭化水素基を表わす場合の式
()の化合物は、例えば、馬血と接触させるこ
と又は水素添加分解に付すことにより対応する
R3が水素原子を表わす場合の対応する式()
の化合物に変えることができ、これはさらに常法
により前述した如き塩に変えることができる。 前述したように、本発明により提供される式
()の化合物、特に前記式(−1)又は(
−3)の化合物は、優れた抗菌活性を有してお
り、この抗菌活性はそれ自体公知の寒天平板を用
いた抗菌活性測定法によつて確認することができ
る。なお、上記化合物のエステル体は寒天平板を
作成する際に、培地組成として10%馬血を混入せ
しめることによりエステル体のまま、抗菌活性を
知ることができる。 以下実施例及び参考例(原料化合物の製造例)
を掲げて本発明をさらに詳しく説明する。なお、
以下の実施例及び参考例において、PS−5、OA
−6129A、OA−6129B2は下記の化合物を意味す
る。 PS−5=3−(2−アセタミドエチル)チオ−6
−エチル−7−オキソ−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸 OA−6129A=6−エチル−3−パンテテイニル
−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸 OA−6129B2=5,6−トランス−3−パンテテ
イニル−6−(1−ヒドロキシエチル)−
7−オキソ−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸 実施例 1 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル
の製造 pS−5.pニトロベンジルS−オキシド100mg
(0.22mmole)をニトロメタン10mlに溶解後−25
℃に冷却し、テトラメチルグアニジン140μ
(1.1mmoles)を加え、同温度で30分間反応させ
た後酢酸132μ(2.2mmoles)を加える。反応液
を酢酸エチル70mlに注ぎ、水洗を3回行ない、有
機層を芒硝で乾燥した。過後溶媒を2mlで減圧
濃縮し、直ちにバイオビーズ(1.2cm×90cm)の
カラムに付し、ベンゼンにて展開させた。溶出部
でベンゼン:酢酸(3:1)展開のシリカゲル
TLCにてRf値0.42にUV吸収を有する区分を集め
て減圧乾固すると、表題化合物が48mg(58%)得
られた。このものの理化学的性状を以下に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1780(β−ラクタム)1725(エス
テ
ル)1555、1520、1350(ニトロ) UVλCH2Cl2 naxnm(ε);268(12100)NMR(CDCl3、
TMS) δ;1.07(3H、t、J=7.0Hz、CH 3−CH2) 1.65−2.00(2H、m、CH3−CH 2) 3.02(2H、d、like、J=9.0Hz、C−
4Hz) 3.22(1H、m、C−6H) 4.02(1H、dt、J=3.0Hz、J=9.0Hz、C
−5H) 5.22(1H、d、J=14.0Hz CHH−Ar) 5.31(1H、d、J=15.5Hz、CHH−
NO2) 5.49(1H、d、J=14.0Hz、CH−Ar) 5.78(1H、d、J=15.5Hz、CHH−NO2) 7.64(2H、d、J=8.5Hz、Ar.H) 8.20(2H、d、J=8.5Hz、Ar・H) この化合物へOA−6129A、p−ニトロベンジ
ルエステル.S−オキシドを原料に用いて前記条
件で処理することによつても得られる。 実施例 2 6−エチル−3−ニトロメチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸ベンジルエステルの製造 PS−5・ベンジルエステル・S−オキシド5
mgをニトロメタン2mlに溶解後、−25℃でテトラ
メチルグアニジン7μを加え、同温度で30分間
反応させた後、実施例1と同様に後処理及び精製
を行ない、溶出部でベンゼン:アセトン(3:
2)展開のシリカゲルTLCにてRf値0.78にUV吸
収を有する区分を集めて減圧乾固すると、表題化
合物が2.5mg得られた。 IR νCHCl3 naxcm-1;1785(β−ラクタム)1728(エス
テ
ル)1560、1340(ニトロ) 実施例 3 6−(1−ヒドロキシエチル)−3−ニトロメチ
ル−7−オキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕
ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロ
ベンジルエステルの製造 イソプロピリデンOA−6129B2.p−ニトロベン
ジルエステル・−オキシド44.6mg(0.07mmole)
をニトロメタン4mlに溶解後、テトラメチルグア
ニジン44μ(0.36mmole)を−25℃にて加え、
同温度で30分反応させた。反応液をシユウ酸45mg
を含む酢酸エチル50mlに注ぎ、水洗を3回行な
い、有機層を芒硝で乾燥後減圧乾固した。残渣は
少量の塩化メチレンに溶解後、LH−20(1.2cm×
90cm)のカラムに付し、アセトンにて展開し、溶
出区分でベンゼン:アセトン(1:1)展開のシ
リカゲルTLCにてRf値0.59にUV吸収を有する区
分を集めて減圧乾固すると、表題化合物が15mg
(54%)得られた。この化合物の理化学的性状を
以下に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1780(β−ラクタム)1720(エス
テ
ル)1555、1520、1350(ニトロ) UV λCH2Cl2 nax(ε);268(13100) NMR(CDCl3、TMS) δ:1.37(3H、d、J=6.5Hz、CH 3−CH) 2.98(2H、d、like、J=9.0Hz、C−
4Hz) 3.30(1H、m、C−6H) 3.85−4.35(2H、m、C−5H、CH3−CH 5.14(1H、d、J=14.0Hz、CHH−Ar) 5.29(1H、d、J=15.0Hz、CHH−
NO2) 5.40(1H、d、J=14.0Hz、CHHH−
Ar) 5.66(1H、d、J=15.0Hz、CHH−NO2) 7.50(2H、d、J=8.5Hz、Ar.H) 8.09(2H、d、J=8.5Hz、Ar.H) 実施例 4 3−シアノ−6−エチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 p−ニトロベンジルエステルニト
リルオキシドの製造 実施例1の方法により得られた6−エチル−3
−ニトロメチル−7−オキソ−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル41mg(0.11mmole)を
DMF5mlに溶解した後、0℃に冷却し、トリエチ
ルアミン38μ(0.22mmole)及びクロル酸メチ
ル20μ〔0.22mole)を加え、同温度で30分間反
応させた後、酢酸エチル50mlに反応液を注ぐ、水
洗後有機層を芒硝で乾燥し、減圧乾固した後残渣
を少量のメチレンクロリドに溶解し、シリカゲル
5gのカラムに吸着させ、ベンゼン:アセトン
(20:1)及び(10:1)にて溶出させた。溶出
区分でベンゼン:アセトン(10:1)展開のシリ
カゲルTLCにてRf値0.40にUV吸収を有する区分
を集めて減圧乾固すると、20mgの表題化合物が得
られた。 この化合物の理化学的性状を以下に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;2295(ニトリル)1792(β−ラク
タ
ム)1730(エステル)1525、1355(ニトロ) UV λCH2Cl2 naxnm(ε);324(10600)、267(12000) NMR(CDCl3、TMS) δ;1.02(3H、t、J=7.5Hz、CH 3−CH2) 1.87(2H、m、CH3−CH 2) 2.98(1H、dd、J=10.0Hz、J=19.0Hz、
C−4HH) 3.17(1H、dd、J=10.0Hz、J=19.0Hz、
C−4HH) 3.28(1H、m、C−6H) 4.08(1H、dt、J=3.0Hz、J=10Hz、C
−5H) 5.32(1H、d、J=10.0Hz、CHH−Ar) 5.51(1H、d、J=14.0Hz、CHH−Ar) 7.63(2H、d、J=9.0Hz、Ar.H) 8.24(2H、d、J=9.0Hz、Ar.H) 実施例 5 6−エチル−3〔4,5−ビス(メトキシカル
ボニル)イソキサゾール−3−イル〕−7−オ
キソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジジル
エステルの合成 PS−5.p−ニトロベンジルエステル・s−オキ
サイド50mg(0.111mmol)を9mlのニトロメタン
にとかし、−30℃でテトラメチルグアニジン63.9
mg(0.55mmol)を加え、30分間反応させた。反
応液をシユウ酸100mgを含む100mlの酢酸エチルで
希釈し、飽和食塩水で洗浄(50ml×3)し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた油状物をN,N−ジメチルホルムアミド
(DMF)10mlに溶解し、氷冷した後、トリエチル
アミン42μ(0.3mmol)、クロル炭酸メチル
15.4μ(0.2mmol)を加え30分間反応させた。
同温度で19.5μ(0.159mmole)のアセチレンジ
カルボン酸メチルエステルを加え、反応温度を室
温にあげて4時間反応させた。反応液をベンゼン
50mlで希釈し、飽和食塩水で洗浄(20ml×3)し
た。ベンゼン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧留去し、残留物をベンゼン−アセ
トン混合液(50:1 ν/ν)を展開溶媒とする
シリカゲルカラムで分離精製し、20mgの表題化合
物を得た。その理化学的性状を下記に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1790(β−ラクタム)1740(エス
テ
ル)、1525、1350(ニトロ) UV λTHF naxnm(ε);268(13400)、260(12900)、2
53
(12000)、248(11300) NMR(CDCl3) ε;1.07(3H、t、J=7Hz、CH2CH 3、1.80
(2H、m、CH 2CH3)、3.27(3H、m、C−
4H2、C−6H)、3.73(3H、S、OCH3)、3.97
(3H、S、OCH3)、4.10(1H、dt、J=3、
9Hz、C−5H)、5.10(1H、d、J=14Hz、
CHHAr)、5.30(1H、d、J=14Hz、CHH
Ar)、7.43(2H、d、J=9Hz、ArH)、8.13
(2H、d、J=9Hz、ArH) MaSS(m/z);499(M+)、429(M+−EtCH=C
=O) 実施例 6 6−エチル−3−(5−メトキシカルボニルイ
ソキサゾリン−3−イル)−7−オキソ−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸p−ニトロベンジルエステルの合
成 PS−5.p−ニトロベンジルエステル・s・オキ
サイド50mgを用い、実施例1と同様にして合成し
た3−ニトロメチル誘導体を5mlのDMFに溶解
し、氷冷下でクロル炭酸メチル15.4μ
(0.2mmol)とトリエチルアミン42μを加え3分
間反応させた。同温度でアクリル酸メチル25.8mg
(0.3mmol)を加え、室温で4時間反応させた。
反応液を30mlのベンゼンで希釈し、飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去し、得られた油状物をベンゼン−ア
セトン混合液(25:1ν/ν)を展開溶媒としてシ
リカゲルカラムで分離精製し、25mgの表題化合物
を得た。その理化学的性状を下記に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1785(β−ラクタム)、1740(エ
ス
テル)、1525、1350(ニトロ)、 UV λTHF naxnm(ε);325(12300)、269(12000)、
262.5(14200)、257.5(13600)、251(12200)、 NMR(CDCl3) δ;1.05(3H、t、J=7Hz、CH2CH3)、1.85
(2H、m、CH 2CH3)、3.00〜3.80(5H、m、
C−4H2、C−6H、C−4′H2)、3.75(3H、
s、OCH3)、3.93(1H、dt、J=3、9Hz、
C−5H)、5.10(1H、m、C−5′H)、5.20
(1H、d、J=14Hz、CHHAr)、5.45
(1H、d、J=14Hz、CHHAr)、7.60(2H、
d、J=9Hz、ArH)、8.20(2H、d、J=
9Hz、ArH)。 Mass(m/z);443(M+)、374、314。 実施例 7 6−エチル−3−(4−メチル−5−フエニル
イソキサジアゾリン−3−イル)−7−オキソ
−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸・p−ニトロベンジルエス
テルの合成 PS−5・p−ニトロベンジルエステル−s−
オキサイド50mgを用い、実施例1と同様にして合
成した3−ニトロメチル誘導体を5mlのDMFに
とかし、氷冷下でトリエチルアミン42μとクロ
ル炭酸メチル15.4μを加え、30分間反応させた。
同温度でベンジリデンメチルアミン47.6mg
(0.4mmol)を加え、室温で4時間反応させた。
反応液を20mlのベンゼンで希釈し、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減
圧留去した。得られた油状物をベンゼン−アセト
ンの混合液(50:1ν/ν)を展開溶媒としたシリ
カゲル(マリンクロツトCC−7)カラムで精製
し、18mgの表題化合物を得た。その理化学的性状
を下記に示す。 IR νCHCl3 naxcm-1;1790(β−ラクタム)、1735(エ
ス
テル)、1525、1350(ニトロ) UV λTHF naxnm(ε);270(11000)、264(10700)、2
61
(10000)、255(8800)。 NMR(CDCl3 δ;1.03(3H、t、J=7Hz、CH2CH 3)、1.80
(2H、m、CH 2CH3)、2.50(3H、s、N−
CH3)、3.16(3H、m、C−4Hz、C−6H)、
4.06(1H、m、C−5H)、5.26(1H、d、J
=14Hz、CHHAr)、5.43(1H、d、J=
14Hz、CHHAr)、5.83、5.90(1H、s、C
−5′H)、7.33(5H、m、ArH)、7.63(2H、
d、J=9Hz、ArH)、8.13(2H、d、J=
9Hz、ArH) Mass(m/z);476(M+)、406(M+−EtCH=C
=O) 参考例 1 抗生物質OA−6129B2.p−ニトロベンジルエス
テルのイソプロピリデン化法 前記ヨーロツパ特許出願公開第48999A1号公報
の実施例5の方法によつて得られる抗生物質OA
−6129B2.p−ニトロベンジルエステル20mgをアセ
トン5.0ml、2.2−ジメトキシプロパン2.0ml、硫酸
ナトリウム(無水)100mgの混合溶媒に溶解させ、
室通で撹拌しながらp−トルエンスルホン酸0.5
mgを加える。30分間反応させた後、反応液にトリ
エチルアミンμを加え、5分間撹拌した。反応
液を減圧留去し、残渣に30mlのメチレンクロライ
ドを加え、0.1Mリン酸緩衝液(PH8.4)20mlで
洗浄後、抽出層を硫酸ナトリウム(無水)で脱水
し、減圧留去した。残渣を少量のメチレンクロラ
イドに溶解し、ベンゼン/アセトン(2/1)で
充填したシリカゲル2gのカラムに吸着させた。
ベンゼン/アセトン(2/1)、(1/1)、(1/
2)の混合溶媒で順次展開し、ベンゼン/アセト
ン(1/1)から(1/2)で液出する区分を集
めて、濃縮すると、ベンゼン/アセトン(1/
4)の混合溶媒展開のシリカゲルTLCにて、Rf
値(0.64)を示す標題のイソ・プロピリデン化物
(抗生物質OA−6129B2・p−ニトロベンジルエ
ステル・9′,11′−o−イソプロピリデン)6.6mg
が得られた。 この化合物の理化学的性状を以下に示す。 (1) 比旋光度 〔α〕24 D 55.1゜(c=0.5、CH2Cl2) (2) UVスペクトル λCH2Cl2 naxnm(ε):319(9700)、270(11900) (3) IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1778(β−ラクタム)1700(エス
テル)1668(アミド) 参考例 2 抗生物質OA−6129B2.p−ニトロベンジルエス
テル・9′,11′−o−イソプロピリデンのS−
酸化法 抗生物質OA−6129B2・p−ニトロベンジルエ
ステル・9′,11′−o−イソプロピリデン110mgを
メチレンクロライド7.7mlに溶解後、−30℃に冷却
し、m−クロロ過安息香酸42.9mgを含むメチレン
クロライド溶液を滴下し、同温度で30分間反応さ
せた。この反応液をメチレンクロライド20ml中に
注ぎ、飽和重炭酸ナトリウム水溶液にて洗浄し、
さらにリン酸緩衝液(pH6.80)にて洗浄し、有
機層を硫酸ナトリウム(無水)で脱水し、減圧濃
縮した。この残渣をベンゼン/アセトン(2/
1)で充填したシリカゲル5gに吸着させ、ベン
ゼン/アセトン(1/1)、(1/3)、(1/10)
にて溶出し、ベンゼン/アセトン(1/3)のシ
リカゲルTLCにて、Rf値0.24にUV吸収(波長
2537Å)を示す区分を減圧濃縮し乾固すると、S
−酸化物81.8mgが得られた。該化合物の理化学的
性状は以下の通りである。 (1) 比旋光度 〔α〕23.5 D 18.5゜(c=1.0、CHCl3) (2) UVスペクトル λCHCl3 naxnm(ε):314(7400)、268(12100) (3) NMRスペクトル(CDCl3、δ(ppm)) 0.97(3H、s、
【式】)
1.04(3H、s、
【式】)
1.37(3H、d、J=7.0Hz、CH3−CH−)
1.43(6H、m、
【式】)
2.41(2H、t、J=6.5Hz、CO−CH 2−
CH2−NH) 2.80〜3.80(11H、m、S−CH 2−CH 2−
NH、CO−CH2−CH 2−NH、C−4H2、C
−6H、C−CH2−O) 4.03(1H、s、O−CH−CO) 4.00〜4.50(2H、m、C−5H、C−8H) 5.19(1H、d、J=14.5Hz)、
CH2−NH) 2.80〜3.80(11H、m、S−CH 2−CH 2−
NH、CO−CH2−CH 2−NH、C−4H2、C
−6H、C−CH2−O) 4.03(1H、s、O−CH−CO) 4.00〜4.50(2H、m、C−5H、C−8H) 5.19(1H、d、J=14.5Hz)、
【式】)
5.46(1H、d、J=14.5Hz)、
【式】)
6.17(1H、m、NH)
6.95(1H、m、NH)
7.67(2H、m、Ar・H)
8.17(2H、d、Ar・H)
ΓMS(FD)
m/z 687(M+Na)、665(M+1)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式: 式中、R1は水素原子又はヒドロキシル基を表
わし;R2は式−CH2NO2、−CN→O又は
【式】の基を表わし、ここでAは式 【式】【式】【式】 又は【式】の基を表わし、R4は水素原子又 はアルコキシカルボニル基を表わし、R5はフエ
ニル基、アルコキシカルボニル基又はアルカノイ
ルオキシメチル基を表わし、R6はアルキル基を
表わし、R7はフエニル基、ナフチル基、ピリジ
ル基、フリル基又はチエニル基を表わし;R3は
水素原子又は置換もしくは未置換の炭化水素基を
表わす、 で示される化合物。 2 式 式中、R1は水素原子又はヒドロキシル基を表
わし;R3′は置換もしくは未置換の炭化水素を表
わし;Zは式−CH2CH2NHCOCH3又は の基を表わす、 で示される化合物を塩基の存在下にニトロメタン
と反応させることを特徴とする式 式中、R1及びR3′は上記の意味を有する、 で示される化合物の製造方法。 3 式、 式中、R1は水素原子又はヒドロキシル基を表
わし;R3′は置換もしくは未置換の炭化水素基を
表わす、 で示される化合物を脱水することを特徴とする式 式中、R1及びR3′は上記の意味を有する、 で示される化合物の製造方法。 4 式 式中、R1は水素原子又はヒドロキシル基を表
わし;R3′は置換もしくは未置換の炭化水素基を
表わす、 で示される化合物を式 R4−CH=CH−R5 () R4−C≡C−R5 () R6−N=CH−R7 () 又は R7−C≡N () 式中、R4は水素原子又はアルコキシカルボニ
ル基を表わし、R5はフエニル、アルコキシカル
ボニル基又はアルカノイルオキシメチル基を表わ
し、R6はアルキル基を表わし、R7はフエニル基、
ナフチル基、ピリジル基、フリル基又はチエニル
基を表わす、 で示される化合物と反応させることを特徴とする
式 式中、Aは式【式】【式】 【式】又は【式】の基を表わし; R1、R3′、R4、R5、R6及びR7は上記の意味を
有する、 で示される化合物の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57215539A JPS59106489A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 新規β−ラクタム誘導体及びその製造方法 |
| DE8383112217T DE3375786D1 (en) | 1982-12-10 | 1983-12-05 | Novel beta-lactam derivatives and process for production thereof |
| EP83112217A EP0111286B1 (en) | 1982-12-10 | 1983-12-05 | Novel beta-lactam derivatives and process for production thereof |
| AT83112217T ATE32722T1 (de) | 1982-12-10 | 1983-12-05 | Beta-lactamderivate und verfahren zu ihrer herstellung. |
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