JPH0248079Y2 - - Google Patents
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- JPH0248079Y2 JPH0248079Y2 JP1984200870U JP20087084U JPH0248079Y2 JP H0248079 Y2 JPH0248079 Y2 JP H0248079Y2 JP 1984200870 U JP1984200870 U JP 1984200870U JP 20087084 U JP20087084 U JP 20087084U JP H0248079 Y2 JPH0248079 Y2 JP H0248079Y2
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- water
- tank
- scum
- sewage treatment
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- Prior art date
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Activated Sludge Processes (AREA)
- Removal Of Floating Material (AREA)
Description
この考案は、回分式汚水処理槽の水面上に浮遊
したスカムを自動的に効率よく除去できるように
したスカム除去装置に関する。
したスカムを自動的に効率よく除去できるように
したスカム除去装置に関する。
従来、曝気・沈殿・放流を繰り返す回分式汚水
処理槽では、槽内水位が著しく変動するため、頗
ぶる複雑な構成のスカム排出装置を使用しなけれ
ばならず、しかも、その複雑構成のスカム排出装
置にあつても、回分式汚水処理工程における沈殿
工程の初期に、水面上の浮遊スカムを自動的に効
率よく排出することができない等の問題点があつ
た。 この考案は上記問題点を解消するためになされ
たもので、槽内水位が変動する条件下で回分式汚
水処理を行う汚水処理槽を対象とし、その沈殿工
程の初期において、槽内液体の循環噴射により、
槽内水面上の浮遊スカムを自動的に効率よく排出
させることができるスカム除去装置を提供するこ
とを目的とする。
処理槽では、槽内水位が著しく変動するため、頗
ぶる複雑な構成のスカム排出装置を使用しなけれ
ばならず、しかも、その複雑構成のスカム排出装
置にあつても、回分式汚水処理工程における沈殿
工程の初期に、水面上の浮遊スカムを自動的に効
率よく排出することができない等の問題点があつ
た。 この考案は上記問題点を解消するためになされ
たもので、槽内水位が変動する条件下で回分式汚
水処理を行う汚水処理槽を対象とし、その沈殿工
程の初期において、槽内液体の循環噴射により、
槽内水面上の浮遊スカムを自動的に効率よく排出
させることができるスカム除去装置を提供するこ
とを目的とする。
この考案に係るスカム除去装置は、回分式汚水
処理槽の一側壁の水面上に設けられ、該槽内の液
体を吸い込んで上記水面上に噴射し、該水面上の
浮遊スカムを上記回分式汚水処理槽の他側壁側に
噴き寄せるスカム除去用の散水装置と、上記他側
壁に設けられて槽内最高水位近傍下方に位置し、
上記浮遊スカムを導入するスカム放流ぜきと、上
記槽内最高水位を検知するレベル検知手段と、こ
のレベル検知手段が上記槽内最高水位を検知した
時、該検知信号を入力して、上記沈殿工程の初期
に、上記スカム放流ぜきの放流系路の電磁弁を開
弁またはスカム排出用ポンプを稼動すると同時に
上記散水装置を移動させる制御部とを備えたもの
である。
処理槽の一側壁の水面上に設けられ、該槽内の液
体を吸い込んで上記水面上に噴射し、該水面上の
浮遊スカムを上記回分式汚水処理槽の他側壁側に
噴き寄せるスカム除去用の散水装置と、上記他側
壁に設けられて槽内最高水位近傍下方に位置し、
上記浮遊スカムを導入するスカム放流ぜきと、上
記槽内最高水位を検知するレベル検知手段と、こ
のレベル検知手段が上記槽内最高水位を検知した
時、該検知信号を入力して、上記沈殿工程の初期
に、上記スカム放流ぜきの放流系路の電磁弁を開
弁またはスカム排出用ポンプを稼動すると同時に
上記散水装置を移動させる制御部とを備えたもの
である。
この考案におけるスカム除去装置は、回分式汚
水処理槽の沈殿工程初期において、レベル検知手
段が槽内最高水位を検知し、該検知信号を制御部
が入力することにより、該制御部は、スカム放流
ぜきの放流系路の電磁弁を開弁またはスカム排出
用ポンプを稼動すると同時に上記散水装置を稼動
させる。このとき、散水装置が槽内液体を吸い込
んで水面上に噴射することにより、該噴射水によ
つて水面上の浮遊スカムがスカム放流ぜき側に吹
き寄せられ、もつて、該スカム放流ぜきから上記
浮遊スカムが円滑かつ確実に排出される。 従つて、この考案では、散水装置専用の別途給
水源や回分式汚水処理槽とは別個の給水装置を一
切必要とせず、回分式汚水処理槽の槽内液体を、
槽内最高水位検知時に循環噴射させるだけで、上
述の如く水面上の浮遊スカムをスカム放流ぜきか
ら円滑に効率よく自動排出させることができる。
水処理槽の沈殿工程初期において、レベル検知手
段が槽内最高水位を検知し、該検知信号を制御部
が入力することにより、該制御部は、スカム放流
ぜきの放流系路の電磁弁を開弁またはスカム排出
用ポンプを稼動すると同時に上記散水装置を稼動
させる。このとき、散水装置が槽内液体を吸い込
んで水面上に噴射することにより、該噴射水によ
つて水面上の浮遊スカムがスカム放流ぜき側に吹
き寄せられ、もつて、該スカム放流ぜきから上記
浮遊スカムが円滑かつ確実に排出される。 従つて、この考案では、散水装置専用の別途給
水源や回分式汚水処理槽とは別個の給水装置を一
切必要とせず、回分式汚水処理槽の槽内液体を、
槽内最高水位検知時に循環噴射させるだけで、上
述の如く水面上の浮遊スカムをスカム放流ぜきか
ら円滑に効率よく自動排出させることができる。
以下、この考案の一実施例を図について説明す
る。 第１図、第２図に示した回分式汚水処理槽１
は、流入汚水の曝気・沈殿・放流の各工程を繰り
返すことにより、槽内水位が変動する条件下で汚
水処理を行う。 この処理槽１は、一側壁１ａに設けられて水面
上方に位置する散水装置２と、上記一側壁１ａに
対向する他側壁１ｂに設けられたスカム放流ぜき
３とを備えている。 そして、上記散水装置２による散水および該散
水に関連した上記スカム放流ぜき３からスカム排
出は、上記処理槽１の沈殿工程初期において、制
御部４により自動的に制御されるようになつてお
り、それらの関連構成を以下に述べる。 まず、上記散水装置２は、第１図〜第３図に示
すように、処理槽１の一側壁１ａに略全長に沿つ
て水面の上方に配置され、制御部４で制御駆動さ
れるポンプ５の稼動により、上記処理槽１の槽内
液体（通常は処理槽１から排出される処理済水）
を吸い込んで噴射する噴射水管７から成つてい
る。 この噴射水管７は、第３図に示すように、上記
スカム放流ぜき３方向の水面上に向けられた扇状
のスプレー（噴射ノズル）８を有して、吸込み槽
内液体を水面上に対し均等かつ広範囲に噴射でき
るようになつている。尚、第２図中の符号９は処
理槽１の流入部に小室を区切つて下方が開放した
バツフルである。 第４図および第５図には上記散水装置２の他の
実施例を示す。 この実施例の散水装置２は、上記一側壁１ａの
略全長に沿つて水面上方に固定された折曲状のガ
イド板１０と、このガイド板１０の近傍に対向配
置され、槽内液体をガイド板１０方向に噴射する
噴射水管７とから成り、清流化された液体を広範
囲に噴射できるようにしている。なお、この場
合、噴射水管７からの噴射水は、それ程広がつて
いる必要はなく、単なる孔を多数あけたものでも
よい。 以上において、上記スカム放流ぜき３のせきレ
ベルは、第１図に示すように、槽内最高水位
（H.W.L.）より△ｈ（数十ミリ）だけ下方に位置
している。 そして、上記スカム放流ぜき３の放流系路に
は、上記制御部４で開閉制御される電磁弁１１が
設けられ、その放流系路は汚泥貯留槽または汚泥
濃縮槽等の次工程に接続されている。尚、上記ス
カム放流ぜき３はポンプピツト構成とし、ここに
設けたスカム排出用ポンプのオン・オフによつ
て、スカムの排出を制御するようにしてもよい。 一方、上記制御部４は、処理槽１の槽内液体を
吸い込んで上記散水装置２に圧送するポンプ５と
上記電磁弁１１（またはスカム排出用ポンプ）を
制御するものであつて、槽内最高水位（H.W.L.）
を検知するレベル検知手段としてのレベルスイツ
チ１２を備え、このレベルスイツチ１２が槽内最
高水位（H.W.L.）を検知した時の信号を入力す
ることにより、沈殿工程初期（例えば10〜20分経
過した時点）において、上記電磁弁１１を開弁ま
たはスカム排出用ポンプを稼動させると同時に、
液体噴射系の上記ポンプ５を稼動させる。 従つて、上記ポンプ５は、その稼動時に、処理
槽１の槽内液体を吸い込んで散水装置２に圧送す
ることにより、該散水装置２は上記槽内液体を水
面上に噴射する。このため、その噴射水によつ
て、上記水面上の浮遊スカムがスカム放流ぜき３
側に吹き寄せられ、もつて、上記浮遊スカムは上
記スカム放流ぜき３から円滑かつ確実に排出され
る。 この操作は、単位時間当りの噴射水量とスカム
排除効果の程度にもよるが、沈殿工程初期にでき
るだけ短時間（例えば数分間）に完了させること
が望ましい。 尚、上記実施例において、回分式汚水処理槽１
は複槽式あるいは単槽式の何れであつてもよく、
複槽式の場合は他の槽内液を導入し、単槽式の場
合は、１日１回流入時間を槽内最高水位（H.W.
L.）になるまでとするなどの手段で槽内水位を強
制的に槽内最高水位（H.W.L.）にする手段を設
けるとよい。また、回分式汚水処理では通常、沈
殿・排出工程中は汚水の流入を行わないが、沈
殿・排出工程中に汚水を流入してもよい。
る。 第１図、第２図に示した回分式汚水処理槽１
は、流入汚水の曝気・沈殿・放流の各工程を繰り
返すことにより、槽内水位が変動する条件下で汚
水処理を行う。 この処理槽１は、一側壁１ａに設けられて水面
上方に位置する散水装置２と、上記一側壁１ａに
対向する他側壁１ｂに設けられたスカム放流ぜき
３とを備えている。 そして、上記散水装置２による散水および該散
水に関連した上記スカム放流ぜき３からスカム排
出は、上記処理槽１の沈殿工程初期において、制
御部４により自動的に制御されるようになつてお
り、それらの関連構成を以下に述べる。 まず、上記散水装置２は、第１図〜第３図に示
すように、処理槽１の一側壁１ａに略全長に沿つ
て水面の上方に配置され、制御部４で制御駆動さ
れるポンプ５の稼動により、上記処理槽１の槽内
液体（通常は処理槽１から排出される処理済水）
を吸い込んで噴射する噴射水管７から成つてい
る。 この噴射水管７は、第３図に示すように、上記
スカム放流ぜき３方向の水面上に向けられた扇状
のスプレー（噴射ノズル）８を有して、吸込み槽
内液体を水面上に対し均等かつ広範囲に噴射でき
るようになつている。尚、第２図中の符号９は処
理槽１の流入部に小室を区切つて下方が開放した
バツフルである。 第４図および第５図には上記散水装置２の他の
実施例を示す。 この実施例の散水装置２は、上記一側壁１ａの
略全長に沿つて水面上方に固定された折曲状のガ
イド板１０と、このガイド板１０の近傍に対向配
置され、槽内液体をガイド板１０方向に噴射する
噴射水管７とから成り、清流化された液体を広範
囲に噴射できるようにしている。なお、この場
合、噴射水管７からの噴射水は、それ程広がつて
いる必要はなく、単なる孔を多数あけたものでも
よい。 以上において、上記スカム放流ぜき３のせきレ
ベルは、第１図に示すように、槽内最高水位
（H.W.L.）より△ｈ（数十ミリ）だけ下方に位置
している。 そして、上記スカム放流ぜき３の放流系路に
は、上記制御部４で開閉制御される電磁弁１１が
設けられ、その放流系路は汚泥貯留槽または汚泥
濃縮槽等の次工程に接続されている。尚、上記ス
カム放流ぜき３はポンプピツト構成とし、ここに
設けたスカム排出用ポンプのオン・オフによつ
て、スカムの排出を制御するようにしてもよい。 一方、上記制御部４は、処理槽１の槽内液体を
吸い込んで上記散水装置２に圧送するポンプ５と
上記電磁弁１１（またはスカム排出用ポンプ）を
制御するものであつて、槽内最高水位（H.W.L.）
を検知するレベル検知手段としてのレベルスイツ
チ１２を備え、このレベルスイツチ１２が槽内最
高水位（H.W.L.）を検知した時の信号を入力す
ることにより、沈殿工程初期（例えば10〜20分経
過した時点）において、上記電磁弁１１を開弁ま
たはスカム排出用ポンプを稼動させると同時に、
液体噴射系の上記ポンプ５を稼動させる。 従つて、上記ポンプ５は、その稼動時に、処理
槽１の槽内液体を吸い込んで散水装置２に圧送す
ることにより、該散水装置２は上記槽内液体を水
面上に噴射する。このため、その噴射水によつ
て、上記水面上の浮遊スカムがスカム放流ぜき３
側に吹き寄せられ、もつて、上記浮遊スカムは上
記スカム放流ぜき３から円滑かつ確実に排出され
る。 この操作は、単位時間当りの噴射水量とスカム
排除効果の程度にもよるが、沈殿工程初期にでき
るだけ短時間（例えば数分間）に完了させること
が望ましい。 尚、上記実施例において、回分式汚水処理槽１
は複槽式あるいは単槽式の何れであつてもよく、
複槽式の場合は他の槽内液を導入し、単槽式の場
合は、１日１回流入時間を槽内最高水位（H.W.
L.）になるまでとするなどの手段で槽内水位を強
制的に槽内最高水位（H.W.L.）にする手段を設
けるとよい。また、回分式汚水処理では通常、沈
殿・排出工程中は汚水の流入を行わないが、沈
殿・排出工程中に汚水を流入してもよい。
以上のように、この考案によれば、回分式汚水
処理槽の沈殿工程初期において、レベル検知手段
が槽内最高水位を検知し、該検知信号を入力した
制御部がスカム放流ぜきの放流系路の電磁弁を開
弁またはスカム排出用ポンプを稼動すると同時に
上記散水装置を稼動させることにより、該散水装
置が槽内液体を吸い込んで水面上に噴射するの
で、その槽内液体の噴射によつて、水面上の浮遊
スカムを上記スカム放流ぜきから円滑かつ確実に
排出させることができる。 従つて、この考案では、散水装置専用の別途給
水源や回分式汚水処理槽とは別個の給水装置を一
切必要とせず、回分式汚水処理槽の槽内液体を、
槽内最高水位検知時に循環噴射させるだけで、上
述の如く水面上の浮遊スカムをスカム放流ぜきか
ら円滑に効率よく自動排出させることができる。
処理槽の沈殿工程初期において、レベル検知手段
が槽内最高水位を検知し、該検知信号を入力した
制御部がスカム放流ぜきの放流系路の電磁弁を開
弁またはスカム排出用ポンプを稼動すると同時に
上記散水装置を稼動させることにより、該散水装
置が槽内液体を吸い込んで水面上に噴射するの
で、その槽内液体の噴射によつて、水面上の浮遊
スカムを上記スカム放流ぜきから円滑かつ確実に
排出させることができる。 従つて、この考案では、散水装置専用の別途給
水源や回分式汚水処理槽とは別個の給水装置を一
切必要とせず、回分式汚水処理槽の槽内液体を、
槽内最高水位検知時に循環噴射させるだけで、上
述の如く水面上の浮遊スカムをスカム放流ぜきか
ら円滑に効率よく自動排出させることができる。
第１図はこの考案の一実施例によるスカム除去
装置の概略的な縦断面図、第２図は同平面図、第
３図は散水装置の要部斜視図、第４図は散水装置
の他の実施例を示す斜視図、第５図は第４図の概
略的な側面図である。 １……回分式汚水処理槽、１ａ……一側壁、１
ｂ……他側壁、２……散水装置、３……スカム放
流ぜき、４……制御部、１１……電磁弁、１２…
…レベルスイツチ（レベル検知手段）。
装置の概略的な縦断面図、第２図は同平面図、第
３図は散水装置の要部斜視図、第４図は散水装置
の他の実施例を示す斜視図、第５図は第４図の概
略的な側面図である。 １……回分式汚水処理槽、１ａ……一側壁、１
ｂ……他側壁、２……散水装置、３……スカム放
流ぜき、４……制御部、１１……電磁弁、１２…
…レベルスイツチ（レベル検知手段）。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 流入した汚水の曝気・沈殿・放流を繰り返
し、槽内水位が変動する条件下で汚水処理を行
う回分式汚水処理槽と、この回分式汚水処理槽
の一側壁の水面上に設けられ、該槽内の液体を
吸い込んで上記水面上に噴射し、該水面上の浮
遊スカムを上記回分式汚水処理槽の他側壁側に
噴き寄せるスカム除去用の散水装置と、上記他
側壁に設けられて槽内最高水位近傍下方に位置
し、上記浮遊スカムを導入するスカム放流ぜき
と、上記槽内最高水位を検知するレベル検知手
段と、このレベル検知手段が上記槽内最高水位
を検知した時、該検知信号を入力して、上記沈
殿工程の初期に、上記スカム放流ぜきの放流系
路の電磁弁を開弁またはスカム排出用ポンプを
稼動すると同時に上記散水装置を稼動させる制
御部とを備えたスカム除去装置。 (2) 上記散水装置は、回分式汚水処理槽の一側壁
の水面上に沿つて配置された噴射水管と、この
噴射水管に沿つて対向配置され、該噴射水管か
らの噴射水を清流化して、均等に反射するガイ
ド板とから成ることを特徴とする実用新案登録
請求の範囲第１項記載のスカム除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984200870U JPH0248079Y2 (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984200870U JPH0248079Y2 (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61115194U JPS61115194U (ja) | 1986-07-21 |
| JPH0248079Y2 true JPH0248079Y2 (ja) | 1990-12-17 |
Family
ID=30762123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984200870U Expired JPH0248079Y2 (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248079Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2007360031B2 (en) * | 2007-10-12 | 2013-01-24 | Utsunomiya Kogyo Co., Ltd. | Scum removing apparatus |
| JP5705616B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-04-22 | 株式会社西原環境 | 汚泥濃縮装置および汚泥濃縮方法 |
| JP5891197B2 (ja) * | 2013-04-10 | 2016-03-22 | 宇都宮工業株式会社 | スカム除去装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5290158A (en) * | 1976-01-22 | 1977-07-28 | Matsushita Electric Works Ltd | Scum blowing-collecting device |
| JPS5930158B2 (ja) * | 1980-12-27 | 1984-07-25 | 株式会社 西原環境衛生研究所 | 汚水の処理方法 |
| JPS5818909U (ja) * | 1981-07-27 | 1983-02-05 | 山田 義晴 | 後の一部が開閉自在の継ぎ衣 |
| JPS59102193U (ja) * | 1982-08-21 | 1984-07-10 | 鈴木 一衛 | 最初．最終沈澱池などにおけるスカム移送装置 |
| JPS5979285U (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-29 | 三菱重工業株式会社 | 水槽内の水面上の浮遊物除去装置 |
-
1984
- 1984-12-29 JP JP1984200870U patent/JPH0248079Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61115194U (ja) | 1986-07-21 |
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