JPH0248511A - 美爪料 - Google Patents
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- JPH0248511A JPH0248511A JP19706388A JP19706388A JPH0248511A JP H0248511 A JPH0248511 A JP H0248511A JP 19706388 A JP19706388 A JP 19706388A JP 19706388 A JP19706388 A JP 19706388A JP H0248511 A JPH0248511 A JP H0248511A
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- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は新規な美爪料に関する。さらに詳しくは有機変
性モンモリロナイト、シリカ、アニオン界面活性剤及び
非芳香族系の溶剤を配合した美爪料に関する。
性モンモリロナイト、シリカ、アニオン界面活性剤及び
非芳香族系の溶剤を配合した美爪料に関する。
すなわち、本発明は人体に安全で顔料やパール剤の沈降
がなく、経時安定性に優れ、しかも塗膜物性、使用性の
良好な美爪料に関する。
がなく、経時安定性に優れ、しかも塗膜物性、使用性の
良好な美爪料に関する。
[従来の技術]
従来から、美爪料において有機変性モンモリロナイトを
配合し、このものの粘土鉱物に由来する良好なチキソト
ロピー付与性を利用して顔料やパール剤の沈降を防ぐこ
とが行われ、そして、この場合に溶剤としてトルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素溶剤が使用されてきた。ト
ルエン等の芳香族炭化水素系溶剤は、該クレーを膨潤さ
せ最も良好なゲルを構築し、このようなゲルを含む美爪
料は比較的良好な分散安定性を示し経時的に沈降、分離
するこ上がないため、トルエン等はこの種美爪料の溶剤
として不可欠なものとされていた。
配合し、このものの粘土鉱物に由来する良好なチキソト
ロピー付与性を利用して顔料やパール剤の沈降を防ぐこ
とが行われ、そして、この場合に溶剤としてトルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素溶剤が使用されてきた。ト
ルエン等の芳香族炭化水素系溶剤は、該クレーを膨潤さ
せ最も良好なゲルを構築し、このようなゲルを含む美爪
料は比較的良好な分散安定性を示し経時的に沈降、分離
するこ上がないため、トルエン等はこの種美爪料の溶剤
として不可欠なものとされていた。
又、疎水性シリカを配合し分散安定性、経時安定性を更
に改良した例(特開昭62−174003)があるが、
これらはトルエンが必須のゲル組成物を使用するため、
必然的に美爪料にもトルエンが含有されている。一方ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤を含有しない
美爪料用ゲル組成物として、水酸基含有極性物質とフェ
ニル基含有有機シリコーン化合物を特定配合した例(特
公昭61−001044号)があり人体に安全な美爪料
についての技術が確立している。
に改良した例(特開昭62−174003)があるが、
これらはトルエンが必須のゲル組成物を使用するため、
必然的に美爪料にもトルエンが含有されている。一方ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤を含有しない
美爪料用ゲル組成物として、水酸基含有極性物質とフェ
ニル基含有有機シリコーン化合物を特定配合した例(特
公昭61−001044号)があり人体に安全な美爪料
についての技術が確立している。
[発明が解決しようとしている課題]
トルエン、キシレン等芳香族炭化水素溶剤は人体への安
全性上の問題があり、待に美爪料を頻繁に使用した場合
、爪に損傷や痛みを与える懸念のあることが知られてい
る。又、トルエン、キシレン等をまったく含有しないと
する特公昭61−001044号は人体に安全でチキソ
トロピー性を付与し、分散安定性、経時安定性もやや良
好ではあったが、安定性面では更なる改良の余地が残さ
れていた本発明者らは、このような状況に鑑み、人体に
安全で分散安定性、経時安定性に優れ、しかも塗膜物性
、使用性に優れた美爪料を開発すべく鋭意検討を重ね、
有機変性モンモリロナイト、シリカ及び非芳香族系溶剤
を含有する美爪料がこれらの問題点を解決することを見
出だした(特願昭63−67066)。しかしながら、
このものは長期の安定性という点においては、まだ十分
に満足できるものではなかった。本発明者らは、更に長
期安定性をも満足できる美爪料を開発すべく検討を重ね
た結果、有機変性モンモリロナイト、シリカ、アニオン
界面活性剤及び非芳香族系溶剤を必須に含有するものが
これらの全ての問題点を解決することを見出し本発明を
完成きせるに至った。
全性上の問題があり、待に美爪料を頻繁に使用した場合
、爪に損傷や痛みを与える懸念のあることが知られてい
る。又、トルエン、キシレン等をまったく含有しないと
する特公昭61−001044号は人体に安全でチキソ
トロピー性を付与し、分散安定性、経時安定性もやや良
好ではあったが、安定性面では更なる改良の余地が残さ
れていた本発明者らは、このような状況に鑑み、人体に
安全で分散安定性、経時安定性に優れ、しかも塗膜物性
、使用性に優れた美爪料を開発すべく鋭意検討を重ね、
有機変性モンモリロナイト、シリカ及び非芳香族系溶剤
を含有する美爪料がこれらの問題点を解決することを見
出だした(特願昭63−67066)。しかしながら、
このものは長期の安定性という点においては、まだ十分
に満足できるものではなかった。本発明者らは、更に長
期安定性をも満足できる美爪料を開発すべく検討を重ね
た結果、有機変性モンモリロナイト、シリカ、アニオン
界面活性剤及び非芳香族系溶剤を必須に含有するものが
これらの全ての問題点を解決することを見出し本発明を
完成きせるに至った。
[課題を解決するための手段]
即ち、本発明は有機変性モンモリロナイト、シリカ、ア
ニオン界面活性剤及び非芳香族系溶剤を必須として含有
する美爪料を提供するものである。
ニオン界面活性剤及び非芳香族系溶剤を必須として含有
する美爪料を提供するものである。
これまで使用されていたトルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素溶剤やフェニル基含有有機シリコン等は該クレ
ーを膨潤させ、チキソトロピー性を付与する物質であっ
た。しかし、本発明はトルエン、キシレン等をまったく
使用せず、人体に安全な非芳香族系溶剤を用い有機変性
モンモリロナイトとシリカの相互作用により優れたチキ
ソトロピー性を付与し、また、アニオン界面活性剤によ
り、長期安定性が向上し、大きな目的を達成している。
炭化水素溶剤やフェニル基含有有機シリコン等は該クレ
ーを膨潤させ、チキソトロピー性を付与する物質であっ
た。しかし、本発明はトルエン、キシレン等をまったく
使用せず、人体に安全な非芳香族系溶剤を用い有機変性
モンモリロナイトとシリカの相互作用により優れたチキ
ソトロピー性を付与し、また、アニオン界面活性剤によ
り、長期安定性が向上し、大きな目的を達成している。
以下に本発明の構成についてのべる。
本発明で用いられる有機変性モンモリロナイトは、粘土
鉱物であるモンモリロナイトに第4級アンモニウム塩型
のカチオン活性剤、又は非イオン性の高級有機極性化合
物を化学的に結合させた物質であって、市販品として例
えばベントン(ナショナルレッド社製のベントン27、
ベントン34、ベントン38等)が挙げられ、何れも利
用できる。これらは必要に応じて任意に選択でき、1種
または2種以上を配合することができる。これら成分の
好ましい配合量は0.2〜3.0重量%であり、ざらに
好ましくは0.8〜2.0重量%である。0.2重量%
未満では良好なチキソトロピー性が得られず、3.0重
量%を越えると美爪料の塗膜の光沢や経時のもち(ハガ
レ)が悪くなる。
鉱物であるモンモリロナイトに第4級アンモニウム塩型
のカチオン活性剤、又は非イオン性の高級有機極性化合
物を化学的に結合させた物質であって、市販品として例
えばベントン(ナショナルレッド社製のベントン27、
ベントン34、ベントン38等)が挙げられ、何れも利
用できる。これらは必要に応じて任意に選択でき、1種
または2種以上を配合することができる。これら成分の
好ましい配合量は0.2〜3.0重量%であり、ざらに
好ましくは0.8〜2.0重量%である。0.2重量%
未満では良好なチキソトロピー性が得られず、3.0重
量%を越えると美爪料の塗膜の光沢や経時のもち(ハガ
レ)が悪くなる。
本発明で用いられるシリカは周知のものでよく例えば、
市販品としてはアエロジルtt200.アエロジル#3
00、アエロジル■380、或はアエロジルR972等
か挙げられる。これらの中でもアエロジル廿200、ア
エロジル#300、アエロジJlzt$380等の粒径
が0.01μ未満のものがチキソトロピー性の点で好ま
しい。
市販品としてはアエロジルtt200.アエロジル#3
00、アエロジル■380、或はアエロジルR972等
か挙げられる。これらの中でもアエロジル廿200、ア
エロジル#300、アエロジJlzt$380等の粒径
が0.01μ未満のものがチキソトロピー性の点で好ま
しい。
これら成分の好ましい配合量は0.1〜2.0重斌%で
あり、ざらに好ましくは0.5〜1,5重量%である。
あり、ざらに好ましくは0.5〜1,5重量%である。
0.1重量%未満では良好なチキソトロピー性が得られ
ず経時安定性が悪くなる。2.0重量%を越えると、使
用性においてエナメル塗膜の光沢が悪く経時の持ち(ハ
ガレ)も劣ってくる。
ず経時安定性が悪くなる。2.0重量%を越えると、使
用性においてエナメル塗膜の光沢が悪く経時の持ち(ハ
ガレ)も劣ってくる。
本発明で用いられるアニオン界面活性剤は周知のもので
よく例えばジオクチルスルホコハク酌ソーダ、ジオクチ
ルスルホコハク酌カルシウム、ジオクチルスルホコハク
酌バリウム、ジー2−エチルへキシルスルホ−コハク酸
ナトリウム、ジーn−へキシルスルホコハク酸ナトリウ
ム等のマルホコハ)7酸塩、ラウロイルサルコシンナト
リウム、ラウロイルサルコシンカルシウム、バルミトイ
ルサルコシンナトリウム等のN−アシルサルコシン塩、
ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル?ii!il酸カル
シウム、ミリスチル硫酸ナトリウム、セチル硫酸ナトリ
ウム等のアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン
(以下、POEと略記する)ラウリルエーテル硫酸ナト
リウム、POEラウリルエーテル硫酸トリエタノールア
ミン、POf’:ノニルフエ二ル丁−テル碑酌トリエタ
ノールアミン等のPOEアルキルエーテル硫酸エステル
塩等が挙げられる。
よく例えばジオクチルスルホコハク酌ソーダ、ジオクチ
ルスルホコハク酌カルシウム、ジオクチルスルホコハク
酌バリウム、ジー2−エチルへキシルスルホ−コハク酸
ナトリウム、ジーn−へキシルスルホコハク酸ナトリウ
ム等のマルホコハ)7酸塩、ラウロイルサルコシンナト
リウム、ラウロイルサルコシンカルシウム、バルミトイ
ルサルコシンナトリウム等のN−アシルサルコシン塩、
ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル?ii!il酸カル
シウム、ミリスチル硫酸ナトリウム、セチル硫酸ナトリ
ウム等のアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン
(以下、POEと略記する)ラウリルエーテル硫酸ナト
リウム、POEラウリルエーテル硫酸トリエタノールア
ミン、POf’:ノニルフエ二ル丁−テル碑酌トリエタ
ノールアミン等のPOEアルキルエーテル硫酸エステル
塩等が挙げられる。
配合量は、0.01〜1.5重量%が好ましく、ざらに
好ましくは0.1〜1.0重量%である。0.01重量
%未満では、長期安定性が十分でなく 、1.5重量%
を越えると経時におけるもち(ハガレ)が悪くなる傾向
にある。
好ましくは0.1〜1.0重量%である。0.01重量
%未満では、長期安定性が十分でなく 、1.5重量%
を越えると経時におけるもち(ハガレ)が悪くなる傾向
にある。
本発明で用いられる非芳香族系溶剤とは、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素以外の有機溶剤を広く指称し
、例えば酢酸nブチル、酢酸イソブチル、酢酸エチル、
メチルエチルケトン、アセトン、nブタノール、イソプ
ロピルアルコール、エチルアルコール等である。これら
溶剤の1種または2種以上を配合できる。これら成分の
好ましい配合量は60〜85重量%である。
シレン等の芳香族炭化水素以外の有機溶剤を広く指称し
、例えば酢酸nブチル、酢酸イソブチル、酢酸エチル、
メチルエチルケトン、アセトン、nブタノール、イソプ
ロピルアルコール、エチルアルコール等である。これら
溶剤の1種または2種以上を配合できる。これら成分の
好ましい配合量は60〜85重量%である。
更に本発明の美爪料には、上記必須成分以外に通常美爪
料に使用される皮膜形成剤、樹脂、可塑剤、顔料、パー
ル剤等が配合され、また、紫外線吸収剤、保湿剤、薬剤
、香料、そして水分等も適鼠配合することができる。も
ちろん、これらは本発明の目的を損なわない質的、量的
条件下で使用されなければならない。
料に使用される皮膜形成剤、樹脂、可塑剤、顔料、パー
ル剤等が配合され、また、紫外線吸収剤、保湿剤、薬剤
、香料、そして水分等も適鼠配合することができる。も
ちろん、これらは本発明の目的を損なわない質的、量的
条件下で使用されなければならない。
[発明の効果1
本発明は人体に安全で顔料やパール剤の沈降がなく経時
安定性に優れ、しかも、塗膜物性、使用性の良好な美爪
料に関する。従来技術のトルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素系溶剤を使用したものに比べて、人体に対する
安全性が高く爪の損傷や痛みを与えることが極めて少な
く、経時のもち(ハガレ)の点でも優れている。、また
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤を含有
しない美爪料に比べてもパール剤の沈め、経時安定性、
塗膜物性、使用性の点で更に優れた品質となっている。
安定性に優れ、しかも、塗膜物性、使用性の良好な美爪
料に関する。従来技術のトルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素系溶剤を使用したものに比べて、人体に対する
安全性が高く爪の損傷や痛みを与えることが極めて少な
く、経時のもち(ハガレ)の点でも優れている。、また
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤を含有
しない美爪料に比べてもパール剤の沈め、経時安定性、
塗膜物性、使用性の点で更に優れた品質となっている。
[実施例]
以下、実・絶倒によって本発明の詳細な説明する。
本発明tf 、これらに限定されるもので(tない7、
配合量は重量%である。実施例に先立ち、効果試験方法
及び評価方法について詳述する 渦層 B L型粘度計ローターNo、2.6rpm、、 30
で、1分間測定、1 亘」L安」ヨ1 美爪料を容器に充填し経時(50″C12ケ月)の沈澱
、及び分離を 肉眼で観察する 0 沈P3分離が全く認められない。
配合量は重量%である。実施例に先立ち、効果試験方法
及び評価方法について詳述する 渦層 B L型粘度計ローターNo、2.6rpm、、 30
で、1分間測定、1 亘」L安」ヨ1 美爪料を容器に充填し経時(50″C12ケ月)の沈澱
、及び分離を 肉眼で観察する 0 沈P3分離が全く認められない。
Q 沈澱、分離が僅かに認められる
の 沈FA1、分離が認められろ
△ 沈澱、分離が非常に認められる。
狸」iぷりし訳−
実際の使用において官能で評価
0 非常に光沢がある
O やや光沢がある
の やや光沢がない
△ 光沢がない
× 全く光沢がない
又 のtち ハガ
実際の使用(3日間)において官能で評価0 非常にも
ちが良い Oややもちが良い Oややもちが悪い △ もちが悪い × 非常にもちが悪い への の 実際の使用において官能で評価、、 n=500 爪
の異常を認めた人 3未満 O爪の異常を認めた人 3〜5 0 爪の異常を認めた人 6〜10 △ 爪の異常を認めた人 11〜15 × 爪の異常を認めt:人 16以上 実施例1.2、比較例1 表−1に示す組成で常法により、美爪料を製造し、それ
ぞれの品質評価を行なった。
ちが良い Oややもちが良い Oややもちが悪い △ もちが悪い × 非常にもちが悪い への の 実際の使用において官能で評価、、 n=500 爪
の異常を認めた人 3未満 O爪の異常を認めた人 3〜5 0 爪の異常を認めた人 6〜10 △ 爪の異常を認めた人 11〜15 × 爪の異常を認めt:人 16以上 実施例1.2、比較例1 表−1に示す組成で常法により、美爪料を製造し、それ
ぞれの品質評価を行なった。
(Jll全余白
アエロジル R972*−’・・・粒径0.016μア
エロジル380″′−2・・・粒径0.007 u表−
2 表−1から明らかなように実施例1.2は比較例1に比
べて、人体に安全で顔料やパール剤の沈降がなく、長期
の経時安定性に優れ、しかも、塗膜物性、使用性が良好
であることカヂ判る。
エロジル380″′−2・・・粒径0.007 u表−
2 表−1から明らかなように実施例1.2は比較例1に比
べて、人体に安全で顔料やパール剤の沈降がなく、長期
の経時安定性に優れ、しかも、塗膜物性、使用性が良好
であることカヂ判る。
実施例3.4
表−2に示す組成で常法により、美爪料を製造し、それ
ぞれの品質評価を行なった。
ぞれの品質評価を行なった。
(以下余白)
表−2から明らかなように実施例3.4の美爪料は、人
体に安全で、顔料やパール剤の沈降がなく、経時安定性
に優れ、しかも塗膜物性、使用性が非常に優れていた。
体に安全で、顔料やパール剤の沈降がなく、経時安定性
に優れ、しかも塗膜物性、使用性が非常に優れていた。
Claims (1)
- 有機変性モンモリロナイト、シリカ、アニオン界面活性
剤および非芳香族系の溶剤を含有することを特徴とする
美爪料。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63197063A JP2652798B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 美爪料 |
| PCT/JP1989/000301 WO1993012762A1 (fr) | 1988-03-22 | 1989-03-22 | Preparation destinee au soin des ongles |
| US07/427,134 US5071639A (en) | 1988-03-22 | 1989-03-22 | Nail cosmetic composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63197063A JP2652798B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 美爪料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0248511A true JPH0248511A (ja) | 1990-02-19 |
| JP2652798B2 JP2652798B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=16368099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63197063A Expired - Lifetime JP2652798B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-08-09 | 美爪料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2652798B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5238879A (en) * | 1988-03-24 | 1993-08-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for the production of polycrystalline layers having granular crystalline structure for thin-film semiconductor components such as solar cells |
| JP2003055159A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Shiseido Co Ltd | 透明美爪料 |
| JP2003171234A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-06-17 | Nippon Junyaku Kk | マニキュア、マニキュア用バインダー及びその製法 |
| JP2007015934A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Meiko Shoji Kk | 温感クリーム化粧料 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54126739A (en) * | 1978-03-17 | 1979-10-02 | Shiseido Co Ltd | Gel composition |
| JPS58144312A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-27 | Shiseido Co Ltd | 美爪料用ゲル組成物 |
-
1988
- 1988-08-09 JP JP63197063A patent/JP2652798B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54126739A (en) * | 1978-03-17 | 1979-10-02 | Shiseido Co Ltd | Gel composition |
| JPS58144312A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-27 | Shiseido Co Ltd | 美爪料用ゲル組成物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5238879A (en) * | 1988-03-24 | 1993-08-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for the production of polycrystalline layers having granular crystalline structure for thin-film semiconductor components such as solar cells |
| JP2003055159A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Shiseido Co Ltd | 透明美爪料 |
| JP2003171234A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-06-17 | Nippon Junyaku Kk | マニキュア、マニキュア用バインダー及びその製法 |
| JP2007015934A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Meiko Shoji Kk | 温感クリーム化粧料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2652798B2 (ja) | 1997-09-10 |
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