JPH0248936A

JPH0248936A - 転写箔

Info

Publication number: JPH0248936A
Application number: JP1115275A
Authority: JP
Inventors: Kazuhisa Kobayashi; 和久小林
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1988-05-10
Filing date: 1989-05-09
Publication date: 1990-02-19
Anticipated expiration: 2013-10-08
Also published as: JP2809311B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は転写箔に関し、特に耐擦傷性、耐衝撃性及び耐
摩耗性に優れているとともに柔軟性を有する転写層を与
える転写箔に関し、さらに、上記特性の他に艶消しの転
写層を与える転写箔に関する。

〔従来の技術及び問題点〕

近年、プラスチック材料はエンジニアリングプラスチッ
クをはじめとしてその強靭性、加工性等の特性を生かし
て、金属材料やガラス等の無機材料の代替材料として広
範に使用されている。しかし表面の硬度や耐擦傷性に劣
るために、表面離型性保護層を設ける必要性が大きい。

従来からプラスチック表面を硬質化する技術としては、
オルガノシロキサン系、メラミン系等の熱硬化樹脂や多
官能アクリル系の光硬化樹脂をコーティングすることが
行われてきた。

しかしながら、従来の熱硬化樹脂や光硬化樹脂を用いた
耐擦傷性の表面離型性保護層は屈曲性に欠け、クラック
が生じ易いとい、う問題点があった。

そのため曲面状の成形体や合成樹脂フィルム上に表面離
型性保護層を形成する場合、曲面状に加工するのが困難
であったり、屈曲によりクラγりが生じたりし、表面離
型性保護層として満足ではなかった。さらに平坦面の表
面離型性保護層として使用する場合でも一旦傷がつくと
元に回復しないという問題や、傷が目立・つという問題
が認められる。

また、通常の装飾用途においては、転写された後の表面
をマット調にすることがしばしば要求される。従来から
、艶消表面を有する離型性保護層を転写する際に使用す
る転写箔としては、微細な凹凸を設けた基材フィルムに
離型性保護層を塗布してその凹凸を写しとるものや、シ
リカやポリエチレン等の微細粉のいわゆる「マット材」
を添加した離型性保護層を基材フィルムに塗布したもの
などがある。しかし、凹凸を写しとる方式では、大きな
艶消し効果を得る目的には適さない。またシリカやポリ
エチレン等の微細粉からなるマット材を添加する場合に
は、これらを含む離型性保護層の弾力性が低下し、表面
の耐摩耗性が低下し、また曲面をもつ対象物に転写する
のが困難となり、さらに艶消しの効果が小さく、見る方
向によっては艶消しにならないという問題もある。

従って本発明の目的は柔軟性とともに耐擦傷性、耐摩耗
性等を有する転写層を付与し得る転写箔を提供すること
である。

また、本発明のもう１つの目的は、上記特性を有すると
ともに良好な艶消し表面を有する転写層を付与し得る転
写箔を提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

以上の問題点に鑑み鋭意研究の結果、柔軟性を有する電
離放射線硬化型樹脂として骨格中に特定の分子量を有す
るジオールと重合性不飽和基を有する化合物とを導入し
たウレタン化合物を用いることにより、電離放射線硬化
型であるとともに、良好な耐擦傷性、耐摩耗性及び柔軟
性を有する離型性保護層を有する転写箔が得られること
を発見した。また着色艶消し剤として顔料の微粉末の外
側を合成樹脂で被覆したいわゆる「ビーズ顔料」を添加
した塗料が最近実用化されてきたが、ビーズ顔料を添加
した塗料により形成した離型性保護層は、艶消し性が良
く、艶消し効果に方向性がなく、かつソフトな質感のス
ェード調塗膜を形成することができることを発見した。

以上の発見に基づき本発明を完成した。

すなわち、本発明の転写箔は、基体シート上に柔軟性を
有する電離放射線硬化型樹脂からなる離型性保護層を積
層してなることを特徴とする。

さらに、本発明においては、前記電離放射線硬化型樹脂
にビーズ顔料を分散させて用いることで、上記特性の他
に良好な艶消し表面を有する離型性保護層を与える転写
箔とすることができる。

本発明を以下に詳細に説明する。

基体シートの素材は、原則としてこの種の転写シートに
使用されているものであればよく、その厚みとしては通
常５〜２００μｍが好ましく、更に好ましくは１２〜５
０μｍである。具体的に例を示すと、ポリエチレンテレ
フタレートなどのポリエステル、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのポリオレフィン、ナイロンなどのポリア
ミド、ポリ塩化ビニル、ボリアリレート、ポリカーボネ
ートなどの合成樹脂からなるフィルムや紙、合成紙など
である。これらは必要によりラミネートして使用できる
。

基体シートの表面の凹凸は、転写したときに離型性保護
層の表面の凹凸を決定するものである。

転写された後の表面をミラー面（鏡面）としたいときに
は、これらの基体シートの表面もミラー面としなければ
ならない。また装飾用途においてはしばしばマットな表
面が要望されるので、それに合わせるときには基体シー
トとして、マット材練り込み、サンドブラスト加工もし
くはケミカルエツチングなどにより艶の状態を調整した
マットフィルムを使用してもよい。

なお基体シートとしては上記のような素材からなるもの
以外でも、離型性層を別に設けて表面を離型性にしたも
のでもよい。この離型性層は転写の際に基体シートから
硬化樹脂層の剥離を可能にする成分を含み、具体的には
適当なベヒクル（ベヒクルの例は通常のインキ組成物の
ベヒクルとして後記するものと同じ）単独もしくは必要
に応じてさらにワックス、シリコーンなどの離型性物質
を添加して作る。

離型性保護層においては硬化後でも柔軟性を有する電子
線硬化型樹脂を用いる。このような電子線硬化型樹脂は
ウレタンアクリレートオリゴマー１分子中に少なくとも
１個のラジカル重合性不飽和基を有するモノマーを主体
とする。ウレタンアクリレートオリゴマーはソフトセグ
メントとして機能し、上記単官能又は多官能モノマーは
ハードセグメントとして機能する。なおウレタンアクリ
レートオリゴマーは典型的にはジイソシアネートと、両
末端に水酸基を有し重量平均分子量が２００〜５０００
のジオールと、末端に水酸基を有するとともにラジカル
重合性不飽和基を有するアクリレート系化合物とが結合
してなるものである。

また上記ウレタンアクリレートオリゴマーを単独で使用
する代わりに、１分子中に少なくとも１個のラジカル重
合性不飽和基を有するモノマーを含存させることができ
る。この場合、ウレタンアクリレートオリゴマーはソフ
トセグメントとして機能し、上記単官能又は多官能モノ
マーはハードセグメントとして機能する。

このような樹脂組成物を電離放射線により硬化させてな
る表面離型性保護層は相分離構造を有すると考えられる
が、ウレタンアクリレートオリゴマーを多官能化したり
、ジオールの分子量を調節したり、ウレタンアクリレー
トオリゴマーとモノマーとの混合比を調節することによ
り、相分離構造を制御し、もって耐擦傷性、可撓性、屈
曲性をコントロールすることができる。

上記電子線硬化型樹脂組成物を以下に詳細に説明する。

本発明に使用することができるジイソシアネートは１分
子中に２個のイソシアネート基を有する脂肪族又は芳香
族のジイソシアネート化合物であり、例えば、テトラメ
チレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、２．４−）リレンジイソシアネー）、２．６−）
リレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジ
イソシアネー）、１．５−ナフタレンジイソシアネート
、３．３−ジメチル−４，４７−ジフニニレンジインシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジ
イソシアネー）、１．３−ビス（イソシアナイトメチル
）シクロヘキサン、トリメチルへキサメチレンジイソシ
アネート等を単独で又は２種以上混合して使用すること
ができる。

特に耐候性を有するためには、インホロンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。

両末端に水酸基を有するジオールとしては両末端に水酸
基を有するポリエステルブレボリマーボリエーテルブレ
ボリマー及びポリカーボネートプレポリマーがある。

両末端に水酸基を有するポリエステルプレポリマーとし
ては、（イ）芳香族又はスピロ環骨格を有するジオール
化合物とラクトン化合物又はその誘導体又はエポキシ化
合物との付加反応生成物、（ロ）多塩基酸とポリオール
との縮合生成物、及び〈ハ）環状エステル化合物から誘
導される開環ポリエステル化合物があり、これらを単独
で又は２種以上を混合して使用する。

（イ）の付加反応生成物に用いる芳香族又はスピロ環骨
格を有するジオール化合物としては、例えば、ＣＨ３ −０（Ｃ１１２Ｃｌ（２０）　ｎＨ。

等がある。

またエポキシ化合物の代表的なものとしてエチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイド等がある。

次に（ロ）の縮合生成物に用いる多塩基酸としては、例
えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン
酸、コハク酸、セパチン酸等の飽和多塩基酸や、マレイ
ン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和
多塩基酸があり、またポリオールとしてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、１．４−７’タンジオ
ール、１．ｆｌｉ−ヘキサングリコール等がある。

両末端に水酸基を有するポリエーテルプレポリマーとし
てはポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール等がある。

また両末端に水酸基を有するポリカーボネートプレポリ
マーとしては、例えばダイセル化学工業株式会社製のプ
ラクセルＣＤ−２１０（分子量１０００　）、プラクセ
ルＣＤ−２２０（分子量２０００　）や日本ポリウレタ
ン工業株式会社製のＤＮ−９８３（分子１１０００　）
等のポリカーボネートジオールがあげられる。

両末端に水酸基を有するジオールは２００〜５０００の
重量平均分子量を有するのが好ましい。重量平均分子量
が２００未満であると落砂摩耗テスト及びテーパー摩耗
テストにより測定される耐摩耗性に劣り、また５０００
を超えると硬化機十分な硬度が得られない。より好まし
い重量平均分子量の範囲は５００〜３０００　、特に５
００〜１５００である。

また落砂摩耗テスト及びテーパー摩耗テストにおいて優
れた耐摩耗物性を示すためには、ポリテトラメチレンエ
ーテルグリコール、ポリブチレンアジペート、ポリカー
ボネートジオール等が特に好ましい。また良好な可撓性
を有する硬化物を与えるためには、直鎖の脂肪族系ジオ
ールを用いるのが好ましい。

末端に水酸基を有するとともにラジカル重合性不飽和基
を有するアクリレート系化合物は、ウレタン化合物のイ
ソシアネート基に結合するとともに、電離放射線の照射
により容易にラジカルを発生し架橋反応を引き起こす不
飽和基を有するいわゆるラジカル重合性化合物である。

このような末端に水酸基を有するラジカル重合性アクリ
レート系化合物は、アクリル酸又はメタクリル酸若しく
はこれらの誘導体のエステル化合物であって末端に水酸
基を有するものであり、例えば、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキ
シブチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブ
チルメタクリレート　４−ヒドロキシシクロへキシルア
クリレート、５−ヒドロキシシクロオクチルアクリレー
ト。

５−ヒドロキシシクロオクチルアクリレート、２−ヒド
ロキシ−３−フェニルオキシプロピルアクリレート等の
重合性不飽和基１個を有する（メタ）アクリル酸エステ
ル化合物をはじめ、式０（：Ｈ２ＣＨ２０）１で表される重合性不飽和基２個を有するエステル化合物
等を使用することができる。

次に上記ウレタンアクリレートオリゴマーの製造方法に
ついて説明する。

ジイソシアネートと両末端に水酸基を有するジオールと
を用いる第１工程は典型的には以下の反応式により表す
ことができる。

２０ＣＮ−Ｒ，−ＮＣＯ＋　１Ｉｏ−Ｒ２−ＯＨ→０Ｃ
Ｎ−Ｒ，−ＮＨＣＯ−Ｒ２−ＯＣＮＨ−Ｒ，−ＮＣＯ・
　・　・（１）ただし、Ｒ１は炭素数４〜１４の炭化水
素基で、Ｒ２はジオール残基である。

第１工程の反応温度は４０〜６０℃で反応時間は１〜４
時間である。反応は無溶媒中で行ってもよいが、インシ
アネート基との反応性がないケトン等の溶媒中で行うの
が好ましい。

第２工程は第１工程の反応生成物に末端に水酸基を有す
るとともにラジカル重合性不飽和基を有するアクリレー
ト系化合物を反応させるものであり、典型的には以下の
式により表すことができる。

ただし、Ｒｏはアクリレート残基（アクリル酸エステル
基又はメタクリル酸エステル基）である。

なおインシアネート残基を全てラジカル重合性化合物と
反応させる代わりに一端をトリメチロールプロパンのよ
うなトリオールと反応させて、１分子中に３個のラジカ
ル重合性化合物の残基が含まれるようにすることもでき
る。

第２工程の反応温度は４０〜６０℃で反応時間は２〜６
時間である。第１工程と同様に無溶媒中で行ってもよい
が、ケトン等の溶媒中で行うのが好ましい。

なお第２工程の反応系には、ラジカル重合性アクリレー
ト系化合物中の（メタ）アクリル酸エステル基を保護す
るために、重合禁止剤、例えばハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、２．６−
ジーｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等を１００〜１１００
０ｐｐ程度添加するのが好ましい。また、反応系中に反
応を促進させる目的で、トリエチルアミン、ピペラジン
、トリエタノールアミン、ジブチルチンジラウレート、
スタナスオクトエート、スタナスラウレート、ジオクチ
ルチンジラウレート等を添加することができる。

ウレタンアクリレートオリゴマーに混合し得る単官能モ
ノマーとし、てはメチルアクリレート、２エチルへキシ
ルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、ブトキ
シエチルアクリレート、ブチルアクリレート、メトキシ
ブチルアクリレート、フェニルアクリレート等のアクリ
ル酸エステル類：メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、プロピルメタクリレート、メトキシエチルメ
タクリレート、エトキシエチルメタクリレート、フェニ
ルアクリレート、ラウリルメタクリレート等のメタクリ
ル酸エステル類；アクリルアミド、メタクリルアミドの
不飽和カルボン酸アミド；２（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ
）エチルアクリレ−）、２−　（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミ
ノ〉エチルアクリレート、２−　（Ｎ、Ｎ−ジベンジル
アミノ）エチルアクリレート、（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミ
ノ）メチルメタクリレート、２−　（Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノ）プロピルアクリレート等の不飽和酸の置換アミ
ノアルコールエステル類；Ｎ−メチル力ルバモイロキシ
エチルアクリレート、Ｎ−エチルカルバモイロキシエチ
ルアクリレート、Ｎ−プチルカルバモイロキシエチルア
クリレート、Ｎ−フェニルカルバモイロキシエチルアク
リレート、２−（Ｎ−メチル力ルバモイロキシ）エチル
アクリレート、２−カルバモイロキシプロビルアクリレ
ートなどのカルバモイロキシアルキルアクリレート類等
がある。

また多官能モノマーは２個以上のラジカル重合性不飽和
基を有するものであり、特に２個以上の（メタ）アクリ
ロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートが好まし
い。具体例として例えば、エチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート
、トリメチロールプロパントリ　（メタ）アクリレート
、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ　（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ　（メタ〉アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチ
レングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリ
レート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル
ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリブロピレ
ングリコールジグリンジルエーテルジ（メタ）アクリレ
ート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラ（
メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート等
の多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。

良好な耐擦傷性を得るためには゛、上記した単官能又は
多官能（メタ）アクリレートのうちでも（メタ）アクリ
ル当量（分子量／官能基数）が９０から２００、特に１
００以下のものが好ましい。

単官能又は多官能モノマーの添加により硬化後の表面物
性（硬度等）が変化するが、十分な柔軟性、傷に対する
回復力（復元力）が大きい塗膜（ソフトコート）とする
ためには、上記の単官能又は多官能（メタ）アクリレー
トの添加量を少なくする必要がある。その場合、各（メ
タ）アクリレート化合物により適当な添加量が異なり、
一般に官能基数が多い化合物においては添加量が少なく
てよく、多いと十分な柔軟性が得られない。さらに単官
能アクリレート化合物はガラス転移点が低い場合、その
添加量が多いと得られる組成物の電離放射線照射による
硬化物にタックが残り、粘着性を有するようになる。

具体的には、モノマー配合量がウレタンアクリレートオ
リコマ−１００重量部に対して３０重量部以下の場合、
十分な柔軟性、屈曲性とともに耐擦傷性を有し、傷に対
する回復力（復元力）が大きなソフトコートが得られる
。特に単官能又は多官能モノマーが５〜２０重量部の場
合、得られる組成物の電離放射線照射による硬化物は耐
擦傷性、柔軟性、傷に対する復元力や可撓性に富む。

なお、本発明においては、上述の電離放射線硬化型樹脂
組成物にビーズ顔料を分散させることで良好な艶消し表
面を有する離型性保護層を与えることができる。

前記ビーズ顔料としては、Ｆｅ２Ｃ０，、、ＴｉＯ２、
ＣａＣ０＊、キナクリドンなど常用の顔料の微粉末の表
面を、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リエステル樹脂、ナイロン、フッ素樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体など弾力性のある樹脂で被覆したも
のを用いることができる。

前記ビーズ顔料の粒径は、形成しようとする塗膜の厚さ
によっても異なるが、粒径の範囲が５〜８０μｍであ−
っで、かつ分布の極大が１０〜３５μｍの範囲のものが
特に好ましい。粒径が５μｍ未満だと保護層表面の艶消
し効果が不十分であり、また８０μｍを超えると保護層
の耐擦傷性、耐衝撃性が不十分となる。

ビーズ顔料の色は、特に限定されず、所望に応じて選択
すればよい。例えば、はぼ無色透明なビーズ顔料を用い
れば深みのある艶消し塗膜ができるし、二色以上のビー
ズ顔料を組み合わせても、変化に富んだ艶消し面を作る
ことができる。

ビーズ顔料の添加量は、樹脂成分１００重量部に対して
２０〜２００重量部であり、特に５０〜１５０重量部を
添加するのが望ましい。添加量が少ないと十分な艶消し
効果が得られず、また多すぎると保護層の耐屈曲性等が
劣化する。

ビーズ顔料はシリカ微粉末などに比べて粒径が大きい。

その大径の粒子が離型性保護層表面に突出して凹凸を形
成することによって、顕著な艶消し効果が得られる。し
かも、この凹凸は大きく深いものであるため、艶消しの
程度は十分である。

また顔料粒子は、弾力性のある樹脂に覆われているので
、離型性保護層に外力が加えられても、粒子が変形して
それを吸収し、外力が取り去られれば、粒子の形状が復
元する。このため得られる塗膜の、艶消しの外観が変化
することはない。しかも得られる塗膜は、軟らかい感触
をもつので、転写体に外観的にも触感的にも、高級なス
ェード調の感じを付与することができる。

＝一般に、平滑な基材フィルム上に塗料の塗膜を形成し
、たとき、その塗膜を転写して得られる表面は、基材フ
ィルム表面に従って平滑で、光沢のあるものである。ビ
ーズ顔料を添加した艶消し塗料をフィルムに塗布したと
きも同様になると思われていた。

しかし、本発明者らは、上記塗料の塗膜を転写法で被転
写体に設けた場合にも、吹きつけ塗膜と同様の艶消し効
果が得られることを見出した。このような効果が得られ
る機構については必ずしも明らかではないが、次のよう
な２つの機構が推測される。

その一つは、基材フィルムに塗膜を形成したときに、塗
膜の内側面、すなわち転写したときに被転写体側になる
面にビーズ顔料による凹凸面ができ、塗膜を転写すると
その凹凸面が被転写体の平滑な面に密着する結果、それ
まで平滑であった塗膜の外側面にその凹凸が移動するこ
とである。

もう一つは、基材フィルム上の塗膜から溶剤が揮発して
ベヒクルが収縮して厚さが薄くなり、電離放射線で硬化
する際、塗膜のベヒクルが収縮し、ビーズ顔料が突出し
たかたちになって、塗膜の外側面に凹凸が形成されると
いうことである。

いずれにせよ、シリカ微粉末等の従来のマット材よりは
、塗膜の厚さに対して相対的に大きな径をもっているビ
ーズ顔料を使用することで、転写による艶消しが可能と
なったわけである。

本発明の樹脂組成物は、その他に必要に応じ紫外線吸収
剤や光安定剤を含有することができる。

紫外線吸収剤としては、ベンゾ）　ＩＪアゾール類、例
え１ｆ２−（２−ヒドロキシ−５メチルフエニル）ベン
ゾトリアゾーノペ２−　（２−ヒドロキシ−３，５ジタ
ーシャリ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、ポリ
エチレ〉′グリコールの３＝〔３（ベンゾトリアゾール
−２−イル−５−を−ブチル−４−ヒドロキシフェニル
〕プロピオン酸エステル等が挙げられる。また光安定剤
としてはヒンダードアミン系で、例えば２−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２’−ｎ
−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６−インクメチル
−４−ピペリジル）、ビス−（１，２゜２．６．６−ベ
ンタメチルー４−ピペリジル）セバケート、テトラキス
−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が
挙げられる。

紫外線吸収剤と光安定剤は併用することにより著しい耐
候性の改良が得られる。紫外線吸収剤のみの添加では劣
化低減効果はなく、耐候性の向上はほとんどない。また
光安定剤のみの添加では劣化低域効果はあるが、耐候性
の改良としては不十分である。紫外線吸収剤の添加量及
び光安定剤の添加量は、樹脂組成物１００重量部に対し
てそれぞれ０．０１〜１０重量部であり、特に紫外線吸
収剤０，１〜２重量部及び光安定剤０．５〜４重量部を
同時に添加することが望ましい。添加量が少ないと耐候
性改良の効果がなく、多過ぎると硬化性の低下、密着性
の悪化等の悪影響が現われる。

このようにして得られた電離放射線硬化型樹脂組成物は
硬化前は粘着性を有する。硬化前に粘着性がないと得ら
れる塗膜の物性（耐摩耗性等）が十分でないので、粘着
性を有することは重要である。

次に上記樹脂組成物を用いて離型性保護層をコーティン
グする方法について説明する。まず上記樹脂組成物に必
要に応じて適当な粘度となるように溶媒又は反応性希釈
剤を加えた上で、適当な基体上に、通常のコーティング
方法、すなわち、ロールコート法、グラビアコート法、
ファウンテンコート法、カーテンフローコート法、ワイ
ヤーバーコード法等で塗布する。膜厚は３〜４０μｍ程
度にする。この段階では塗膜は乾燥時にも粘着性を有す
る。

離型性保護層の硬化は電離放射線の照射により行う。電
離放射線として電子線又は紫外線を用いるのが好ましい
。

電子線照射の場合、コックロフトワルトン型、バンプグ
ラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダ
イナミドロン型、高周波型などの各種電子線加速器から
放出された１００〜３００ＫｅＶ　。

好ましくは１５０〜２００　ＫｅＶの範囲のエネルギー
を持つ電子線を用い、２〜１０　Ｍｒａｄの照射量とす
る。

また紫外線照射の場合超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧
水銀灯、カーボンアーク、キセノンアークメタルハライ
ドランプなどの光源を用いた紫外線源から発する紫外線
を用いる。

本発明の転写箔はその他に接着層を有する。

接着層用の接着剤としては、公知のものを使用でき、例
えば、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチルゴム、スチ
レンブタジェンゴム、フタジエンアクリロニトリルゴム
等のゴム系樹脂、（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、
ポリビニルエーテル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体系樹脂、ポリスチレン系樹脂
、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩素化オレ
フィン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂等の任意の
接着剤を使用することができる。

これらの樹脂は、必要により希釈して塗布に適した粘度
とした後、公知のコーティング方法、例エバリバースロ
ールコーチインク、ロールコーティング、グラビアコー
ティーング、キスコーティング、ブレードコーティング
、スムーズコーティング等によりコーティングする。

転写箔の構造は、基本的には以上の通りであるが、さら
に必要により絵柄層を設けることができる。

絵柄層は転写により被転写体に模様を与えるためのもの
であるから、模様を転写することを目的とする模様転写
箔においては必ず必要である。絵柄層の必要でない転写
箔の例としては、実質的に離型性保護層のみを転写する
離型性保護層転写箔があり、この場合は塗装の代用とな
る。

絵柄層は通常離型性保護層の上に直接に、あるいは他の
層を介して間接に設ける。インキの種類は用途、転写箔
の構造等を考慮して決めればよい。

通常のインキは、ベヒクルに顔料もしくは染料の着色剤
、可塑剤、安定剤、そのほかの添加剤、又は溶剤もしく
は希釈剤等を用いて混練したものである。

インキの成分のうち接着性に関連のあるバインダーさし
ては、例えば、エチルセルロース、エチルヒＰロキシセ
ルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸
セルロース誘導体、ポリスチレン、ポリαメチルスチＬ
／ン等のスチレン樹脂及びスチレン共重合体樹脂、ポリ
メタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリア
クリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル又
はメタクリル樹脂の単独又は共重合樹脂、ロジン、ロジ
ン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル
樹脂、ポリ酢酸ビ；、ル樹脂、クマロン樹脂、ビニルト
ルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ブチラール樹脂、セラック、アラビアゴ
ム、アカロイド、マスチック等の樹脂を一種又は二種以
上選択して用いることができる。

転写方法としては、例えば、加熱により被転写体を熱圧
着させて未硬化樹脂層と共に転写を行う熱転写法や、転
写箔と被転写体との間に、溶剤もしくは樹脂の溶剤溶液
からなる活性化液を介在させて行う溶剤活性転写法等が
ある。

また興味ある転写方法として、プレス成形、真空成形、
圧空成形、真空圧空成形、射出同時成形、押出成形、カ
レンダー成形等の成形法において、成形と同時に転写を
行う方法がある。さらに転写後所定の形状になるように
、プレス成形、真空成形、圧空成形、真空圧空成形等を
行ってもよい。

転写後に成形を行う場合、転写の際には最終の形状に成
形する必要がない。このような場合はむしろ転写の際に
は、平板形状等の単純な形状に成形しておき、転写させ
る層を十分密着させることを主眼とするのがよい。

本発明の転写箔を使用して転写を行う際の被転写体とし
ては種々のものが使用でき、例えば次のようなものがあ
る。

化粧材基材などに使用される０紙、例えば晒クラフト紙
、チタン紙、リンター紙、板紙、石膏ボード紙など、■
プラスチックフィルム、例えば、ポリエチレンフィルム
、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、
ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフ
ィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム、ナイロンフィルム、ポリスチレン
フィルム、エチレン／酢酸ビニル共重合体フィルム、エ
チレン／ビニルアルコール共重合体フィルム、アイオノ
マーなど、■木質基材、例えば、木、合板、バーチクル
ボードなど、■石膏系基材、例えば、石膏ボード、石膏
スラグボードなど、■繊維セメント板、例えば、バルブ
セメン板、石綿セメン板、木片セメント板など、■その
他ＧＲＣ及びコンクリート、鉄、アルミニウム、銅など
の金属箔もしくはシート、並びに、以上の■〜■の各素
材の複合体などを使用することができる。

また各種の成形品も被転写体として使用できる。

成形品の素材としては上記の化粧材基材と重複するが、
次のようなものが例示できる。

ＡＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＣ３樹脂、アミン樹脂、酢
酸セルロース、酪酸セルロース、エチルセルロースなど
のセルロース樹脂、アリル樹脂、エチレン／α−オレフ
ィン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン／塩化ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、ＭＢＳ樹
脂、メタクリル／スチレン共重合体、ニトリル樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリアミド樹脂、ボリアリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリブチ
レンテレフタレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹
脂、ポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂
、ポリスチレン樹脂、ＡＳ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リ塩化ビニル樹脂、アクリル変性ポリ塩化ビニル樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂などのプラスチック成形品。

鉄、アルミニウム、銅、ステンレスなどの金属の押し出
し成形品。

これら被転写体の被転写面には必要により、被転写体表
面の素材に合わせた前処理を施してもよく、例えば、ブ
ライマー処理、コロナ処理などの接着性向上のための前
処理、塗装その他による下地色の調整処理、目止め処理
、セメントなどのアルカリ性基材におけるアルカリ滲出
防止処理などである。

〔実　施　例〕

本発明を添付図面及び以下の実施例によりさらに詳細に
説明する。

第１図は本発明の一実施例による転写箔を示し、１は基
体シート、２は電離放射線硬化型樹脂からなる保護層、
３はブライマー層、４は絵柄層、５は接着層を示す。

実　　施　　例　　１加熱撹拌接置のついた２βのセパラブルフラスコとセパ
ラブルカバーを用い、インホロンジイソンアネー）１６
！ｌ１ｇをフラスコに入れ、触媒としてジラウリル酸ジ
ノルマルブチルスズを０．２ｇ滴下し、４０℃で加熱撹
拌した。ポリテトラメチレンエーテルグリコール（保土
谷化学■製ＰＴＧ−６５０ＳＮ、分子量６５０）　２４
５ｇを系内の温度が急激な上昇を示さないように徐々に
加え、反応を進めた。２時間後ヒドロキシエチルアクリ
レートを９０ｇ加え、反応温度を６０℃に上げ、■Ｒス
ペクトル中２３３０ｃａｒ’のイソシアネート基による
ピークが消失するまで、撹拌を続けた。このようにして
ほぼ１００％の収率でウレタンアクリレートを生成した
。

一方基体シートとして厚さ２５μｍのポリエステルフィ
ルム〔ダイアホイル製〕を用いて、その片面にメラミン
系樹脂ワニス〔大日精化工業製〕をグラビアコーティン
グし、厚さ１μｍの離型性層を形成した。次いで、離型
性層の上に、上記ウレタンアクリレートをイソプロピル
アルコールに７０重量％の割合で溶解したものをグラビ
アコーティングにより塗布し、１００℃の熱風で乾燥さ
せ、厚さ３０　ｌＪｍの離型性保護層を形成した。

これにスキャニング方式の電子線照射機（加速電圧１８
５にＶ）で５　Ｍｒａｄの電子線を照射した。

更にアクリル系インキ〔昭和インク製ＧＧ〕を用いてグ
ラビア印刷方式で厚さ１μｍの絵柄層を形成し、アクリ
ル系の接着剤〔昭和インク製ＨＳ−３２〕をグラビア印
刷方式で全面に３μｍの厚さに塗布した。

このようにして得られた転写箔を用い、アクリル樹脂板
の表面に熱ロール（表面温度２００℃）を用いて転写し
、転写後ポリエステルフィルム製基体シートを剥離した
。

このようにして得られた転写体の表面離型性保護層はソ
フト感及び湿潤感を有していた。

次に得られた転写体の表面離型性保護層の性能を評価す
るために、下記の試験を行った。

（１）　　ＲＣＡ摩耗−ＲＣＡ摩耗試験機を使用し、表
面離型性保護層の艶変化が生じるまでの摩擦回数を測定
。

（２）　　テーパー摩耗＝テーパー摩耗試験機（摩耗輪
Ｃ３−１０，１ｋｇ荷重）を用いて、１５００回転での
摩耗減少量をＡＳＴＭ　Ｄ−１０４４により測定。

（３）　　爪りラッチ＝人差指の爪でこすり、表面離型
性保護層の傷、艶の変化の有無により評価。

（４）折り曲げ＝１８０　℃において急激に折り曲げ、
表面離型性保護層の割れ、白色化等の変化の有無により
評価。

（５）復元性＝１ｋｇ／ｃＩ１１の荷重を５時間かけ、
荷重を解放してから５時間後の復元状態により評価。

また、熱可塑性のアクリル樹脂を表面離型性保護層とし
た転写箔を用いた場合に、同様の試験を行い性能を比較
した。得られた結果を表１に示す。

表　　　　　　　１マット状の基体シートとして厚さ２５μｍのサンドマッ
ドポリエチレンテレフタレートフィルム（東し■製）を
用い、実施例１と同様にして転写箔を形成した。得られ
た転写箔を実施例１と同様にアクリル樹脂板に転写後層
体シートを剥離した。

このようにして得られた転写体の表面離型性保護層は十
分な耐擦傷性、耐摩耗性及び柔軟性を有するとともに、
マット感も有していた。

実　　施　　例　　３実施例１で生成したウレタンアクリレートと、青色の顔
料をポリウレタンで被覆した粒径分布５〜８０μｍ、分
布の極大が約３０μｍのビーズ顔料と、溶剤として酢酸
エチルとトルエンの１対１混合物とを以下の配合割合で
混合し、艶消し塗料とした。

ビーズ顔料　　　　　　　　　　　１７重量部ウレタン
アクリレート１３重量部酢酸エチルとトルエンの１対１混合物ＩＯ重量部上記艶消し塗料を用いた以外、実施例１と同様にして転
写箔を形成した。得られた転写箔を実施例１と同様にア
クリル樹脂板に転写後、基体シートを剥離した。このよ
うにして得られた転写体の表面離型性保護層は、十分な
耐擦傷性、耐摩耗性及び柔軟性を有するとともに、十分
な艶消し効果と軟らかい感触を有していた。

〔発明の効果〕

本発明の転写箔は硬さと柔軟性をあわせ持゛つ電離放射
線硬化離型性保護層を有するので、優れた耐擦傷性及び
耐摩耗性を有するとともに、柔軟性を有する転写体を与
えることができる。また得られた転写体はソフト感、湿
潤感を有する。さらに基体シートの積層面を鋭面状又は
マット状とすることにより、鋭面状又はマット状の転写
体が得られる。また、前記電離放射線硬化離型性保護層
中にビーズ顔料を含有させることにより、十分な艶消し
効果と軟らかい感触をもったスェード調の転写体が得ら
れる。

その上本発明の転写箔は電離放射線硬化型であるので、
転写前又は後のいずれでも照射を行うことができ、また
転写前に電離放射線照射により硬化を行った場合でも、
離型性保護層に十分な柔軟性があるので、種々の形状の
被転写体に転写してもクラック等が生じることがないと
いう利点を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による転写箔を示す断面図で
ある。１・・・基体シート２・・・離型性保護層３・・・プライマー層４・・・絵柄層５・・・接着層

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基体シート上に柔軟性を有する電離放射線硬化型
樹脂からなる離型性保護層を積層してなることを特徴と
する転写箔。
（２）請求項１に記載の転写箔において、前記離型性保
護層の上に絵柄層及び接着層が積層されていることを特
徴とする転写箔。
（３）請求項１又は２に記載の転写箔において、前記柔
軟性を有する電離放射線硬化型樹脂がジイソシアネート
と、両末端に水酸基を有し重量平均分子量が２００〜５
０００のジオールと、末端に水酸基を有するとともにラ
ジカル重合性不飽和基を有するアクリレート系化合物と
が結合してなるウレタンアクリレートオリゴマーを含有
することを特徴とする転写箔。
（４）請求項１又は２に記載の転写箔において、前記柔
軟性を有する電離放射線硬化型樹脂が（ａ）ジイソシア
ネートと、両末端に水酸基を有し重量平均分子量が２０
０〜５０００のジオールと、末端に水酸基を有するとと
もにラジカル重合性不飽和基を有するアクリレート系化
合物とが結合してなるウレタンアクリレートオリゴマー
と、（ｂ）１分子中に少なくとも１個のラジカル重合性
不飽和基を有するモノマーとを含有することを特徴とす
る転写箔。
（５）請求項１乃至４のいずれかに記載の転写箔におい
て、前記離型性保護層がビーズ顔料を含有していること
を特徴とする転写箔。