JPH0249035A - ポリフェニレンスルフィドフィルム - Google Patents
ポリフェニレンスルフィドフィルムInfo
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- JPH0249035A JPH0249035A JP20083888A JP20083888A JPH0249035A JP H0249035 A JPH0249035 A JP H0249035A JP 20083888 A JP20083888 A JP 20083888A JP 20083888 A JP20083888 A JP 20083888A JP H0249035 A JPH0249035 A JP H0249035A
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- Japan
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- ratio
- film
- polyphenylene sulfide
- bonded
- sulfide film
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ポリフェニレンスルフィドフィルムに関する
ものであり、更に詳しくは常態では強い熱融着性をイ１
するとともに、剥離したい時には接合界面に水分を供給
してやるだけで容易に剥離することのできる、離型フィ
ルム、保護フィルム、ラベル、ステッカ−、テープなど
に有効に使用できるポリフェニレンスルフィドフィルム
に関するものである。
ものであり、更に詳しくは常態では強い熱融着性をイ１
するとともに、剥離したい時には接合界面に水分を供給
してやるだけで容易に剥離することのできる、離型フィ
ルム、保護フィルム、ラベル、ステッカ−、テープなど
に有効に使用できるポリフェニレンスルフィドフィルム
に関するものである。
［従来の技術］
ボリエニレンスルフィトフィルムはそのまでは熱融着性
がないため同種フィルム同士、あるいは異種フィルムと
の熱接合ができないことは周知のとおりである。
がないため同種フィルム同士、あるいは異種フィルムと
の熱接合ができないことは周知のとおりである。
従来、かかるポリフェニレンスルフィトフィルムの熱融
着性を改良するため、コロナ放電処理やプラズマ処理を
行なうことが提案されている（特開昭５７−１８７３２
７号公報）。
着性を改良するため、コロナ放電処理やプラズマ処理を
行なうことが提案されている（特開昭５７−１８７３２
７号公報）。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、本発明者らがさらに詳細に検討を進めた
結果、上）本のコロナ放電処理によるものは、次のよう
な問題があることが判明した。
結果、上）本のコロナ放電処理によるものは、次のよう
な問題があることが判明した。
すなわち、コロナ１１ｉ電処理を施したポリフェニレン
スルフィドフィルムは処理直後は熱融着性ないし自己融
着性を有するとともに、水分供給による剥離性（以下湿
潤剥離性という）を有するものの、処理直後から時間の
経過とともに熱融着性が徐々に低下していき、数か１後
には熱融着性が大きく低下してしまうという問題がある
。
スルフィドフィルムは処理直後は熱融着性ないし自己融
着性を有するとともに、水分供給による剥離性（以下湿
潤剥離性という）を有するものの、処理直後から時間の
経過とともに熱融着性が徐々に低下していき、数か１後
には熱融着性が大きく低下してしまうという問題がある
。
また前記時開に具体的に開示されているプラズマ処理に
よる方法、すなわち、ポリフェニレンスルフィドフィル
ムをアルゴン雰囲気中でプラズマ処理を施した場合、そ
の自己融着性（熱融着性）を調べてみると、乾接着力は
十分大きいものの、溶接着力も同様に大きく、このため
湿潤剥離性、すなわち水分供給による剥離性が著しく低
下することが判明した。
よる方法、すなわち、ポリフェニレンスルフィドフィル
ムをアルゴン雰囲気中でプラズマ処理を施した場合、そ
の自己融着性（熱融着性）を調べてみると、乾接着力は
十分大きいものの、溶接着力も同様に大きく、このため
湿潤剥離性、すなわち水分供給による剥離性が著しく低
下することが判明した。
本発明者らはかかる従来技術の問題点の改良対策につい
て鋭意検問した結果、ポリフェニレンスルフィドフィル
ムの表面を特定の化学構造を有するものに改質せしめた
場合には、十分な熱融着性ないし自己融着性を有すると
ともに、該融着面に水分を供給してやるだけで融着面か
ら簡単に剥離でき、しかもこの熱融着性および湿潤剥離
性は経時によっても低下しないことを知見し、本発明に
到達したものである。
て鋭意検問した結果、ポリフェニレンスルフィドフィル
ムの表面を特定の化学構造を有するものに改質せしめた
場合には、十分な熱融着性ないし自己融着性を有すると
ともに、該融着面に水分を供給してやるだけで融着面か
ら簡単に剥離でき、しかもこの熱融着性および湿潤剥離
性は経時によっても低下しないことを知見し、本発明に
到達したものである。
したがって、本発明の目的は常態では強い熱融着性を有
するとともに、剥離したい時には接合界面に水分を供給
してやるだけで容易に剥離することのできるポリフェニ
レンスルフィドフィルムを提供することにある。
するとともに、剥離したい時には接合界面に水分を供給
してやるだけで容易に剥離することのできるポリフェニ
レンスルフィドフィルムを提供することにある。
［課題を解決するための手段］
かかる本発明の目的は、表面において、全炭素原子に対
する酸素原子と結合した炭素原子の割合が、３％〜２０
％の範囲にあり、かつ仝イオウ原子に対するスルフォン
酸、スルフォン酸イオンまたはスルフォン酸塩の状態で
酸素原子と結合したイオウ原子の割合が、３％〜３５％
の範囲にあることを特ｆｊｌとするポリフェニレンスル
フィドフィルムにより達成される。
する酸素原子と結合した炭素原子の割合が、３％〜２０
％の範囲にあり、かつ仝イオウ原子に対するスルフォン
酸、スルフォン酸イオンまたはスルフォン酸塩の状態で
酸素原子と結合したイオウ原子の割合が、３％〜３５％
の範囲にあることを特ｆｊｌとするポリフェニレンスル
フィドフィルムにより達成される。
本発明において使用されるポリフェニレンスルフィドフ
ィルムとしては、次の繰返し単位物からなるフィルムを
いう。ポリー〇−フェニレンスルフィドの含有量は該フ
ィルムの耐熱性、各種機械的特性の点からは８０重量％
以上、好ましくは９０重量％以上でおり、またポリ−ｐ
−フェニレンスルフィド中の上記構成単位の割合が９０
モル％以上であることが好ましい。
ィルムとしては、次の繰返し単位物からなるフィルムを
いう。ポリー〇−フェニレンスルフィドの含有量は該フ
ィルムの耐熱性、各種機械的特性の点からは８０重量％
以上、好ましくは９０重量％以上でおり、またポリ−ｐ
−フェニレンスルフィド中の上記構成単位の割合が９０
モル％以上であることが好ましい。
該樹脂組成物中にはポリフェニレンスルフィトフィルム
のの特性を損なわない範囲で耐摩耗性向上や耐候性向上
等のために、無機または有機フィラー、滑剤、紫外線吸
収剤、着色剤等の含有させることができる。
のの特性を損なわない範囲で耐摩耗性向上や耐候性向上
等のために、無機または有機フィラー、滑剤、紫外線吸
収剤、着色剤等の含有させることができる。
ポリフェニレンスルフィドフィルム厚さは０゜４μｍ〜
１００μｍの範囲が好ましく、また該フィルムの平均表
面粗さＲａは０．０３〜０．１０μｍの範囲が好ましい
が、これらの範囲に限定されない。
１００μｍの範囲が好ましく、また該フィルムの平均表
面粗さＲａは０．０３〜０．１０μｍの範囲が好ましい
が、これらの範囲に限定されない。
本発明で用いるポリフェニレンスルフィドフィルムは、
例えば特開昭５５ １１１２３５Ｍ公報等に記ｆＲされ
た周知の方法で製造することができる。
例えば特開昭５５ １１１２３５Ｍ公報等に記ｆＲされ
た周知の方法で製造することができる。
本発明のポリフェニレンスルフィドフィルムは、先ず、
表面において全炭素原子に対する酸素原子と結合した炭
素原子の割合が、３％〜２０％の範囲におることが重要
であり、また第２に仝イオウ原子に対するスルフ４ン酸
、スルフォン酸イオンまたはスルフォン酸塩の状態で酸
素原子と結合したイオウ原子の割合が、３％〜３５％の
範囲にあることが重要である。
表面において全炭素原子に対する酸素原子と結合した炭
素原子の割合が、３％〜２０％の範囲におることが重要
であり、また第２に仝イオウ原子に対するスルフ４ン酸
、スルフォン酸イオンまたはスルフォン酸塩の状態で酸
素原子と結合したイオウ原子の割合が、３％〜３５％の
範囲にあることが重要である。
ここでポリフェニレンスルフィドフィルム表面における
炭素およびイオウの化学結合状態は例えば、Ｘ線光電子
分光（ＸＰＳ）測定により知ることができる。すなわち
、ＸＰＳ測定でＸ線をフィルム表面に照射し、放射され
るＸ線光電子の炭素の１Ｓピークとイオウの２Ｐピーク
を取り出してピーク分割を行なうことにより炭Ｎおよび
イオウがどのような化学結合状態にどれだけの割合で結
合しているかを知ることができる。
炭素およびイオウの化学結合状態は例えば、Ｘ線光電子
分光（ＸＰＳ）測定により知ることができる。すなわち
、ＸＰＳ測定でＸ線をフィルム表面に照射し、放射され
るＸ線光電子の炭素の１Ｓピークとイオウの２Ｐピーク
を取り出してピーク分割を行なうことにより炭Ｎおよび
イオウがどのような化学結合状態にどれだけの割合で結
合しているかを知ることができる。
本発明において、酸素原子と結合した炭素原子とは、Ｘ
ＰＳ測定で得たＣ１Ｓピークを分割した時、−ＣＯＯ−
１＝Ｃ＝Ｏ１＝Ｃ−０−の結合状態に帰属される炭素原
子を言う。
ＰＳ測定で得たＣ１Ｓピークを分割した時、−ＣＯＯ−
１＝Ｃ＝Ｏ１＝Ｃ−０−の結合状態に帰属される炭素原
子を言う。
ポリフェニレンスルフィドフィルムの表面において、全
炭素原子に対する酸素原子と結合した炭素原子の８１合
が３％未満の場合には、十分な熱融４性が得られず、ま
た２０％を越える場合はやはり十分な熱融着性を得るこ
とができないとともにフィルムの表面が硬くもろくなり
、耐摩耗性などの低下を引き起こすため好ましくない。
炭素原子に対する酸素原子と結合した炭素原子の８１合
が３％未満の場合には、十分な熱融４性が得られず、ま
た２０％を越える場合はやはり十分な熱融着性を得るこ
とができないとともにフィルムの表面が硬くもろくなり
、耐摩耗性などの低下を引き起こすため好ましくない。
より好ましくは４％〜１５％の範囲である。
本発明において、スルフ４ン酸、スルフォン酸イオンま
たはスルフ４ン酸塩の状態で酸素原子と結合したイオウ
原子とは、ＸＰＳ測定でＸ線をフィルム表面に照射し、
放射されるＸ線光電子の８２ｐ’−りを取り出してピー
ク分割した時、３０４またはＳＯ３の結合状態に帰属さ
れるイオウ原子をいう。
たはスルフ４ン酸塩の状態で酸素原子と結合したイオウ
原子とは、ＸＰＳ測定でＸ線をフィルム表面に照射し、
放射されるＸ線光電子の８２ｐ’−りを取り出してピー
ク分割した時、３０４またはＳＯ３の結合状態に帰属さ
れるイオウ原子をいう。
表面において、仝イオウ原子に対するスルフォン酸、ス
ルフ４ン酸イオンまたはスルフォン酸塩の状態で１Ｍ原
子と結合したイオウ原子の割合が、３％未満の場合には
熱融着性が得られなかったり、熱融着性は得られるが湯
側剥離性が低下するなどの欠点がおり好ましくない。ま
た上記割合が３５％を越える場合は十分な熱融着性が得
られない。
ルフ４ン酸イオンまたはスルフォン酸塩の状態で１Ｍ原
子と結合したイオウ原子の割合が、３％未満の場合には
熱融着性が得られなかったり、熱融着性は得られるが湯
側剥離性が低下するなどの欠点がおり好ましくない。ま
た上記割合が３５％を越える場合は十分な熱融着性が得
られない。
仝イオウ原子に対するスルフォン酸、スルフォン酸イオ
ンまたはスルフォン酸塩の状態で酸素原子と結合したイ
オウ原子の割合のより好ましい範囲としては４％〜３０
％である。
ンまたはスルフォン酸塩の状態で酸素原子と結合したイ
オウ原子の割合のより好ましい範囲としては４％〜３０
％である。
かかるポリフェニレンスルフィドフィルムの製法の１例
は、原料となるポリフェニレンスルフィドフィルムの表
面または両面を、例えば選択された混合ガス雰囲気およ
びプラズマ条件中で低温プラズマ処理を施ずことにより
得ることができる。
は、原料となるポリフェニレンスルフィドフィルムの表
面または両面を、例えば選択された混合ガス雰囲気およ
びプラズマ条件中で低温プラズマ処理を施ずことにより
得ることができる。
第１図は本発明において使用可能な低温プラズマ処理装
置の１例を例示したもので、図において、原料フィルム
１は送り出しロール２により放電処理部９へ送り出され
る。放電処理部９にはガス導入系８より、所定組成のガ
スが供給され、ここで図示していない簡単な排気装置に
よって所定のガス圧力に維持される。フィルム１は放電
処理部において、高圧印加電１ｆ！３に高電圧電源５よ
り整合トランス６を介して印加された高周波高電圧によ
って、接地されたドラム状電極４との間で形成される放
電によって処理された後、巻き取りロール７に巻き取ら
れる。
置の１例を例示したもので、図において、原料フィルム
１は送り出しロール２により放電処理部９へ送り出され
る。放電処理部９にはガス導入系８より、所定組成のガ
スが供給され、ここで図示していない簡単な排気装置に
よって所定のガス圧力に維持される。フィルム１は放電
処理部において、高圧印加電１ｆ！３に高電圧電源５よ
り整合トランス６を介して印加された高周波高電圧によ
って、接地されたドラム状電極４との間で形成される放
電によって処理された後、巻き取りロール７に巻き取ら
れる。
放電は、内部に水などの冷媒を流すことによって冷却さ
れた金属管などの導体の表面をゴムやガラス等の誘電体
で被覆した高電圧印加電極と、該電極に対向１ノで設け
ら、放電が形成される面が同様な誘電体で被覆された、
被処理物を支持するための電極との間で形成される。誘
電体の厚さとしては０．１〜５ｍｍの範囲が好ましい。
れた金属管などの導体の表面をゴムやガラス等の誘電体
で被覆した高電圧印加電極と、該電極に対向１ノで設け
ら、放電が形成される面が同様な誘電体で被覆された、
被処理物を支持するための電極との間で形成される。誘
電体の厚さとしては０．１〜５ｍｍの範囲が好ましい。
高電圧印加電極と被処理物を支持する電極とは同数でお
る必要はなく、被処理物を支持する電極１個に対し、、
高電圧印加電極を２個以上設けるのがよい。
る必要はなく、被処理物を支持する電極１個に対し、、
高電圧印加電極を２個以上設けるのがよい。
高電圧印加電極に印加する高電圧の周波数は好ましくは
５０ＫＨｚ〜５００ＫＨｚの範囲で選択される。
５０ＫＨｚ〜５００ＫＨｚの範囲で選択される。
本発明においてプラズマ処理に好適に用いられるガスと
しては、アルゴン、クリプトン、ネオンなどの不活性ガ
スと酸素と窒素の混合ガス、あるいは不活性ガスと水蒸
気の混合ガスなどが挙げられ、これらの混合ガスの混合
比を適切に選択することが小要である。不活性ガスと窒
素と酸素の場合には９９．８〜７５：０．０５〜２４：
０．０５〜２４（体積比）の範囲で選択するのがよく、
また不活性ガスと水蒸気の混合ガスの場合は体積比で９
９．８：０．２〜７５：２５の範囲でそれぞれ選択する
のが好ま【ノい。
しては、アルゴン、クリプトン、ネオンなどの不活性ガ
スと酸素と窒素の混合ガス、あるいは不活性ガスと水蒸
気の混合ガスなどが挙げられ、これらの混合ガスの混合
比を適切に選択することが小要である。不活性ガスと窒
素と酸素の場合には９９．８〜７５：０．０５〜２４：
０．０５〜２４（体積比）の範囲で選択するのがよく、
また不活性ガスと水蒸気の混合ガスの場合は体積比で９
９．８：０．２〜７５：２５の範囲でそれぞれ選択する
のが好ま【ノい。
雰囲気の圧力は、０．１〜１０００ＴＯｒｒの範囲で選
択するのが好ましく、より好ましくは１０〜９００Ｔｏ
ｒｒの圧力範囲で選択するのがよい。
択するのが好ましく、より好ましくは１０〜９００Ｔｏ
ｒｒの圧力範囲で選択するのがよい。
処理強度としては、５０Ｗ−ｍｉｎ／ｍ２以上の処理電
力密度で処理するのがよく、より好ましくは１０１００
Ｗ−ｎ／ｍ２以上の処理電力密度″ｃ処理するのがよい
。ここで処理電力密度とは出力を放電部分の幅（ドラム
状電極の軸長方向）とフィルムの処理速度で割った値で
ある。
力密度で処理するのがよく、より好ましくは１０１００
Ｗ−ｎ／ｍ２以上の処理電力密度″ｃ処理するのがよい
。ここで処理電力密度とは出力を放電部分の幅（ドラム
状電極の軸長方向）とフィルムの処理速度で割った値で
ある。
本発明で得られるポリフェニレンスルフィドフィルムは
常態では強い熱融着性を有するとともに、剥離したい時
には接合界面に水分を供給してやるだｔプで容易にかつ
被接着面に損傷を与えることなく剥離することができる
ため、離型フィルム、保護フィルム、ラベル、ステッカ
−、テープなどの用途に有効に使用できる。
常態では強い熱融着性を有するとともに、剥離したい時
には接合界面に水分を供給してやるだｔプで容易にかつ
被接着面に損傷を与えることなく剥離することができる
ため、離型フィルム、保護フィルム、ラベル、ステッカ
−、テープなどの用途に有効に使用できる。
［発明の効果］
本発明のポリフェニレンスルフィドフィルムは表面を特
定の化学構造を有するものとしたため高度の熱融着性と
湿潤剥離性を同時に有し、しかもこれらの特性は経時的
に劣化することがないという顕著な実用効果を奏するも
のである。
定の化学構造を有するものとしたため高度の熱融着性と
湿潤剥離性を同時に有し、しかもこれらの特性は経時的
に劣化することがないという顕著な実用効果を奏するも
のである。
このような効果を奏する理由については明らかではない
が、酸素原子と結合した炭素原子、例えば〉Ｃ＝０、−
ＣＯＨ１−ＣＯＯＩ−１などの極性基は自己融着性を発
現するために効果があるものと考えられる。一方、スル
フォン酸基など酸素原子と結合したイオウ原子の存在が
湿潤剥離性を発現させたものと推察される。
が、酸素原子と結合した炭素原子、例えば〉Ｃ＝０、−
ＣＯＨ１−ＣＯＯＩ−１などの極性基は自己融着性を発
現するために効果があるものと考えられる。一方、スル
フォン酸基など酸素原子と結合したイオウ原子の存在が
湿潤剥離性を発現させたものと推察される。
［実施例］
以下実施例について説明する。なお本発明における特性
の測定には、次の方法を用いた。
の測定には、次の方法を用いた。
（１）ポリフェニレンスルフィドフィルム表面の化学構
造の測定法 Ｘ線光電子分光装置（（株）島津製作所製ＥＳＣＡ７５
０）を用い、炭素の１Ｓピークとイオウの２ｐピークを
測定する。このピークを下記のような化学結合状態のピ
ークの合成で必ることから、ガウス分４５近似により化
学結合状態からの信号に分解し、分解１麦のそれぞれの
信号のピーク高さからそれぞれの化学結合状態にある原
子の数の比を算出する。また下記のそれぞれの化学結合
状態におる原子の数の比の合計をもって全炭素原子の数
または仝イオウ原子の数とする。
造の測定法 Ｘ線光電子分光装置（（株）島津製作所製ＥＳＣＡ７５
０）を用い、炭素の１Ｓピークとイオウの２ｐピークを
測定する。このピークを下記のような化学結合状態のピ
ークの合成で必ることから、ガウス分４５近似により化
学結合状態からの信号に分解し、分解１麦のそれぞれの
信号のピーク高さからそれぞれの化学結合状態にある原
子の数の比を算出する。また下記のそれぞれの化学結合
状態におる原子の数の比の合計をもって全炭素原子の数
または仝イオウ原子の数とする。
Ｃ１Ｓピークは、π−π＊ −ｃｏｏ−＝ｃ＝０、＝Ｃ
−０−中性炭素、−Ｃ−Ｓ−に帰属される。
−０−中性炭素、−Ｃ−Ｓ−に帰属される。
＊
Ｓ２．ピークはπ−π 、ＳＯｌ、Ｓ０３、−Ｃ−３０
２−Ｃ−−Ｃ−３０３−Ｃ−−Ｃ−３Ｏ−Ｃ−１−Ｃ−
Ｓ−Ｃ−に帰属される。
２−Ｃ−−Ｃ−３０３−Ｃ−−Ｃ−３Ｏ−Ｃ−１−Ｃ−
Ｓ−Ｃ−に帰属される。
ここで３０４ 、Ｓ Ｏｓがスルフオン酸、スルフォン
酸イオンまたはスルフ４ン酸塩を示す。
酸イオンまたはスルフ４ン酸塩を示す。
（２） 接着力の測定法
処理面同士を重ね合せねて、２枚のポリフェニレンスル
フィドフィルムを２２０℃に加熱したロール間を１回通
過させて熱融着させる。ロール間は３ＫＣＩ／Ｃｍ２
、ロール回転速度は１ｍ／分とした。
フィドフィルムを２２０℃に加熱したロール間を１回通
過させて熱融着させる。ロール間は３ＫＣＩ／Ｃｍ２
、ロール回転速度は１ｍ／分とした。
次いで前記熱融着されたポリフェニレンスルフィドフィ
ルムをショッパ型引張試験機（大乗科学精器製作所製〉
にセットして１８０度方向に引き剥がし、引き剥がすの
に要する力を読みとり、乾接着力とした。なお引き剥が
し速度は２００ｍ／分とした。
ルムをショッパ型引張試験機（大乗科学精器製作所製〉
にセットして１８０度方向に引き剥がし、引き剥がすの
に要する力を読みとり、乾接着力とした。なお引き剥が
し速度は２００ｍ／分とした。
また前記方法において引き剥がしを連続的に水を供給し
ながら行ない、測定した接着力を溶接着力とした。
ながら行ない、測定した接着力を溶接着力とした。
実施例１．２
第１図のプラズマ処理装置に、２軸延伸された厚さ３８
μｍのポリフェニレンスルフィドフィルム（東しく株）
製“トレリナ″）をセットして処理した。
μｍのポリフェニレンスルフィドフィルム（東しく株）
製“トレリナ″）をセットして処理した。
電極に被覆する誘電体として厚さ１ｍｍのガラスを使用
し、高圧印加電極とドラム状電極４との距離を’１ｍｍ
に設定した。
し、高圧印加電極とドラム状電極４との距離を’１ｍｍ
に設定した。
放電処理部９内を１Ｘ１０″Ｔｏｒｒ以下まで排気し、
ガス導入系より、アルゴンと窒素と酸素からなる混合ガ
スを導入して６００Ｔｏｒｒに保つ。次いで高圧印加電
極３とドラム伏型（※４の間に１１０ＫＨｚの高周波を
高電圧電源５より供給し、プラズマを発生させる。投入
電力は電源出力で１ＫＷとした。
ガス導入系より、アルゴンと窒素と酸素からなる混合ガ
スを導入して６００Ｔｏｒｒに保つ。次いで高圧印加電
極３とドラム伏型（※４の間に１１０ＫＨｚの高周波を
高電圧電源５より供給し、プラズマを発生させる。投入
電力は電源出力で１ＫＷとした。
発生させたプラズマ中を阜体を７ｍ／分の速度で通過さ
せて処理を行なった（処理電力密度２４０Ｗ−ｍｉ ｎ
／ｍ２ ）。
せて処理を行なった（処理電力密度２４０Ｗ−ｍｉ ｎ
／ｍ２ ）。
アルゴン：窒素：Ｍ素の混合比を９７．５：２：０．５
とした場合を実施例１、同じく混合比を９０：８：２と
したものを実施例２とする。
とした場合を実施例１、同じく混合比を９０：８：２と
したものを実施例２とする。
得られたポリフェニレンスルフィドフィルムの表面の化
学構造を測定した結果を表１に示す。また得られたポリ
フェニレンスルフィドフィルムを大気に開放された室内
に６力月放置した後、乾接着力および溶接着力を測定し
、結果を表２に示した。
学構造を測定した結果を表１に示す。また得られたポリ
フェニレンスルフィドフィルムを大気に開放された室内
に６力月放置した後、乾接着力および溶接着力を測定し
、結果を表２に示した。
表１．２から明らかなごとく、本発明で規定した表面構
造を有する場合、極めて高い軟接着力を有しておりなが
ら、連接着力は著しく低いことがわかる。またこれらの
接着力は長期間放置してもほとノνど変化することがな
いことがわかる。
造を有する場合、極めて高い軟接着力を有しておりなが
ら、連接着力は著しく低いことがわかる。またこれらの
接着力は長期間放置してもほとノνど変化することがな
いことがわかる。
表 １
ＸＹ 軟接着力 連接着力
（％）（％） （ｇ／ ｃｍ） ｌ／ｃｍ）実施例１
５６２６５’１ 実施例２７１４２７２２ 比較例１ ６ １ ２６５ ２ｆ３Ｂ比較例
２ １５３９ ２００ １（注〉 Ｘ：全炭素原子に対する酸素原子と結合した炭素原子の
割合。
５６２６５’１ 実施例２７１４２７２２ 比較例１ ６ １ ２６５ ２ｆ３Ｂ比較例
２ １５３９ ２００ １（注〉 Ｘ：全炭素原子に対する酸素原子と結合した炭素原子の
割合。
Ｙ：仝イオウ原子に対する酸素原子と結合したイオウ原
子の割合。
子の割合。
表２
６月１安の ６月後の
軟接着力 連接着力
（ｇ／ ｃｍ） ｌ／ｃｍ）
実施例１ ２７０ １
実施例２ ２８７ ２
比較例３ １６０ １
比較例１．２
導入するガスをアルゴンのみとした以外は実施例１と同
様にして表面処理したものを比較例１とする。
様にして表面処理したものを比較例１とする。
また導入するガスをアルゴン：窒素：酸素が７０：２４
：６の混合ガスとした以外は実施例１と同様にして表面
処理したものを比較例２とする。
：６の混合ガスとした以外は実施例１と同様にして表面
処理したものを比較例２とする。
ｊｑられたポリフェニレンスルフィドフィルムの表面の
化学構造の測定結果を表１に示す。また得られたポリフ
ェニレンスルフィドフィルムを大気に開放された室内に
６力月放置した後、軟接着力および連接着力を測定した
結果を表２に示す。
化学構造の測定結果を表１に示す。また得られたポリフ
ェニレンスルフィドフィルムを大気に開放された室内に
６力月放置した後、軟接着力および連接着力を測定した
結果を表２に示す。
表１．２から明らかなごとく、比較例１では軟接着力は
十分大きいものの連接着力も大ぎく湿潤剥離性の劣るも
のでめった。また比較例２の場合、連接着力は著しく低
いものの、軟接着力も低く、実用性のないものであった
。
十分大きいものの連接着力も大ぎく湿潤剥離性の劣るも
のでめった。また比較例２の場合、連接着力は著しく低
いものの、軟接着力も低く、実用性のないものであった
。
比較例３
第２図のコロナ放電処理装置を用いて処理を行なった。
図中１１はは送り出しロール、１２は誘電体被覆のドラ
ム状電極、１３は巻き出しロール、］４は金属ワイヤー
電極で、両電極間の距離は１ｍｍに設定した。金属ワイ
ヤー電極はカバー１５とドラム状電極によりほぼ密閉さ
れており、この密閉空間内にバルブ１６を経て空気を２
２０１／分の速さで送り込んだ。電極には１１０ＫＨｚ
の高電圧電源１７が接続されていて、投入電力を電源出
力で１．２ＫＷとし、金属ワイヤー電極とドラム状電極
の間でコロナ放電を生成した。基体としては実施例１と
同じポリフェニレンスルフィドフィルムを使用し、２０
ｍ／分の速さでコロナ放電処理ゾーンを走行させた。
ム状電極、１３は巻き出しロール、］４は金属ワイヤー
電極で、両電極間の距離は１ｍｍに設定した。金属ワイ
ヤー電極はカバー１５とドラム状電極によりほぼ密閉さ
れており、この密閉空間内にバルブ１６を経て空気を２
２０１／分の速さで送り込んだ。電極には１１０ＫＨｚ
の高電圧電源１７が接続されていて、投入電力を電源出
力で１．２ＫＷとし、金属ワイヤー電極とドラム状電極
の間でコロナ放電を生成した。基体としては実施例１と
同じポリフェニレンスルフィドフィルムを使用し、２０
ｍ／分の速さでコロナ放電処理ゾーンを走行させた。
１斤られたポリフェニレンスルフィドフィルムの接６カ
を測定したところ、処理直１麦は軟接着力２３７ｑ／ｃ
ｍ、連接着力３ｇ／Ｃｍであったが、６力月放置後の接
着力は軟接着力１６０Ｑ／Ｃｍ。
を測定したところ、処理直１麦は軟接着力２３７ｑ／ｃ
ｍ、連接着力３ｇ／Ｃｍであったが、６力月放置後の接
着力は軟接着力１６０Ｑ／Ｃｍ。
連接着力１にｌ／Ｃｍであり、経時により軟接着力が大
きく低下した。
きく低下した。
第１図は本発明で使用できるプラズマ処理装置の一例を
示す概略図、第２図は比較例の作製に使用されるコロナ
放電処理装置を説明する概略図である。 ２．１１ ４．１２
示す概略図、第２図は比較例の作製に使用されるコロナ
放電処理装置を説明する概略図である。 ２．１１ ４．１２
Claims (1)
- １ 表面において、全炭素原子に対する酸素原子と結合
した炭素原子の割合が、３％〜２０％の範囲にあり、か
つ全イオウ原子に対するスルフォン酸、スルフォン酸イ
オンまたはスルフォン酸塩の状態で酸素原子と結合した
イオウ原子の割合が、３％〜３５％の範囲にあることを
特徴とするポリフェニレンスルフィドフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20083888A JP2611361B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | ポリフェニレンスルフィドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20083888A JP2611361B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | ポリフェニレンスルフィドフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0249035A true JPH0249035A (ja) | 1990-02-19 |
| JP2611361B2 JP2611361B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=16431050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20083888A Expired - Lifetime JP2611361B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | ポリフェニレンスルフィドフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2611361B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009088118A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 絶縁膜形成用組成物 |
| EP2153987A1 (en) * | 2008-07-30 | 2010-02-17 | Hitachi Engineering & Services Co., Ltd. | Method of manufacturing adhesive-free laminate of aramid paper and polyphenylene sulfide film, and insulation material and insulation structure for rotating electric machinery |
| JPWO2021020289A1 (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-04 |
-
1988
- 1988-08-11 JP JP20083888A patent/JP2611361B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009088118A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 絶縁膜形成用組成物 |
| EP2153987A1 (en) * | 2008-07-30 | 2010-02-17 | Hitachi Engineering & Services Co., Ltd. | Method of manufacturing adhesive-free laminate of aramid paper and polyphenylene sulfide film, and insulation material and insulation structure for rotating electric machinery |
| US8709193B2 (en) | 2008-07-30 | 2014-04-29 | Hitachi Engineering & Services Co., Ltd. | Method of manufacturing adhesive-free laminate of aramid paper and polyphenylene sulfide film, and insulation material and insulation structure for rotating electric machinery |
| JPWO2021020289A1 (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-04 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2611361B2 (ja) | 1997-05-21 |
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