JPH024922A - 無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法 - Google Patents
無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法Info
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- JPH024922A JPH024922A JP15464488A JP15464488A JPH024922A JP H024922 A JPH024922 A JP H024922A JP 15464488 A JP15464488 A JP 15464488A JP 15464488 A JP15464488 A JP 15464488A JP H024922 A JPH024922 A JP H024922A
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- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D3/00—Diffusion processes for extraction of non-metals; Furnaces therefor
- C21D3/02—Extraction of non-metals
- C21D3/06—Extraction of hydrogen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1216—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties characterised by the working steps
- C21D8/1222—Hot rolling
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
近年最先端科学技術である素粒子研究や医療機器の進歩
に伴って、大型構造物に磁気を用いる装置か使われ、そ
の性能向上が求められている。
に伴って、大型構造物に磁気を用いる装置か使われ、そ
の性能向上が求められている。
本発明はここにおいて直流磁化条件で使用される磁石の
鉄心用、あるいは磁場を遮蔽するのに必要な磁気シール
ド用の磁束密度の高い電磁厚鋼板の製造方法に関するも
のである。
鉄心用、あるいは磁場を遮蔽するのに必要な磁気シール
ド用の磁束密度の高い電磁厚鋼板の製造方法に関するも
のである。
［従来の技術］
磁束密度に優れた電磁鋼板としては、従来から薄板分野
で珪素鋼板、電磁軟鉄板をはじめとする数多くの材料が
提供されているのは公知である。
で珪素鋼板、電磁軟鉄板をはじめとする数多くの材料が
提供されているのは公知である。
しかし、構造部材として使用するには組み立て加工及び
強度上の問題があり、厚鋼板を利用する必要が生じてく
る。これまで電磁厚板としては純鉄系成分で製造されて
いる。たとえば、特開昭６０−９Ｅｉ７４９号公報が公
知である。
強度上の問題があり、厚鋼板を利用する必要が生じてく
る。これまで電磁厚板としては純鉄系成分で製造されて
いる。たとえば、特開昭６０−９Ｅｉ７４９号公報が公
知である。
しかしながら、近年の装置の大型化、能力の向上等に伴
いさらに磁気特性の優れた、とくに低磁場、たとえば８
０Ａ／ｍでの磁束密度の高い鋼材開発の要望が強い。前
掲の特許等で開発された鋼材では、８０Ａ／ｍでの低磁
場での高い磁束密度が安定して得られない。
いさらに磁気特性の優れた、とくに低磁場、たとえば８
０Ａ／ｍでの磁束密度の高い鋼材開発の要望が強い。前
掲の特許等で開発された鋼材では、８０Ａ／ｍでの低磁
場での高い磁束密度が安定して得られない。
［発明が解決しようとする課題］
本発明の目的は以上の点を鑑みなされたもので、低磁場
での磁束密度の高く、その板厚方向での磁気特性差の少
ない無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法を提供する
ことにある。
での磁束密度の高く、その板厚方向での磁気特性差の少
ない無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法を提供する
ことにある。
［課題を解決するための手段］
本発明は重量％で、Ｃ： ０．０１％以下、Ｓｉ 二０
．０２％以下、Ｍｎ：０．２０％以下、Ｐ ：０．０１
５％以下、Ｓ ：０．０１０％以下、Ｃｒ：ｏ、０５％
以下、Ｍｏ：０．０１％以下、Ｃｕ：０．旧％以下、Ｃ
ａ：０．０００５〜０．旧％、Ａ、Ｑ ：０．００５％
以下、Ｎ：０．００４％以下、０ ：０．００５％以下
、Ｈ： ０．０００２％以下、残部実質的に鉄からなる
鋼組成の鋼片または、鋳片を１１５０〜１３００℃に加
熱し、仕上げ温度を９００℃以上となる条件下で圧延形
状比Ａが０．７以上の圧延パスが１回以上はとる圧延を
行った後、板厚５０ｍ＋＊以上の厚板については６００
〜７５０℃の脱水素熱処理を行った後、必要に応じて７
５０〜９５０℃で焼鈍するか、あるいは９１０〜１００
０℃で焼準し、板厚２０ｍｍ以上５０龍未満については
７５０〜９５０℃で焼鈍するかあるいは９１０〜１００
０℃で焼準することを特徴とする磁場８０Ａ／ｍでの磁
束密度が０．８テスラ以上の磁気特性を有する板厚２０
關以上の無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法である
。
．０２％以下、Ｍｎ：０．２０％以下、Ｐ ：０．０１
５％以下、Ｓ ：０．０１０％以下、Ｃｒ：ｏ、０５％
以下、Ｍｏ：０．０１％以下、Ｃｕ：０．旧％以下、Ｃ
ａ：０．０００５〜０．旧％、Ａ、Ｑ ：０．００５％
以下、Ｎ：０．００４％以下、０ ：０．００５％以下
、Ｈ： ０．０００２％以下、残部実質的に鉄からなる
鋼組成の鋼片または、鋳片を１１５０〜１３００℃に加
熱し、仕上げ温度を９００℃以上となる条件下で圧延形
状比Ａが０．７以上の圧延パスが１回以上はとる圧延を
行った後、板厚５０ｍ＋＊以上の厚板については６００
〜７５０℃の脱水素熱処理を行った後、必要に応じて７
５０〜９５０℃で焼鈍するか、あるいは９１０〜１００
０℃で焼準し、板厚２０ｍｍ以上５０龍未満については
７５０〜９５０℃で焼鈍するかあるいは９１０〜１００
０℃で焼準することを特徴とする磁場８０Ａ／ｍでの磁
束密度が０．８テスラ以上の磁気特性を有する板厚２０
關以上の無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法である
。
ただし、
Ａ＝ （２Ｒ（ｈ −ｈ ） ） ／ｈ、 十ｈ１
０ ｌ Ｏ Ａ ：圧延形状比 り、：入側板厚 （＋ｎ＋ａ） ｈ ：出側板厚 （關） Ｒ：圧延ロール半径（＋ａｍ） ［作 用］ まず、低磁場での磁束密度を高くするために磁化のプロ
セスについて述べると、消磁状態の鋼を磁界の中に入れ
、磁界を強めていくと次第に磁区の向きに変化が生じ、
磁界の方向に近い磁区が優勢になり他の磁区を蚕食併合
していく。つまり、磁壁の移動が起こる。
０ ｌ Ｏ Ａ ：圧延形状比 り、：入側板厚 （＋ｎ＋ａ） ｈ ：出側板厚 （關） Ｒ：圧延ロール半径（＋ａｍ） ［作 用］ まず、低磁場での磁束密度を高くするために磁化のプロ
セスについて述べると、消磁状態の鋼を磁界の中に入れ
、磁界を強めていくと次第に磁区の向きに変化が生じ、
磁界の方向に近い磁区が優勢になり他の磁区を蚕食併合
していく。つまり、磁壁の移動が起こる。
さらに磁界が強くなり磁壁の移動が完了すると、次に磁
区全体の磁力方向が向きを変えていく。この磁化プロセ
スの中で、低磁場での磁束密度を決めるのは磁壁の移動
しやすさである。つまり低磁場で高磁束密度を得るため
には、磁壁の移動を障害するものを極力減らすことであ
る。
区全体の磁力方向が向きを変えていく。この磁化プロセ
スの中で、低磁場での磁束密度を決めるのは磁壁の移動
しやすさである。つまり低磁場で高磁束密度を得るため
には、磁壁の移動を障害するものを極力減らすことであ
る。
発明者らはここにおいて、低磁場で高磁束密度を得るた
めの手段として、粒径への元素の効果と内部応力の原因
となる元素及び空隙性欠陥の作用につき、詳細な検討を
行い低磁場で高磁束密度特性を有する鋼板の製造法を発
明したものである。
めの手段として、粒径への元素の効果と内部応力の原因
となる元素及び空隙性欠陥の作用につき、詳細な検討を
行い低磁場で高磁束密度特性を有する鋼板の製造法を発
明したものである。
まず、粗粒化のためには、結晶粒微細化作用を有するＡ
ＩＪＮを減少するため、Ａｌｌ、Ｎの低下することが必
要である。特に、ＡＮについては第１図に示すように低
くするに従いフェライト粒の粒成長が起こるが、無添加
の領域、つまり０．００５％以下になると結晶粒の異常
な粒成長が起こることを知見した。ただし、ＡＩを無添
加にすると別の脱酸剤を添加する必要がある。
ＩＪＮを減少するため、Ａｌｌ、Ｎの低下することが必
要である。特に、ＡＮについては第１図に示すように低
くするに従いフェライト粒の粒成長が起こるが、無添加
の領域、つまり０．００５％以下になると結晶粒の異常
な粒成長が起こることを知見した。ただし、ＡＩを無添
加にすると別の脱酸剤を添加する必要がある。
本発明者らはここにおいて、このＡｌｌに代わる脱酸剤
でかつ低磁場での磁束密度を低下させない元素としてＣ
ａがよいことを知見した。
でかつ低磁場での磁束密度を低下させない元素としてＣ
ａがよいことを知見した。
さらに、製造方法としては、加熱温度を極力上げ加熱オ
ーステナイト粒の粗大化、圧延仕上げ温度を極力高めに
し、圧延による結晶粒の微細化を防止すること並びに圧
延後の焼鈍をすることである。
ーステナイト粒の粗大化、圧延仕上げ温度を極力高めに
し、圧延による結晶粒の微細化を防止すること並びに圧
延後の焼鈍をすることである。
内部応力減少のためには、Ｃの低下が必要である。第２
図に示す０．０１Ｓ ｉ −０，１Ｍｎ −０，０Ｉ
Ａｉｌ鋼にあってＣ含有量の増加につれ低磁場（８０Ａ
／ｍ）での磁束密度か低下することがわかる。
図に示す０．０１Ｓ ｉ −０，１Ｍｎ −０，０Ｉ
Ａｉｌ鋼にあってＣ含有量の増加につれ低磁場（８０Ａ
／ｍ）での磁束密度か低下することがわかる。
さらに鋼中の水素の存在も有害で、第３図に示すように
、脱水素熱処理を行うことによって磁気特性が大幅に向
上することを知見した。第３図で示すように０．００７
Ｃ−０，０１Ｓ ｉ −０，Ｉ Ｍｎ鋼にあって高形
状比圧延により空隙性欠陥のサイズを１００μ以下にし
、かつ、脱水素熱処理により鋼中水素を減少することて
内部応力も減少し低磁場での磁束密度が大幅に上昇する
ことがわかる。
、脱水素熱処理を行うことによって磁気特性が大幅に向
上することを知見した。第３図で示すように０．００７
Ｃ−０，０１Ｓ ｉ −０，Ｉ Ｍｎ鋼にあって高形
状比圧延により空隙性欠陥のサイズを１００μ以下にし
、かつ、脱水素熱処理により鋼中水素を減少することて
内部応力も減少し低磁場での磁束密度が大幅に上昇する
ことがわかる。
空隙性欠陥の影響についても種々検討した結果、そのサ
イズか１００μ以上のものが磁気特性を大幅に低下する
ことを知見した。そしてこの空隙性欠陥をなくすために
は圧延形状比Ａが０．７以上で十分であることを見出し
た。
イズか１００μ以上のものが磁気特性を大幅に低下する
ことを知見した。そしてこの空隙性欠陥をなくすために
は圧延形状比Ａが０．７以上で十分であることを見出し
た。
さらに、磁気特性の均質性を確保することも重要である
が、本発明による方法によれば、これに対しても極めて
有効な手段である。
が、本発明による方法によれば、これに対しても極めて
有効な手段である。
次に本発明の成分限定理由をのべる。
Ｃは鋼中の内部応力を高め、磁気特性、とくに低磁場で
の磁束密度を最も下げる元素であり、極力下げることが
低磁場での磁束密度を低下させないことに寄与する。ま
た、磁気時効の点からも低いほど経時劣化が少なく、磁
気特性の良い状態で恒久的に使用できるものであり、こ
のようなことからｏ、ｏｔｏ％以下に限定する。第２図
に示すようにさらに０．（１０５％以下にすることによ
り一層高磁束密度が得られる。
の磁束密度を最も下げる元素であり、極力下げることが
低磁場での磁束密度を低下させないことに寄与する。ま
た、磁気時効の点からも低いほど経時劣化が少なく、磁
気特性の良い状態で恒久的に使用できるものであり、こ
のようなことからｏ、ｏｔｏ％以下に限定する。第２図
に示すようにさらに０．（１０５％以下にすることによ
り一層高磁束密度が得られる。
Ｓｉ、Ｍｎは低磁場での磁束密度の点から少ない方が好
ましく、ＭｎはＭｎＳ系介在物を生成する点からも低い
方がよい。この意味からＳｉは０．０２％以下、Ｍｎは
０．２０％以下に限定する。Ｍｌに関してはＭｎＳ系介
在物を生成する点より、さらに望ましくは０．１０％以
下がよい。
ましく、ＭｎはＭｎＳ系介在物を生成する点からも低い
方がよい。この意味からＳｉは０．０２％以下、Ｍｎは
０．２０％以下に限定する。Ｍｌに関してはＭｎＳ系介
在物を生成する点より、さらに望ましくは０．１０％以
下がよい。
ｐ、ｓ、ｏは鋼中において非金属介在物を形成し、かつ
偏析することにより磁壁の移動を妨げる害を及ぼし、含
有量が多くなるに従って磁束密度の低下が見られ、磁気
特性を低下させるので少ないほどよい。このためＰは０
．０１５％以下、Ｓは０．０１０％以下、０は０．００
５％以下とした。
偏析することにより磁壁の移動を妨げる害を及ぼし、含
有量が多くなるに従って磁束密度の低下が見られ、磁気
特性を低下させるので少ないほどよい。このためＰは０
．０１５％以下、Ｓは０．０１０％以下、０は０．００
５％以下とした。
Ｃｒ、Ｍｏ、Ｃｕは低磁場での磁束密度を低下させるの
で少ない程好ましく、また偏析度合を少なくすることか
ら極力低くすることが必要であり、この意味からＣｒは
０．０５％以下、Ｍｏは０．０１％以下、Ｃｕは０．０
１％以下とする。
で少ない程好ましく、また偏析度合を少なくすることか
ら極力低くすることが必要であり、この意味からＣｒは
０．０５％以下、Ｍｏは０．０１％以下、Ｃｕは０．０
１％以下とする。
ＣａはＡＩに代わる脱酸元素として用いるため０．００
０５％以上添加されるが、０．０１％以上では低磁場で
の磁束密度を低下させるので、０．０００５〜０．０１
％に限定する。
０５％以上添加されるが、０．０１％以上では低磁場で
の磁束密度を低下させるので、０．０００５〜０．０１
％に限定する。
八ΩはＡ、ｌ！Ｎを生成し結晶粒微細化作用を有するた
め極力低下させる必要があるので、０．００５％以下と
する。
め極力低下させる必要があるので、０．００５％以下と
する。
Ｎは内部応力を高めかっＡｌＮにより結晶粒微細化作用
により、低磁場での磁束密度を低下させるので上限は０
．００４％以下とする。
により、低磁場での磁束密度を低下させるので上限は０
．００４％以下とする。
Ｈは電磁特性を低下させ、かつ、空隙性欠陥の減少を妨
げるので０．０００２％以下とする。
げるので０．０００２％以下とする。
次に製造法について述べる。
圧延条件については、まず圧延前加熱温度を１１５０℃
以上にするのは加熱オーステナイト粒を粗大化し磁気特
性をよくするためである。１３００℃を超す加熱はスケ
ールロスの防止、省エネルギーの観点から不必要である
ため上限を１３００℃とした。
以上にするのは加熱オーステナイト粒を粗大化し磁気特
性をよくするためである。１３００℃を超す加熱はスケ
ールロスの防止、省エネルギーの観点から不必要である
ため上限を１３００℃とした。
圧延仕上げ温度については、９００℃以下の仕上げでは
、低温圧延により結晶粒が微細化し、磁気特性が低下す
るため結晶粒の粗大化による磁束密度の上昇を狙い９０
０℃以上とした。
、低温圧延により結晶粒が微細化し、磁気特性が低下す
るため結晶粒の粗大化による磁束密度の上昇を狙い９０
０℃以上とした。
さらに熱間圧延にあたり前述の空隙性欠陥は鋼の凝固過
程で大小はあるが、必ず発生するものでありこれをなく
す手段は圧延によらなければならないので、熱間圧延の
役目は重要である。
程で大小はあるが、必ず発生するものでありこれをなく
す手段は圧延によらなければならないので、熱間圧延の
役目は重要である。
すなわち、熱間圧延１回当たりの変形量を大きくし板厚
中心部にまで変形か及ぶ熱間圧延が有効である。具体的
には圧延形状比Ａが０．７以上の圧延パスが１回以上を
含む高形状比圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを１００
μ以下にすることが電磁特性によい。
中心部にまで変形か及ぶ熱間圧延が有効である。具体的
には圧延形状比Ａが０．７以上の圧延パスが１回以上を
含む高形状比圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを１００
μ以下にすることが電磁特性によい。
圧延中にこの高形状比圧延により空隙性欠陥をなくすこ
とで、後で行う脱水素熱処理における脱水素効率が飛躍
的に上昇するのである。
とで、後で行う脱水素熱処理における脱水素効率が飛躍
的に上昇するのである。
次に熱間圧延に引き続き結晶粒粗大化、内部歪除去及び
板厚５０＋ｎｍ以上の厚手材については脱水素熱処理を
施す。板厚５０＋ｎｍ以上では水素の拡散がしにくく、
これが空隙性欠陥の原因となり、かつ、水素自身の作用
と合わさって低磁場での磁束密度を低下させる。このた
め、脱水素熱処理を行うかこの脱水素熱処理温度として
は６００℃未満では脱水素効率か悪＜７５０°Ｃ超では
変態か一部開始するので６００〜７５０℃の温度範囲で
行う。
板厚５０＋ｎｍ以上の厚手材については脱水素熱処理を
施す。板厚５０＋ｎｍ以上では水素の拡散がしにくく、
これが空隙性欠陥の原因となり、かつ、水素自身の作用
と合わさって低磁場での磁束密度を低下させる。このた
め、脱水素熱処理を行うかこの脱水素熱処理温度として
は６００℃未満では脱水素効率か悪＜７５０°Ｃ超では
変態か一部開始するので６００〜７５０℃の温度範囲で
行う。
脱水素時間としては種々検討の結果（ｏ、ｅ（ｔ５０）
＋６〕時間（ｔ：板厚）が適当である。
＋６〕時間（ｔ：板厚）が適当である。
焼鈍は結晶粒粗大化及び内部歪除去のために行うが、７
５０°Ｃ未満ては結晶粒粗大化か起こらず、また、９５
０℃以上では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないため
、焼鈍温度としては７５０〜９５０°Ｃに限定する。
５０°Ｃ未満ては結晶粒粗大化か起こらず、また、９５
０℃以上では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないため
、焼鈍温度としては７５０〜９５０°Ｃに限定する。
規準は板厚方向の結晶粒調整及び内部歪除去のために行
うが、Ａ ｃ ａ点の９１０９Ｃ以上でかつ１０００℃
以上では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないので、規
準温度は９１０〜１０００℃に限定する。なお、板厚５
０ｍｌ１１以上の厚手材で行う脱水素熱処理で、この焼
鈍あるいは規準をかねることが可能である。
うが、Ａ ｃ ａ点の９１０９Ｃ以上でかつ１０００℃
以上では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないので、規
準温度は９１０〜１０００℃に限定する。なお、板厚５
０ｍｌ１１以上の厚手材で行う脱水素熱処理で、この焼
鈍あるいは規準をかねることが可能である。
一方、板厚２０＋ｎ＋ｎ以上５０關未満のものは水素の
拡散が容易なため、脱水素熱処理は不要で前述の焼鈍ま
たは規準を施せば良い。
拡散が容易なため、脱水素熱処理は不要で前述の焼鈍ま
たは規準を施せば良い。
［実 施 例］
第１表に電磁厚板の製造条件とフェライト粒径、低磁場
での磁束密度を示す。
での磁束密度を示す。
例１〜１２は本発明の実施例を示し、例１３〜３３は比
較例を示す。例１〜７は板厚１００ｍｍに仕上げたもの
で、均一かつ粗粒で高い磁気特性を示す。例１に比べ、
さらに例４は低Ｃ１例５，６は低Ｍｎ、例７は低Ａｐで
あり、より高い磁気特性を示す。
較例を示す。例１〜７は板厚１００ｍｍに仕上げたもの
で、均一かつ粗粒で高い磁気特性を示す。例１に比べ、
さらに例４は低Ｃ１例５，６は低Ｍｎ、例７は低Ａｐで
あり、より高い磁気特性を示す。
例８−１０は５００＋ｎｍ、例１１は４０＋ｎ＋ｎ、例
１２は２０ｍｍに仕上げたもので、均一かつ粗粒で高い
磁気特性を示す。
１２は２０ｍｍに仕上げたもので、均一かつ粗粒で高い
磁気特性を示す。
例１３はＣが高く、例１４はＳｉが高く、例１５はＭｏ
が高く、例１６はＰが高く、例■７はＳが高く、例１８
はＣｒが高く、例１９はＭｏが高く、例２０はＣｕが高
く、例２１はＣａが高く、例２２．２３はＡｌが高く、
例２４はＮが高く、例２５は０が高く、例２６はＨが高
く、それぞれ上限を超えるため低磁気特性値となってい
る。
が高く、例１６はＰが高く、例■７はＳが高く、例１８
はＣｒが高く、例１９はＭｏが高く、例２０はＣｕが高
く、例２１はＣａが高く、例２２．２３はＡｌが高く、
例２４はＮが高く、例２５は０が高く、例２６はＨが高
く、それぞれ上限を超えるため低磁気特性値となってい
る。
例２７は加熱温度が下限をはずれ、例２８は圧延仕上げ
温度が下限をはずれ、例２９は最大形状比が下限をはす
れ、例３０は脱水素熱処理温度か下限をはすれ、例３１
は焼鈍温度が下限をはずれ、例３２は規準温度が上限を
超え、例３３は脱水素熱処理がないため低磁気特性値と
なっている。
温度が下限をはずれ、例２９は最大形状比が下限をはす
れ、例３０は脱水素熱処理温度か下限をはすれ、例３１
は焼鈍温度が下限をはずれ、例３２は規準温度が上限を
超え、例３３は脱水素熱処理がないため低磁気特性値と
なっている。
［発明の効果］
以上詳細に述べた如く、本発明によれば適切な成分限定
により、板厚の厚い厚鋼板に均質な高電磁特性を具備せ
しめることに成功し、直流磁化による磁気性質を利用す
る構造物に適用可能としたものであり、かつその製造法
も前述の成分限定と、熱間圧延後結晶粒調整及び脱水素
熱処理を同時に行う方式であり、極めて経済的な製造法
を提供するもので、産業上多大な効果を奏するものであ
る。
により、板厚の厚い厚鋼板に均質な高電磁特性を具備せ
しめることに成功し、直流磁化による磁気性質を利用す
る構造物に適用可能としたものであり、かつその製造法
も前述の成分限定と、熱間圧延後結晶粒調整及び脱水素
熱処理を同時に行う方式であり、極めて経済的な製造法
を提供するもので、産業上多大な効果を奏するものであ
る。
第１図はフェライト粒径に及ぼすＡｌ含有量の影響を示
すグラフ、第２図はＢＯＡ／ｍにおける磁束密度に及ぼ
すＣ含有量の影響を示すグラフ、第３図は８０Ａ／ｍに
おける磁束密度に及ぼす空隙性欠陥の大きさ及び脱水素
熱処理の影響を示すグラフである。 代 理 人 弁理士 茶野木 立 夫第 図 θθｌ θＯ２ θθ３ θ０４ へ２＠肩量 （％） 第 図 θθ２ θθ４ Ｃ（％） θθ６ ０．０８ 第 図 ５θ ｌθθ ５０ 墾諒Ｊ庄父陥のすＡス゛伝） ２θθ
すグラフ、第２図はＢＯＡ／ｍにおける磁束密度に及ぼ
すＣ含有量の影響を示すグラフ、第３図は８０Ａ／ｍに
おける磁束密度に及ぼす空隙性欠陥の大きさ及び脱水素
熱処理の影響を示すグラフである。 代 理 人 弁理士 茶野木 立 夫第 図 θθｌ θＯ２ θθ３ θ０４ へ２＠肩量 （％） 第 図 θθ２ θθ４ Ｃ（％） θθ６ ０．０８ 第 図 ５θ ｌθθ ５０ 墾諒Ｊ庄父陥のすＡス゛伝） ２θθ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 重量％で、 Ｃ：０．０１％以下、 Ｓｉ：０．０２％以下、 Ｍｎ：０．２０％以下、 Ｐ：０．０１５％以下、 Ｓ：０．０１０％以下、 Ｃｒ：０．０５％以下、 Ｍｏ：０．０１％以下、 Ｃｕ：０．０１％以下、 Ｃａ：０．０００５〜０．０１％、 Ａｌ：０．００５％以下、 Ｎ：０．００４％以下、 Ｏ：０．００５％以下、 Ｈ：０．０００２％以下、 残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または、鋳片を１
１５０〜１３００℃に加熱し、仕上げ温度を９００℃以
上となる条件下で圧延形状比Ａが０．７以上の圧延パス
が１回以上はとる圧延を行った後、板厚５０ｍｍ以上の
厚板については６００〜７５０℃の脱水素熱処理を行っ
た後、必要に応じて７５０〜９５０℃で焼鈍するかある
いは９１０〜１０００℃で焼準し、板厚２０ｍｍ以上５
０ｍｍ未満については７５０〜９５０℃で焼鈍するかあ
るいは９１０〜１０００℃で焼準することを特徴とする
磁場８０Ａ／ｍでの磁束密度が０．８テスラ以上の磁気
特性を有する板厚２０ｍｍ以上の無方向性直流磁化用電
磁厚板の製造方法。 ただし、 Ａ＝（２√Ｒ（ｈ＿ｉ−ｈ＿ｏ））／ｈ＿ｉ＋ｈ＿ｏ Ａ：圧延形状比 ｈ＿ｉ：入側板厚（ｍｍ） ｈ＿ｏ：出側板厚（ｍｍ） Ｒ：圧延ロール半径（ｍｍ）
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15464488A JPH0689400B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法 |
| US07/368,031 US4950336A (en) | 1988-06-24 | 1989-06-19 | Method of producing non-oriented magnetic steel heavy plate having high magnetic flux density |
| EP89111463A EP0349853B1 (en) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Method of producing non-oriented magnetic steel heavy plate having high magnetic flux density |
| DE68921377T DE68921377T2 (de) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Verfahren zur Herstellung nichtorientierter Stahl-Grobbleche mit hoher magnetischer Flussdichte. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15464488A JPH0689400B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH024922A true JPH024922A (ja) | 1990-01-09 |
| JPH0689400B2 JPH0689400B2 (ja) | 1994-11-09 |
Family
ID=15588727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15464488A Expired - Lifetime JPH0689400B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 無方向性直流磁化用電磁厚板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0689400B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5411605A (en) * | 1991-10-14 | 1995-05-02 | Nkk Corporation | Soft magnetic steel material having excellent DC magnetization properties and corrosion resistance and a method of manufacturing the same |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP15464488A patent/JPH0689400B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5411605A (en) * | 1991-10-14 | 1995-05-02 | Nkk Corporation | Soft magnetic steel material having excellent DC magnetization properties and corrosion resistance and a method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0689400B2 (ja) | 1994-11-09 |
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