JPH024928A - 高温還元ペレットの冷却方法 - Google Patents
高温還元ペレットの冷却方法Info
- Publication number
- JPH024928A JPH024928A JP63155916A JP15591688A JPH024928A JP H024928 A JPH024928 A JP H024928A JP 63155916 A JP63155916 A JP 63155916A JP 15591688 A JP15591688 A JP 15591688A JP H024928 A JPH024928 A JP H024928A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reduced
- pellets
- reduced pellets
- rotary cooler
- cooling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高温還元ペレットの冷却方法に係り、詳しくは
、成品還元ペレットの粉化が少なく、再酸化率を抑制し
た高温還元ペレットの冷却方法に係る。
、成品還元ペレットの粉化が少なく、再酸化率を抑制し
た高温還元ペレットの冷却方法に係る。
従来の技術
従来より、高炉から多量に排出される排ガス中のダスト
等の鉄成分を含有するものをロータリーキルンによって
高温加熱還元冷却することによって、還元ペレットとし
、これを鉄鉱原料として使用している。還元ペレットの
製造法において、冷却方法によっては品質の低下をもた
らすので種々の方法が提案されている。
等の鉄成分を含有するものをロータリーキルンによって
高温加熱還元冷却することによって、還元ペレットとし
、これを鉄鉱原料として使用している。還元ペレットの
製造法において、冷却方法によっては品質の低下をもた
らすので種々の方法が提案されている。
例えば、ロータリーキルンで約１３００℃の温度で還元
した還元ペレットをロータリークーラで散水冷却する方
法がある。しかし、この方法はペレットの圓厚が５００
〜６００ｍｍ程度あるため、不均一な冷却となること、
更に、冷却時間が約６０秒と長いため、その冷却過程に
おいて５００℃以上の還元ペレットは酸化性ガスにより
酸化され易く、散水冷却中に５〜７％程度再酸化され、
成品品質が劣化するという問題がある（特開昭５６−１
５２９３３号公報）。
した還元ペレットをロータリークーラで散水冷却する方
法がある。しかし、この方法はペレットの圓厚が５００
〜６００ｍｍ程度あるため、不均一な冷却となること、
更に、冷却時間が約６０秒と長いため、その冷却過程に
おいて５００℃以上の還元ペレットは酸化性ガスにより
酸化され易く、散水冷却中に５〜７％程度再酸化され、
成品品質が劣化するという問題がある（特開昭５６−１
５２９３３号公報）。
また、高温還元ペレットを水に浸漬する所謂水没法があ
るが、これは再酸化率が１％程度に抑制できるが、粉化
率が大となり、成品歩留りが悪いので好ましくない（特
開昭４９−９６９０１号公報、特開昭５６−１５２９３
３号公報）。
るが、これは再酸化率が１％程度に抑制できるが、粉化
率が大となり、成品歩留りが悪いので好ましくない（特
開昭４９−９６９０１号公報、特開昭５６−１５２９３
３号公報）。
発明が解決しようとする課題
本発明はこれらの問題の解決を目的とし、具体的には、
ロータリーキルンで高温還元して得られる還元ペレット
を散水冷却する場合、従来例では粉化の問題は軽減でき
るが、所望の冷却温度までに至る段階で再酸化が発生し
、良好な品質の還元ペレットが得られないこと、更に、
このような方法で良好な品質のものを得る冷却方法が未
だ研究、開発されていないこと等の問題を解決すること
を目的とする。
ロータリーキルンで高温還元して得られる還元ペレット
を散水冷却する場合、従来例では粉化の問題は軽減でき
るが、所望の冷却温度までに至る段階で再酸化が発生し
、良好な品質の還元ペレットが得られないこと、更に、
このような方法で良好な品質のものを得る冷却方法が未
だ研究、開発されていないこと等の問題を解決すること
を目的とする。
課題を解決するための
手段ならびにその作用
すなわち、本発明は、ロータリーキルンによって加熱還
元された高温還元ペレットをロータリクーラー内に導入
して冷却する際に、前記クラ−の入口側内壁に複数の掻
き板を設けて当該部分に還元ペレットの薄厚間を形成さ
せたのち、散水冷却することを特徴とする。
元された高温還元ペレットをロータリクーラー内に導入
して冷却する際に、前記クラ−の入口側内壁に複数の掻
き板を設けて当該部分に還元ペレットの薄厚間を形成さ
せたのち、散水冷却することを特徴とする。
そこで、これらの手段たる構成ならびにその作用につい
て更に具体的に説明すると、次の通りである。
て更に具体的に説明すると、次の通りである。
まず、本発明者等は従来例の粉化の少ない高温還元ペレ
ットの冷ｆｉｌｌ法すなわち散水冷却方法について調査
研究を行なった。
ットの冷ｆｉｌｌ法すなわち散水冷却方法について調査
研究を行なった。
第６図は従来例の高温還元ペレットがロータリーキルン
１の排出側からロータリークーラー３により冷却される
過程を説明する側方から児た断面図である。
１の排出側からロータリークーラー３により冷却される
過程を説明する側方から児た断面図である。
第６図に示すようにバーナーによって約１３００℃に加
熱され、還元性ガス雰囲気上還元された高温の還元ペレ
ットは、ロータリーキルン１の排出側からシュート２を
介してロータリークラ−３内に導入される。そのクーラ
ー３内では、通常、高温還元ペレツ１〜は約２００〜３
００１１１ｍの層厚で移動すると共に、その入口側スプ
レーノズル５で散水され、約８０℃以下に冷却された成
品が排出口から得られる。
熱され、還元性ガス雰囲気上還元された高温の還元ペレ
ットは、ロータリーキルン１の排出側からシュート２を
介してロータリークラ−３内に導入される。そのクーラ
ー３内では、通常、高温還元ペレツ１〜は約２００〜３
００１１１ｍの層厚で移動すると共に、その入口側スプ
レーノズル５で散水され、約８０℃以下に冷却された成
品が排出口から得られる。
そこで、本発明者等はこの冷却過程において、ロータリ
ーキルン排出口Ａ、シュートＢ、ロータリークーラー人
口部Ｃおよびロータリークーラ排出口りの各位置と還元
率（％）との関係を調査したところ、第７図のグラフに
示す結果を得たが、還元ペレットがロータリーキルン排
出口からロータリークーラーの排出口に向かって移動す
るに従って還元率が低下する傾向を示し、特に、シュー
トＢおよびロータリークーラー人口部Ｇとの間において
再酸化率が大であることが判明した。
ーキルン排出口Ａ、シュートＢ、ロータリークーラー人
口部Ｃおよびロータリークーラ排出口りの各位置と還元
率（％）との関係を調査したところ、第７図のグラフに
示す結果を得たが、還元ペレットがロータリーキルン排
出口からロータリークーラーの排出口に向かって移動す
るに従って還元率が低下する傾向を示し、特に、シュー
トＢおよびロータリークーラー人口部Ｇとの間において
再酸化率が大であることが判明した。
そこで、本発明者等はこのような散水冷却方法において
、粉化が少なく再酸化しない条件について研究し、この
研究にもとづいて本発明は成立したものである。
、粉化が少なく再酸化しない条件について研究し、この
研究にもとづいて本発明は成立したものである。
更に図面によって本発明について詳しく説明すると、次
の通りである。
の通りである。
なお、第１図は本発明を実施する際に用いる散水冷却装
置の一例を説明する側方がら見た断面図であり、第２図
は第１図のＡ−Ａ視の断面図であり、第３図は第１図の
Ｂ−Ｂ視の断面図であり、第４図は第１図のロータリー
クーラーの入口側の側方から見た断面図であり、第５図
は第１図のスプレー配管の説明図である。
置の一例を説明する側方がら見た断面図であり、第２図
は第１図のＡ−Ａ視の断面図であり、第３図は第１図の
Ｂ−Ｂ視の断面図であり、第４図は第１図のロータリー
クーラーの入口側の側方から見た断面図であり、第５図
は第１図のスプレー配管の説明図である。
符号１はロータリーキルン、２はシュート、３はロータ
リークーラー、４はシュートのスプレノズル、５はロー
タリークーラー人口側スプレーノズル、６はロータリー
クーラー中間部スプレーノズル、７は掻き板、８は還元
ペレット、９はスプレー配管、１０はポンプ、１１は流
量計、１２は流量調節弁を示す。
リークーラー、４はシュートのスプレノズル、５はロー
タリークーラー人口側スプレーノズル、６はロータリー
クーラー中間部スプレーノズル、７は掻き板、８は還元
ペレット、９はスプレー配管、１０はポンプ、１１は流
量計、１２は流量調節弁を示す。
まず、第１図において、符号８に示す高温の還元ペレッ
トがロータリーキルン１の排出側からシュート２を通っ
てロータリークーラー３に導入される。また、第２図に
示す如くシュート２の傾斜部の位置Ｅ、第３図に示すロ
ータリークーラ３の入口部の位置Ｆおよびロータリーク
ーラー中間部□の位ＭＧ付近でそれぞれスプレーノズル
４．５．６がら水が噴射され、高温の還元ペレット８が
温度約８０℃以下に冷却される。なお、ロータリークー
ラー３の入口側の位置Ｅにおける層厚が厚いと冷却が不
均一となるので、層厚を薄くし冷却を均一にするため、
ロータリークーラー３の入口側内壁にはその回転方向に
向って１字形で回転すると、還元ペレットが安息角３５
°以上となったとき転がって前方に放出されるような複
数の掻き板７をパケット状の仕切りシュートを形成する
ように設け、その仕切りシュート内に導入された還元ベ
レット８０層厚を、例えば、１００ｍｍ以下好ましくは
５０ｍｍ以下の薄Ｎになるように構成する。また、ロー
タリークーラーの回転数を高めるごとによっても１厚を
更に薄く制御することができるようにすることが好まし
い。
トがロータリーキルン１の排出側からシュート２を通っ
てロータリークーラー３に導入される。また、第２図に
示す如くシュート２の傾斜部の位置Ｅ、第３図に示すロ
ータリークーラ３の入口部の位置Ｆおよびロータリーク
ーラー中間部□の位ＭＧ付近でそれぞれスプレーノズル
４．５．６がら水が噴射され、高温の還元ペレット８が
温度約８０℃以下に冷却される。なお、ロータリークー
ラー３の入口側の位置Ｅにおける層厚が厚いと冷却が不
均一となるので、層厚を薄くし冷却を均一にするため、
ロータリークーラー３の入口側内壁にはその回転方向に
向って１字形で回転すると、還元ペレットが安息角３５
°以上となったとき転がって前方に放出されるような複
数の掻き板７をパケット状の仕切りシュートを形成する
ように設け、その仕切りシュート内に導入された還元ベ
レット８０層厚を、例えば、１００ｍｍ以下好ましくは
５０ｍｍ以下の薄Ｎになるように構成する。また、ロー
タリークーラーの回転数を高めるごとによっても１厚を
更に薄く制御することができるようにすることが好まし
い。
以上のようにして高温の還元ペレット８がスプレーノズ
ル４．５および６によって冷却され、その散水時間が１
０秒を越え、１分以内の間に約８０℃程度になるように
均一な冷却されながら、パケット状の仕切りのシュート
が回転して掻き板７の傾斜角が還元ペレットの安息角（
α）３５゜以上になったとき、掻き板７（仕切りのシュ
ー１−）上を転がって前方に放出される。このとき、冷
却時間や速度等の制御はクーラーの回転数、散水場所、
散水量等の変更によって行なうことができる。
ル４．５および６によって冷却され、その散水時間が１
０秒を越え、１分以内の間に約８０℃程度になるように
均一な冷却されながら、パケット状の仕切りのシュート
が回転して掻き板７の傾斜角が還元ペレットの安息角（
α）３５゜以上になったとき、掻き板７（仕切りのシュ
ー１−）上を転がって前方に放出される。このとき、冷
却時間や速度等の制御はクーラーの回転数、散水場所、
散水量等の変更によって行なうことができる。
以上説明した通り、ロータリークーラー３の入口側で高
温の還元ペレットが薄層化することでできるので、散水
冷却が均一に行なうことができ、従来例の水没法に比べ
て粉化が少なく、しがも、再酸化を抑制することができ
、良好な品質の還元ペレッ１へが得られる。
温の還元ペレットが薄層化することでできるので、散水
冷却が均一に行なうことができ、従来例の水没法に比べ
て粉化が少なく、しがも、再酸化を抑制することができ
、良好な品質の還元ペレッ１へが得られる。
実施例
まず、第１図に示す冷却装置を用い、ロータリーキルン
１がら粒度１５〜２５ｍｍの１３００℃に加熱された還
元ペレッ１〜を１６ｔ／ｂの速度で回転速度１、Ｏｒｐ
ｍ／ＳｅＣで回転するロータリークーラー３に導入し、
層厚５０ｍｍでロータリークーラー内を移動する還元ペ
レットに散水冷却を行なった。
１がら粒度１５〜２５ｍｍの１３００℃に加熱された還
元ペレッ１〜を１６ｔ／ｂの速度で回転速度１、Ｏｒｐ
ｍ／ＳｅＣで回転するロータリークーラー３に導入し、
層厚５０ｍｍでロータリークーラー内を移動する還元ペ
レットに散水冷却を行なった。
なお、ロータリークーラー３は内径５４００ｍｍφ、入
口側還元ペレット落下位置から１（１００ｓの間の内壁
に沿って円周方向に向がって第３図、第４図に示すよう
な１字形の掻き板７を２２．５°間隔に設け、しがも、
回転して還元ペレット８の安息角αが３５°以上になっ
たとき、掻き板７から転がって前方に放出されるような
構造のものを用いた。
口側還元ペレット落下位置から１（１００ｓの間の内壁
に沿って円周方向に向がって第３図、第４図に示すよう
な１字形の掻き板７を２２．５°間隔に設け、しがも、
回転して還元ペレット８の安息角αが３５°以上になっ
たとき、掻き板７から転がって前方に放出されるような
構造のものを用いた。
また、散水冷却は第１図に示すスプレー配管９の先端ス
プレーノズル４．５および６がらそれぞれシュート２の
位置［、ロータリークーラー３の入口側の位置Ｆ、およ
びロータリークーラー３の中間位置Ｇに水を噴射するよ
うにし、そのスプレー配管９は第５図に示すように設置
したものを使用した。
プレーノズル４．５および６がらそれぞれシュート２の
位置［、ロータリークーラー３の入口側の位置Ｆ、およ
びロータリークーラー３の中間位置Ｇに水を噴射するよ
うにし、そのスプレー配管９は第５図に示すように設置
したものを使用した。
また、水の供給は位置Ｆにおいて、スプレノズル４をフ
ラットスプレーノズル（１７４に３１１１０７５２系列
ノズル数５×２）により、０．７５〜３ ｔ ／ ｌ）
の速度で供給し、酸化性ガスの侵入を遮断すると共に冷
却した。位置Ｆにおいてスプレーノズル５（３／４にＳ
Ｅ ３０９０Ｈ２系列ノズル数３×２）により４〜８ｔ
／ｈの速度で供給し冷却した。更に、位置Ｇにおいてス
プレーノズル６を斜方フラットノズル（１／２にＳＨ４
０６５−ＯＲＯ１系列ノズル数２）により０．７５〜３
ｔ ／ Ｉ）の速度で供給した。このとき、水の全供
給量は８ｔ／ｈの速度となるようにポンプ１０がらの水
を流量計７１および流ｍ調節弁１２により制御した。
ラットスプレーノズル（１７４に３１１１０７５２系列
ノズル数５×２）により、０．７５〜３ ｔ ／ ｌ）
の速度で供給し、酸化性ガスの侵入を遮断すると共に冷
却した。位置Ｆにおいてスプレーノズル５（３／４にＳ
Ｅ ３０９０Ｈ２系列ノズル数３×２）により４〜８ｔ
／ｈの速度で供給し冷却した。更に、位置Ｇにおいてス
プレーノズル６を斜方フラットノズル（１／２にＳＨ４
０６５−ＯＲＯ１系列ノズル数２）により０．７５〜３
ｔ ／ Ｉ）の速度で供給した。このとき、水の全供
給量は８ｔ／ｈの速度となるようにポンプ１０がらの水
を流量計７１および流ｍ調節弁１２により制御した。
以上の通り、１３００°Ｃの還元ペレット８を散水冷却
すると、成品水分０．５％以下で粉化が少なく、再酸化
率２％以下のものが得られた。
すると、成品水分０．５％以下で粉化が少なく、再酸化
率２％以下のものが得られた。
〈発明の効果〉
以上説明した通り、本発明は、ロータリーキルンによっ
て加熱還元された高温還元ペレットをロータリークーラ
ー内に導入して冷却する際に、前記クーラーの入口側内
壁に複数の掻き板を設けて当該部分に還元ペレットの薄
厚層を形成させたのち、散水冷却する口とを特徴とする
高温還元ペレットの冷却方法である。
て加熱還元された高温還元ペレットをロータリークーラ
ー内に導入して冷却する際に、前記クーラーの入口側内
壁に複数の掻き板を設けて当該部分に還元ペレットの薄
厚層を形成させたのち、散水冷却する口とを特徴とする
高温還元ペレットの冷却方法である。
従って、従来例の散水冷却方法では再醇化率が約５〜７
％であったのを、本発明では２％程度に抑制する口とが
でき、また、従来例の水没法に比べて成品の粉化率が少
なくてき、原料特性により強度が大で粉化が少ない場合
は冷却速度を高め、還元ペレットの温度が１３００〜５
００℃の間を短時間で冷ム１するようにすれば再酸化率
を層低下することが可能である。
％であったのを、本発明では２％程度に抑制する口とが
でき、また、従来例の水没法に比べて成品の粉化率が少
なくてき、原料特性により強度が大で粉化が少ない場合
は冷却速度を高め、還元ペレットの温度が１３００〜５
００℃の間を短時間で冷ム１するようにすれば再酸化率
を層低下することが可能である。
第１図は本発明を実施する際に用いる散水冷却装置の一
つの実施例を説明する側方がら児た断面図、第２図は第
１図のＡ−Ａ視の断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ視の
断面図、第４図は第１図のロータリークーラー人口側の
側方がら児た断面図、第５図は第１図のスプレー配管説
明図、第６図は従来例の散水冷却装置の側方がら児た断
面図、第７図は第６図の冷却過程の位置と還元率との関
係を示すグラフである。 符号１・・・・・・ロータリーキルン ２・・・・・・シュート ３・・・・・・ロータリークーラ ４．５．６・・・・・・スプレーノズル７・・・・・・
掻き板 ８・・・・・・還元ペレット ９・・・・・・スプレー配管 １０・・・・・・ポンプ １１・・・・・・流量計 １２・・・・・・流量調節弁 第２図 第３ 図
つの実施例を説明する側方がら児た断面図、第２図は第
１図のＡ−Ａ視の断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ視の
断面図、第４図は第１図のロータリークーラー人口側の
側方がら児た断面図、第５図は第１図のスプレー配管説
明図、第６図は従来例の散水冷却装置の側方がら児た断
面図、第７図は第６図の冷却過程の位置と還元率との関
係を示すグラフである。 符号１・・・・・・ロータリーキルン ２・・・・・・シュート ３・・・・・・ロータリークーラ ４．５．６・・・・・・スプレーノズル７・・・・・・
掻き板 ８・・・・・・還元ペレット ９・・・・・・スプレー配管 １０・・・・・・ポンプ １１・・・・・・流量計 １２・・・・・・流量調節弁 第２図 第３ 図
Claims (1)
- １）ロータリーキルンによつて加熱還元された高温還元
ペレットをロータリークーラー内に導入して冷却する際
に、前記クーラーの入口側内壁に複数の掻き板を設けて
当該部分に還元ペレットの薄厚層を形成させたのち、散
水冷却することを特徴とする高温還元ペレットの冷却方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155916A JPH024928A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 高温還元ペレットの冷却方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155916A JPH024928A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 高温還元ペレットの冷却方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH024928A true JPH024928A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=15616314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63155916A Pending JPH024928A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 高温還元ペレットの冷却方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH024928A (ja) |
-
1988
- 1988-06-23 JP JP63155916A patent/JPH024928A/ja active Pending
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