JPH0249723Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 本考案は、ドライエツチング装置に関し、特に
真空チヤンバ内に複数枚の被エツチング材を載置
棚に多段載置した状態でケミカルドライエツチン
グする構造をなすドライエツチング装置の改良に
係わる。 〔考案の技術的背景とその問題点〕 半導体集積回路の製造においては、シリコン等
の半導体基板上に各種の膜を堆積した後、写真触
刻法により形成されたレジストパターン等をマス
クとして該膜を選択的にエツチングする工程が行
われている。かかるエツチングに使用される装置
としては、最近、マイクロ波プラズマにより反応
性ガスを励起し、生成したエツチングガスをプラ
ズマ発生器と分離された真空チヤンバに輸送し、
該チヤンバ内の被エツチング材と反応せしめてエ
ツチングするケミカルドライエツチング装置が開
発されている。こうしたエツチング装置は、第４
図に示す構造のものが知られている。即ち、図中
の１は真空チヤンバであり、該チヤンバ１内には
複数枚の被エツチング材（例えばウエハ）２を平
面的に載置するための載置台３が配設されてい
る。前記チヤンバ１の上壁には、エツチングガス
を前記載置台３上のウエハ２に均一に導入するた
めのガス分散管４が取着されており、かつ該分散
管４にはガス導入管５が連結されている。このガ
ス導入管５の途中には、石英ガラス管からなる放
電管６が被嵌されており、かつ該放電管６には導
波管７を通して高周波出力８を印加することによ
りプラズマを発生させるようになつている。ま
た、前記真空チヤンバ１の下面にはガス排出管９
がマニホールド１０を介して連結されており、か
つ該ガス排出管９には図示しない真空ポンプを連
結されている。 上述した装置において、載置台３の上に被エツ
チング材（ウエハ）３を載置し、ガス排出管９を
介して真空チヤンバ１の排気を行なう。この後、
ガス導入管５にCF₄等の反応性ガスを供給し、該
ガス導入管５の途中に配置した放電管６に導波管
７を通して高周波出力８を印加することによりガ
スプラズマを発生させ、前記反応性ガスを励起
し、そのエツチングガスを分散管４を通して真空
チヤンバ１内に供給して載置台３上のウエハ２の
エツチングを行なう。こうしたエツチングにおい
て、エツチング処理と、プラズマ発生とを別個の
室で行なうため、ウエハ２のプラズマ照射による
損傷を防止できるという利点を有する。 しかしながら、上述した装置では被エツチング
材２を平面的に並べて載置するため、１回のエツ
チング工程における処理枚数が少なく、生産効率
が低いという問題があつた。かかる問題は、被エ
ツチング材であるウエハの大口径化に伴つてより
顕著となる。なお、前記構造のエツチング装置で
処理枚数を増加させようとすると、真空チヤンバ
１が大型化し、設備費等の面で好ましくない。 このようなことから、本出願人は既に被エツチ
ング材を多段に載置すると共に、各被エツチング
材の間にそれら被エツチング材を仕切る遮蔽板を
設けた構造の載置台を外部より真空容器内の回転
する支持台上に搬送して被エツチング材をエツチ
ングするドライエツチング装置（特願昭59−
250117号）を提案した。こうしたエツチング装置
では、被エツチング材間に遮蔽板を配置すること
により、被エツチング材から放射される赤外線に
よる輻射熱によつて上下に隣接する被エツチング
材が相互に加熱されるのを阻止し、被エツチング
材の温度上昇に伴うエツチングの不均一化を抑制
し、複数枚の被処理物を一度にエツチングでき
る。しかしながら、かかるドライエツチング装置
は載置台の一側面が複数枚の被エツチング材を該
載置台に収納するために解放されているので、載
置台を搬送部材により真空容器内の支持台上にセ
ツトする際、該載置台が横振れを生じると、その
解放した一側面から被エツチング材が飛出すとい
う不都合があつた。 〔考案の目的〕 本考案は、真空チヤンバ内の回転自在な支持台
上にカセツトを搬送部材を用いてセツトする際に
横振れを生じても、該カセツトの載置棚内に多段
に載置された複数枚の被エツチング材が飛出すの
を防止したドライエツチング装置を提供しようと
するものである。 〔考案の概要〕 本考案は、真空チヤンバに、反応性ガスをプラ
ズマ励起により生成したエツチングガスを導入す
るガス導入管と該チヤンバ内のガスを排気する排
気管を設け、かつ前記ガス導入管の途中に該導入
管を流通する反応性ガスを励起するためのプラズ
マ発生器を介装した構造のドライエツチング装置
において、一側面が解放され、被エツチング材を
多段に載置する載置棚及び該載置棚の前記被エツ
チング材の間に設けられた各被エツチング材を仕
切る遮蔽板から構成され、前記チヤンバ内に搬送
されるカセツトと、このカセツトの上面に取着さ
れた連結ブロツクと、前記載置棚の解放側面側の
前記ブロツク部分に該解放側面に対し平行して貫
通され、搬送用丸棒が挿入される丸穴と、前記解
放側面と反対の側面側の前記ブロツク部分に前記
丸穴と平行して貫通され、搬送用丸棒が挿入され
る長穴とを具備したことを特徴とするものであ
る。かかる本考案によれば、カセツト上面の連結
ブロツクに貫通され載置棚の解放側面側に位置す
る丸穴と該解放側面と反対の側面側に位置する長
穴とに夫々搬送用丸棒を挿入して丸棒を移動させ
ることによつて、カセツトの載置棚の解放した一
側面が上に向くように傾斜して搬送できるため、
搬送中に複数枚の被エツチング材が載置棚より飛
出すのを防止できる。 〔考案の実施例〕 以下、本考案の実施例を図面を参照して詳細に
説明する。 図中の１１は、真空チヤンバであり、このチヤ
ンバ１１のの上部には後述するカセツトが出入れ
される開閉自在な蓋体１２が設けられている。前
記チヤンバ１１の中心には、該チヤンバ１１の下
面から貫通されたシヤフト１３に軸着された支持
台１４が回転可能に配置されている。前記シヤフ
ト１３のチヤンバ１１の外に位置する部分には軸
受１５が設けられ、かつ該シヤフト１３の下端は
モータ１６の駆動軸１７とベルト１８を介して枢
着されている。 また、前記支持台１４上には第２図に示すカセ
ツト１９が設置される。このカセツト１９は、被
エツチング材を多段に載置する載置棚２０と例え
ばアルミニウム製の遮蔽板２１とから構成されて
いる。前記載置棚２０は、被エツチング材を収納
するために一側面が解放され、かつ三側面に支持
板２２を有すると共に、各支持板２２の内側面に
は複数の溝２３が上下方向に形成されている。こ
れら溝２３には、一段置きに前述した遮蔽板２１
が載置されている。前記カセツト１９の上面に
は、第１図及び第３図Ａ，Ｂに示すように連結ブ
ロツク２４が取着されている。この連結ブロツク
２４には、搬送用丸棒を挿入する丸穴２５及び長
穴２６が前記載置棚２０の解放側面と平行して貫
通されている。前記丸穴２５は、前記解放側面側
の前記ブロツク２４部分に位置し、前記長穴２６
は前記解放側面に対し反対の側面側の前記ブロツ
ク２４部分に位置している。 更に、前記チヤンバ１１の左側壁にはエツチン
グガスを導入するガス導入管２７が設けられてい
る。このガス導入管２７の途中には、図示しない
石英ガラス管からなる放電管が被嵌されており、
かつ該放電管には図示しない導波管を通して高周
波出力を印加することによりプラズマを発生させ
るようになつている。前記チヤンバ１１の右側壁
には、ガス排出管２８が設けられている。これら
ガス導入管２７及びガス排出管２８のチヤンバ１
１の入口付近には、円板形状をなす分散管２９，
２９が支柱３０を介してチヤンバ１１の壁面と略
平行となるよう配設されている。 次に、本考案のドライエツチング装置の作用を
説明する。 まず、被エツチング材（例えばウエハ）３１を
第２図及び第３図Ａ，Ｂに示すようにカセツト１
９を構成する載置棚２０の遮蔽板２１間の溝２３
に挿入設置した後、該カセツト１９の連結ブロツ
ク２４の丸穴２５及び長穴２６に搬送用丸棒３２
ａ，３２ｂを夫々挿入して吊下し、該丸棒３２
ａ，３２ｂを移動させることによつて、カセツト
１９を蓋体１２を開けたチヤンバ１１内の支持台
１４上に設置する。この際、連結ブロツク２４の
丸穴２５及び長穴２６に丸棒３２ａ，３２ｂを挿
入してカセツト１９を吊下すると、第３図Ａに示
すように載置棚２９の解放側面と反対の側面側の
ブロツク２４部分に位置する長穴２６に挿入され
た丸棒３２ｂは該長穴２６の上部側に位置するこ
とになるため、カセツト１９は丸穴２５に対して
長穴２６側に傾斜する。その結果、カセツト１９
を構成する載置棚２０の解放側面が上に向くた
め、該載置棚２０に多段に配置されたウエハ３１
が搬送中の振動等により飛出すのを防止できる。
この後、一対の丸棒３２ａ，３２ｂを支持台１４
上の所定の位置に下降せることによつて、第３図
Ｂに示すようにカセツト１９を支持台１４上にセ
ツトされる。次いで、ガス排出管２８を介して真
空チヤンバ１１を排気を行ない、ガス導入管２７
にCF₄等の反応性ガスを供給し、該ガス導入管２
７の途中に配置した放電管に導波管（いずれも図
示せず）を通して高周波出力を印加することによ
りガスプラズマを発生させ、前記反応性ガスを励
起し、そのエツチングガスをガス導入管２７を通
して真空チヤンバ１１内に導入しながら、排出管
１４をモータ１６によりゆつくり回転させる。こ
うして導入されたエツチングガスは、支持台１４
と共に回転するカセツト１９の載置棚２０に多段
に設置されたウエハ３１に供給されて、均一なエ
ツチングが行われる。かかる載置棚２０に複数枚
載置したウエハ３１のエツチングに際し、既述の
如く、ウエハ３１から放射される赤外線による輻
射熱によつて上下に隣接するウエハ３１が相互に
加熱されるのを遮蔽板２１で阻止し、ウエハ３１
の温度上昇に伴うエツチングの不均一化を制御
し、複数枚のウエハ３１を一度にエツチングでき
る。 従つて、本考案によればカセツト１９の載置棚
２０に多段の配置されたウエハ３１が該カセツト
１９の搬送中に飛出すことなく、かつ熱輻射によ
りエツチングの不均一化を招くことなく、一度に
多数枚のウエハ３３をエツチング処理できる。 なお、上記実施例ではアルミニウム製の遮蔽板
を使用したが、これに限定されず、石英ガラスの
遮蔽板や弗素樹脂でコーテイングした金属からな
る遮蔽板を使用してもよい。 （考案の効果） 以上詳述した如く、本考案によれば真空チヤン
バ内の回転自在な支持台上にカセツトを搬送部材
を用いてセツトする際に横振れを生じても、該カ
セツトの載置棚内に多段に載置された複数枚の被
エツチング材が飛出すのを防止でき、ひいては被
エツチング材を効率よくエツチング処理し得るド
ライエツチング装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示すエツチング装
置の断面図、第２図は第１図の真空チヤンバ内に
装填される載置棚の要部断面図、第３図Ａ，Ｂは
第１図のエツチング装置の支持台及びカセツト付
近を拡大して示す正面図、第４図は従来のドライ
エツチング装置を示す概略図である。 １１……真空チヤンバ、１４……支持台、１９
……カセツト、２０……載置棚、２１……アルミ
ニウム製の遮蔽板、２４……連結ブロツク、２５
……丸穴、２６……長穴、２７……ガス導入管、
２８……排出管、３１……被エツチング材（ウエ
ハ）、３２ａ，３２ｂ……搬送用丸棒。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 真空チヤンバに、反応性ガスをプラズマ励起に
   より生成したエツチングガスを導入するガス導入
   管と該チヤンバ内のガスを排気する排気管を設
   け、かつ前記ガス導入管の途中に該導入管を流通
   する反応性ガスを励起するためのプラズマ発生器
   を介装した構造のドライエツチング装置におい
   て、一側面が解放され、被エツチング材を多段に
   載置する載置棚及び該載置棚の前記被エツチング
   材の間に設けられた各被エツチング材を仕切る遮
   蔽板から構成され、前記チヤンバ内に搬送される
   カセツトと、このカセツトの上面に取着された連
   結ブロツクと、前記載置棚の解放側面側の前記ブ
   ロツク部分に該解放側面に対し平行して貫通さ
   れ、搬送用丸棒が挿入される丸穴と、前記解放側
   面と反対の側面側の前記ブロツク部分に前記丸穴
   と平行して貫通され、搬送用丸棒が挿入される長
   穴とを具備したことを特徴とするドライエツチン
   グ装置。