JPH0249762B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0249762B2 JPH0249762B2 JP59112586A JP11258684A JPH0249762B2 JP H0249762 B2 JPH0249762 B2 JP H0249762B2 JP 59112586 A JP59112586 A JP 59112586A JP 11258684 A JP11258684 A JP 11258684A JP H0249762 B2 JPH0249762 B2 JP H0249762B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- polymer membrane
- eluent
- temperature
- liquid chromatograph
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D19/00—Degasification of liquids
- B01D19/0063—Regulation, control including valves and floats
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、液体クロマトグラフによる分析にお
いて、溶離液中に溶存する空気を除去する液体ク
ロマトグラフ用脱気装置に関する。
いて、溶離液中に溶存する空気を除去する液体ク
ロマトグラフ用脱気装置に関する。
従来技術
液体クロマトグラフにより分離、分析を行なう
場合、その分析性能を向上させるため、溶離液中
の溶存空気を除去する液体クロマトグラフ用脱気
装置(以下脱気装置という)が使用されるように
なつてきた。
場合、その分析性能を向上させるため、溶離液中
の溶存空気を除去する液体クロマトグラフ用脱気
装置(以下脱気装置という)が使用されるように
なつてきた。
一般に上記脱気装置Aは、第2図にそのフロー
を示すように、スパイラルチユーブ状高分子膜1
が内蔵された真空チヤンバ2と、この真空度を検
出して、制御回路3を介して、上記真空チヤンバ
2の内圧を低下させる真空ポンプ4を始動或いは
停止させる圧力センサ5によつて構成されてい
る。
を示すように、スパイラルチユーブ状高分子膜1
が内蔵された真空チヤンバ2と、この真空度を検
出して、制御回路3を介して、上記真空チヤンバ
2の内圧を低下させる真空ポンプ4を始動或いは
停止させる圧力センサ5によつて構成されてい
る。
上記脱気装置Aによつて溶離液6中に溶存する
空気を除去する場合には、真空チヤンバ2の内圧
を所定の範囲の減圧状態に保持しながら、溶離液
6をチユーブ状高分子膜内を所定速度で通過させ
ることにより溶存空気をチユーブ状高分子膜1を
通して真空チヤンバ2内にに拡散させ除去し、空
気の除去された溶離液6を液体クロマトグラフ7
に供給している。
空気を除去する場合には、真空チヤンバ2の内圧
を所定の範囲の減圧状態に保持しながら、溶離液
6をチユーブ状高分子膜内を所定速度で通過させ
ることにより溶存空気をチユーブ状高分子膜1を
通して真空チヤンバ2内にに拡散させ除去し、空
気の除去された溶離液6を液体クロマトグラフ7
に供給している。
従来技術の問題点
ところで、上記脱気装置によつて溶存する空気
を除去する速度は相当の幅で変動し、残存空気濃
度は一定せず、そのため液体クロマトグラフの性
能が安定しないばかりでなく、十分な除去が行な
われないことがあつた。
を除去する速度は相当の幅で変動し、残存空気濃
度は一定せず、そのため液体クロマトグラフの性
能が安定しないばかりでなく、十分な除去が行な
われないことがあつた。
本発明の目的および構成
本発明は、上記の事情に鑑み、鋭意研究した結
果、上記チユーブ状高分子膜内に溶離液を通過さ
せて溶存する空気を高分子膜を透過させて除去す
る際の除去速度は、真空チヤンバ内の温度によつ
ても、大幅に変ることを知見した。
果、上記チユーブ状高分子膜内に溶離液を通過さ
せて溶存する空気を高分子膜を透過させて除去す
る際の除去速度は、真空チヤンバ内の温度によつ
ても、大幅に変ることを知見した。
本発明は上記の知見に基づいてなされたもの
で、安定な性能を有する脱気装置を提供すること
を目的とするもので、その要旨は、液体クロマト
グラフへ供給する、気体を溶存した溶離液を、真
空チヤンバ内に設けたチユーブ状高分子膜内を通
過させて、溶存する気体を除去する液体クロマト
グラフ用脱気装置において、前記真空チヤンバの
外側底部に、前記チユーブ状高分子膜を所定の温
度に保持する自己制御型面ヒータを設けている脱
気装置にある。
で、安定な性能を有する脱気装置を提供すること
を目的とするもので、その要旨は、液体クロマト
グラフへ供給する、気体を溶存した溶離液を、真
空チヤンバ内に設けたチユーブ状高分子膜内を通
過させて、溶存する気体を除去する液体クロマト
グラフ用脱気装置において、前記真空チヤンバの
外側底部に、前記チユーブ状高分子膜を所定の温
度に保持する自己制御型面ヒータを設けている脱
気装置にある。
本発明の具体的構成、効果
第1図は、本発明に係る脱気装置の一実施例を
示すもので、第2図と同一部分には同一符号を付
してその説明を省略する。図中符号11は、チユ
ーブ状高分子膜1が内蔵された真空チヤンバ2外
側底部に設けられ、その内部を所定の温度に加温
する公知の自己制御型面ヒータである。また、本
発明において用いられる高分子膜としては、通常
ポリ四フツ化エチレン、等が用いられる。
示すもので、第2図と同一部分には同一符号を付
してその説明を省略する。図中符号11は、チユ
ーブ状高分子膜1が内蔵された真空チヤンバ2外
側底部に設けられ、その内部を所定の温度に加温
する公知の自己制御型面ヒータである。また、本
発明において用いられる高分子膜としては、通常
ポリ四フツ化エチレン、等が用いられる。
上記脱気装置Aの真空チヤンバ2内部を所定の
温度、圧に保持して、空気を溶存した溶離液を一
定速度で通過させると、溶離液6中の溶存空気
は、ほぼ同じ量が除去され、通過した溶離液中の
溶存空気はほぼ一定濃度に低下され、液体クロマ
トグラフに好適に使用される。
温度、圧に保持して、空気を溶存した溶離液を一
定速度で通過させると、溶離液6中の溶存空気
は、ほぼ同じ量が除去され、通過した溶離液中の
溶存空気はほぼ一定濃度に低下され、液体クロマ
トグラフに好適に使用される。
この場合、温度が高い方が、空気の残存濃度が
低下する。これは、高分子膜1の気体拡散速度が
高くなるためである。しかし、温度が高すぎる
と、液体の蒸気も透過するようになるので、40℃
以下の温度に保持するのが好ましい。
低下する。これは、高分子膜1の気体拡散速度が
高くなるためである。しかし、温度が高すぎる
と、液体の蒸気も透過するようになるので、40℃
以下の温度に保持するのが好ましい。
なお、真空チヤンバ2内部を所定温度に加温す
るとともに、チユーブ状高分子膜1に導入する溶
離液6を上記温度に加温しても、真空チヤンバ2
のみを加温した場合と差が認められない。これ
は、上記チユーブ状高分子膜1内に導入された溶
離液6が、比較的早く昇温し、真空チヤンバ1内
部と同じ温度となるためと思料する。また、上記
説明では、加熱手段として自己制御型面ヒータを
用いたがこれに限るものでなく、所定温度に真空
チヤンバ2内を加熱出来るものであればよい。
るとともに、チユーブ状高分子膜1に導入する溶
離液6を上記温度に加温しても、真空チヤンバ2
のみを加温した場合と差が認められない。これ
は、上記チユーブ状高分子膜1内に導入された溶
離液6が、比較的早く昇温し、真空チヤンバ1内
部と同じ温度となるためと思料する。また、上記
説明では、加熱手段として自己制御型面ヒータを
用いたがこれに限るものでなく、所定温度に真空
チヤンバ2内を加熱出来るものであればよい。
実施例
次に実施例を示して本発明を説明する。
真空チヤンバ2内に内径:1.8mm、外径:2.2
mm、長さ:10mのパイプ状ポリ四フツ化エチレン
膜を設け、真空チヤンバ2内を圧力:50Torr、
温度:10、20、30℃の温度で、酸素:10ppm溶存
する蒸溜水を通過させ、通過した蒸溜水中の溶存
酸素濃度を測定した。
mm、長さ:10mのパイプ状ポリ四フツ化エチレン
膜を設け、真空チヤンバ2内を圧力:50Torr、
温度:10、20、30℃の温度で、酸素:10ppm溶存
する蒸溜水を通過させ、通過した蒸溜水中の溶存
酸素濃度を測定した。
その結果、真空チヤンバ2内部が一定温度で通
過した蒸溜水中の酸素濃度はほぼ一定であり、温
度を変えた場合の、通過した蒸溜水中の酸素濃度
は、10℃:5.2ppm、20℃:3.7ppm、30℃:
3.2ppmであつた。10℃の場合と30℃の場合とで
は、30℃の方が除去率が大幅によくなることわか
る。
過した蒸溜水中の酸素濃度はほぼ一定であり、温
度を変えた場合の、通過した蒸溜水中の酸素濃度
は、10℃:5.2ppm、20℃:3.7ppm、30℃:
3.2ppmであつた。10℃の場合と30℃の場合とで
は、30℃の方が除去率が大幅によくなることわか
る。
本発明の効果
以上述べたように本発明に係る脱気装置は、真
空チヤンバ内の温度を上昇せしめて一定範囲に保
持することにより、大幅、かつ一定の脱気が可能
となり、液体クロマトグラフ分離性能を安定して
向上せしめるものである。
空チヤンバ内の温度を上昇せしめて一定範囲に保
持することにより、大幅、かつ一定の脱気が可能
となり、液体クロマトグラフ分離性能を安定して
向上せしめるものである。
第1図は本発明に係る脱気装置の一実施例を示
すフロー図、第2図は、従来の脱気用装置のフロ
ー図である。 1……チユーブ状高分子膜、2……真空チヤン
バ、3……制御回路、4……真空ポンプ、5……
圧力センサ、6……溶離液、7……液体クロマト
グラフ、11……自己制御型面ヒータ(加熱手
段)、A……脱気装置。
すフロー図、第2図は、従来の脱気用装置のフロ
ー図である。 1……チユーブ状高分子膜、2……真空チヤン
バ、3……制御回路、4……真空ポンプ、5……
圧力センサ、6……溶離液、7……液体クロマト
グラフ、11……自己制御型面ヒータ(加熱手
段)、A……脱気装置。
Claims (1)
- 1 液体クロマトグラフへ供給する、気体を溶存
した溶離液を、真空チヤンバ内に設けたチユーブ
状高分子膜内を通過させて、溶存する気体を除去
する液体クロマトグラフ用脱気装置において、前
記真空チヤンバの外側底部に、前記チユーブ状高
分子膜を所定の温度に保持する自己制御型面ヒー
タを設けていることを特徴とする液体クロマトグ
ラフ用脱気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11258684A JPS60255120A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 脱気用装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11258684A JPS60255120A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 脱気用装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255120A JPS60255120A (ja) | 1985-12-16 |
| JPH0249762B2 true JPH0249762B2 (ja) | 1990-10-31 |
Family
ID=14590435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11258684A Granted JPS60255120A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 脱気用装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60255120A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62204086A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-08 | 株式会社エルマ、シーアール | パイプ |
| JPH01215312A (ja) * | 1988-02-22 | 1989-08-29 | Takuma Co Ltd | 液中溶存気体の除去処理方法 |
| JPH09162118A (ja) * | 1995-12-11 | 1997-06-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板用処理液の脱気装置 |
| WO2007091654A1 (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-16 | Arkray, Inc. | 液体クロマトグラフィ装置 |
| EP4545162A1 (en) * | 2022-06-27 | 2025-04-30 | DIC Corporation | Deaerator |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2907188A1 (de) * | 1978-02-24 | 1979-08-30 | Du Pont | Entgasungsvorrichtung |
| JPS615928Y2 (ja) * | 1980-06-04 | 1986-02-22 |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11258684A patent/JPS60255120A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60255120A (ja) | 1985-12-16 |
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