JPH02500083A - 組織培養容器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 組織培養容器 本願に関連した参照文献 本願は１９８５年３月１５日に提出された「子房室トレイ（Ｍｕｌｔｉ　Ｃｅ１ ｌ　Ｔｒａｙ）　Ｊという名称の特許出願節７１２，４１３号の一部継続出願で ある。

発明の背景 本発明は、組織培養物やその他の反応物を検査用に保持する房室又は窪みを１個 以上有する皿、フラスコ、子房室トレイのような組織培養容器に関する。

一般にこの種の組織培養容器は培養装置内の金属性の格子棚の上に直に載置され るので、培養装置のドアが開いて冷たい空気が棚の格子の隙間に急に流れ込むと 、検査中の培養物又は反応物の加熱又は冷却が不均一になり、皿やトレイが載置 されている棚の格子の形状に従った不均一な加熱効果が生じる。窪みは検査中の 培養物を倒立顕微鏡を用いて培養容器の底から観察できるように通常は透明な壁 を有しているが、断熱材を設けると視界が遮られて窪みの中の培養物を観察でき なくなってしまうので、不均一な加熱に関する問題を解決することは難しい。

発明の要約 本発明の目的は不均一な加熱効果の減少又は最小化を実現した培養容器を提供す ることである。

本発明により、組織培養物又は他の反応物を収容する少なくとも１個の培養室と 、この培養室の下で培養ヱの基盤を断熱する断熱室とが設けられている培養容器 が提供される。

培養容器は、二重壁により断熱室が形成されている基盤を有し単一の組織培養物 又は他の反応物を収容するフラスコ又は皿である場合もあれば、子房室トレイで ある場合もある。

子房室トレイは、培養物を収容する窪み又は房室を複数個有する基盤と、基盤の 上に載置されて基盤及び窪みを覆うカバーとを備えている。基盤は、窪みの底部 より下方に延出する下方に垂れ下がったスカート、及び窪みの下に断熱室を形成 する底壁を有している。断熱室は密封室であることが好ましく、培養物の視界を 遮らないように空気又は適切で清浄な流体を内部に有している。このようにして 子房室トレイの場合には培養室又は窪みを囲む熱シンクが形成される。流体は特 定の検査反応物にとって好ましい温度環境に従って冷却されたり、加熱されたり する。

別の構成では、子房室トレイの基盤内の断熱室にはガスの通路が設けられていて 、ガスが断熱室を通過して基盤と窪みの上方のカバーとの間の空間に入り込むよ うになっている。

この場合には、ガスを加湿する作用及び窪みを取り囲んで断熱する熱シンクの作 用をする液体を断熱室に入れることがでる。

培養室又は窪みの下の断熱室の厚さは重要である。培養容器の底から培養物を観 察するには断熱室は比較的薄くなければならないが、それにも拘らず十分な断熱 効果を有していなければならない。培養室又は窪みの底の下の断熱室の厚さ又は 深さは、５／１６インチを超えないことが好ましい。

図面の簡単な説明 本発明の好ましい幾つかの実施例に関する以下の詳細な説明、及び類似要素に類 似符号を付した添付図面により本発明をより良く理解することができる。

第１図は窪みの下に断熱室が形成されている本発明の第１の実施例に基づく子房 室トレイの横断面図、第２図は本発明の第２の実施例に基づく培養フラスコを示 す第１図に類似した横断面図、 第３図は本発明の第３の実施例に基づく子房室トレイを示す第１図に類似した横 断面図、 第４図は第３図のトレイの基盤を示す斜視図である。

好ましい実施例の説明 第１図には子房室トレイ１０を有する培養容器が示されている。子房室トレイ１ ０は基盤１２を有しており、基盤１２は組織培養物や他の反応物を検査、実験、 その他の目的のために収容する窪み１４を幾つか有している。基盤の上には窪み １４の開口上端部を覆う取り外し可能なカバー又は蓋１６が載置されている。カ バー又は蓋１６は適切なリブ又はスペーサ１８、あるいは先に述べた同時継続出 願筒７１２，４１３号に記載されているようにガスの通路を有する盛上がったリ ムによって、窪みから上方に離隔して配置されている。これにより、ガス、例え ば空気、を窪みの上方の空間２０に分配することができる。

トレイ１０は適切であれば、四角形、円形、矩形等どのような形状にしても良い 。トレイは、窪みの内容物を何時でも観察できるように適切で透明なプラスチッ ク材料又はガラスで形成されている。

従来、このような培養トレイは検査中は培養装置の金属性格子棚の上に直に載置 されていた。他の培養容器の取出しゃ新しい培養容器の挿入のために培養装置の ドアが開けられると、冷たい空気が培養装置内を循環して窪みの下に位置する棚 の格子の間隙を通過するので、検査中の培養物は不均一な蒸発作用の影響を受け る。本発明ではこの問題を解決するために、培養物トレイ１０は窪みの下方に断 熱室２２を有している。

第１図に示すように、基盤１２は窪みの底壁２６の位置よりも下方に延出した周 辺スカート２４を有している。スカートの開口下端は底壁又はパネル２８によっ て密封されている。底壁又はパネル２８は周囲がスカートの開口下端に音波溶接 されていることが好ましい。このようにして、空気又は他の適切な流体により満 たされる下方の断熱室２２が形成される。この実施例の断熱室２２は密封されて いる。トレイの底から窪みを観察することをできなくする断熱室内の凝縮の防止 又は減少のために、湿度が低いかゼロの環境又は真空の環境の下で断熱室を製造 することが好ましい。

第１図において、断熱室２２は空気又は他のガスで満たされているが、断熱室２ ２を清浄な液体で満たすこともできる。この場合、検査中の特定の培養物又は反 応物にとって最適の温度環境とするために液体は冷却又は加熱される。この場合 、断熱室を液体で満たすために基盤の上部壁に穴が形成される。

穴は液体を保持するために後に密封される。

断熱室の寸法は重要である。断熱室が大き過ぎると、倒立顕微鏡を用いて底壁か ら培養物を調べることができなくなってしまう。従って、顕微鏡を用いて窪み内 の培養物を観察できるように、即ち、窪みが使用中の顕微鏡の焦点面内に位置す るように、窪みの底壁と断熱室の底壁との離隔距離を十分に小さくしなければな らない。好ましい実施例では、窪みの底壁の下の断熱室の厚さは５／１６インチ 以下である。これにより組織培養の応用に用いられる標準的倒立顕微鏡を介して 窪みの内容物を確実に観察することができるようになる。

第１図の実施例では断熱室は子房室トレイの基盤内に設けられているが、実際に は断熱室は培養プレート、培養フラスコ等どのような培養容器の底にも設けるこ とができる。第２図は単一の組織培養物又は反応物の保持に一般に用いられてい る培養フラスコ３０であり、組織培養物又は反応物は標本保持室３２内に保持さ れる。二重壁３４．３Ｂは通常はフラスコが培養装置の棚の上に載置されるとき に棚に接触する側に設けられていて、両壁に、より標本保持室３２の下に断熱室 ３８が形成されている。断熱室３８はこの実施例でも密封されている。断熱室３ ８が空気又はガス室である場合には、断熱室３８内での凝縮の発生を防止又は最 小に押えるために、フラスコは湿度が低いかゼロの環境の下で適切に製造される 。断熱室の厚さは観察用顕微鏡の焦点面に従って適切に選択されるが、５／１６ インチ以下であることが好ましい。また、断熱室３８を冷却又は加熱することの できる適切で清浄な液体で満たせば温度を制御することができる。

第３図及び第４図は本発明の第３の実施例であみ。この実施例では、子房室トレ イ４０は窪み４４を複数個有した基盤４２を備えており、窪みの下には第１図の 実施例と同様に底壁４８により断熱室４６が形成されている。しかしながら、こ の実施例では、断熱室４６は密封されておらず、ガスを散布する通路を有してい る。この通路によりガスは断熱室４Ｂを通過してトレイの基盤４２とカバー５２ との間に形成され窪みの上方に位置する空間５０に散布される。

窪みの形成されている領域の周囲を囲んでいる直立した張出し部又はリム５４に よりカバーは基盤から一定の距離だけ上方に離隔した状態に維持され、窪みの上 方に閉じた室が形成される。また、下方に垂れ下がった張出し部をカバーに設け るか、基盤とカバーの両者にリムを設けて両リムを重ね合せるようにしても窪み の上方に閉じた室を形成することができる。基盤の上部壁５６はリム５４の外側 に一連の開口５５を有しており、この間口５５により空気が矢印の方向に流れて 断熱室４６内に入り込む。上部壁５６は窪みの形成されている領域内に第２の一 連の通路又は開口５８を更に有している。一連の開口５８は第４図に示すように 窪みと窪みとの間の部分に形成されている。開口５５を介して断熱室４６内に入 り込んだガスは開口５８を介してトレイの基盤を通過して窪みの上方の空間内に 至る。

ところで、開口５８はガスが窪み総てに実質的に均一に散布されるように配置さ れているので、不均一の蒸発効果は減少又は防止される。同時に、窪みは培養装 置内を上方に向かって流れる冷却した空気から窪みの下の断熱室により絶縁され る。

カバーが基盤上に載置されると、基盤とカバーとの接触により密封されて、接触 か所からの実質的な量のガスの進入が防止されるので、はとんどのガスの流れは 断熱室４Ｇを通り開口５８を通過する。

開口５５に疎水性のフィルタを設けて入り込んでくるガス又は空気をろ過するこ とによって培養物を汚染する可能性のある粒子を取り除くこともできる。開口５ ５をスロットや溝に置き換えれば、細長いフィルタストリップを取り付けること もできる。フィルタの穴の大きさはガスを効率的に通過させるために０．３４ミ クロンより小さくしてはならない。

所望であればシ断熱室内を通過して窪みの上方の空間に流れ込む空気又は他のガ スを湿らせるために水のような適切な液体を断熱室４Ｂ内に入れても良い。断熱 室が水で満たされると、水は窪み４４を囲む熱的シンクとして作用するので、窪 みの断熱効果が助長されて総ての窪みて均等に培養することができるようになる 。

先に述べたように、どの実施例の培養トレイ又は容器も、検査中に窪み又は容器 の内容物を継続的に観察できるように透明であることが好ましい。窪み又は培養 室の底壁の下の断熱室の厚さは、標本を観察できるように比較的薄くしなければ ならないので、５／１６インチ以下であることが好ましい。

本発明の別の観点によれば、窪みの下に断熱室を有する子房室培養トレイの製造 方法が提供される。トレイの蓋は標準的方法により透明のプラスチック材料から 適切に成形される。

基盤はプラスチック材料をダイスの雄部と雌部との間で射出成形することによっ て所望の数の窪みを有するものが形成される。これもまた子房室トレイの製造に 関する標準的技術である。

両ダイス部が分離される際に各窪みの下部壁に真空によるしわが生じないように するには、ポツプリリース弁を設けて、両ダイス部を分離する際に両ダイス部の 間の空隙内に空気を吹き込んで真空にならないようにすれば良い。これにより滑 らかな窪み壁が形成されるので、窪み壁が不均一になることにより生じる培養室 の不均一な集積が除去される。

基盤の上部壁が一旦形成されると、平らな板又は上方に突出したリムを有する板 である底壁は基盤スカート２４の下端に適切に取り付けられる。底壁の基盤スカ ート２４への取り付けには、窪みの下の断熱室内での凝縮の発生を防止又は減少 させるために、真空の環境の下又は湿度が低いかゼロの環境の下で音波溶接又は 継手の周囲の接着技術が用いられる。

以上に本発明の好ましい実施例の幾つかを参考までに説明したが、この分野の専 門家であれば添付の請求の範囲に規定されている本発明を逸脱することなく以上 の実施例に修正を加えることができることは言うまでもない。

国際調査報告

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. １．検査反応物を保持する培養室を少なくとも１個と、培養室の下に位置し、厚 さが５／１６インチ以下で、培養室を断熱する別個の断熱室とを有する容器より なる組織培養容器。
2. ２．容器は壁が二重の基盤を有する培養フラスコを備え、断熱室は基盤の二重壁 の間に形成されている請求項１に記載の組織培養容器。
3. ３．容器は反応物を収容する窪みを複数個有する基盤と、基盤の上に載置される 取り外し可能なカバーと、カバーを基盤の上方に離隔させて窪みの上方に空間を 形成するスペーサ手段とを備えており、断熱室は窪みの下の室である請求項１に 記載の組織培養容器。
4. ４．基盤は窪みが位置する上部壁と、この上部壁の周囲で下方に垂れているスカ ートと、スカートの下端を横切って延出して断熱室を形成する底壁とを備えてい る請求項３に記載の組織培養容器。
5. ５．断熱室は密封された室である請求項４に記載の組織培養容器。
6. ６．断熱室は空気で満たされており、湿気を実質的に有していない請求項５に記 載の組織培養容器。
7. ７．断熱室は清浄な液体を収容している請求項５に記載の組織培養容器。
8. ８．液体は水である請求項７に記載の組織培養容器。
9. ９．断熱室は、断熱室を通って窪みの上方の空間内にガスを運ぶ通路を有してい る請求項４に記載の組織培養容器。
10. １０．通路はガスを断熱室内に流す一組の第１開口と、基盤の上部壁の窪み相互 の間に設けられ、ガスを上方に向かって流して断熱室から窪みの上方の空間にガ スを流入させる一組の第２開口とを有している請求項９に記載の組織培養容器。
11. １１．基盤の断熱室は液体で満たされていて、窪みを取り囲む熱的シンクを提供 している請求項９に記載の組織培養容器。
12. １２．検査反応物を保持する培養室を少なくとも１個と、培養室の下で培養室を 断熱し、ガスで満たされ、湿気を実質的に有していない別個の密封された断熱室 とを有する容器よりなる組織培養容器。
13. １３．ダイスの雄部と雌部との間でプラスチック材料を成形することによって、 窪みを複数個有する上部壁及びこの上部壁の周囲で下方に垂れるスカートを備え た基盤を形成する工程と、 平らで基盤の開放下端を閉じることのできる大きさの底壁を形成する工程と、 底壁を基盤のスカートの下端に接着して窪みの下に密封された断熱室を形成する 工程と、 基盤の上に載置される取り外し可能なカバーを形成する工程とを有する組織培養 容器製造法。
14. １４．基盤の形成工程は、基盤の形成後に両ダイス部間に空気を供給して真空の 形成を防止しながらダイスの雄部と雌部を分離する工程を有する請求項１３に記 載の組織培養ホールダ製造法。