JPH0250106A - 新規な光デバイス - Google Patents
新規な光デバイスInfo
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- JPH0250106A JPH0250106A JP20009788A JP20009788A JPH0250106A JP H0250106 A JPH0250106 A JP H0250106A JP 20009788 A JP20009788 A JP 20009788A JP 20009788 A JP20009788 A JP 20009788A JP H0250106 A JPH0250106 A JP H0250106A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- photosensitive resin
- optical waveguide
- optical axis
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光性樹脂により光軸合わせ用ガイド及び光
導波路が形成された光デバイスに関するものである。本
発明の光デバイスの利用分野としては、光ファイバと接
続して用いられる光伝送用デバイスや、発光素子、受光
素子、偏光子、回折格子などと組合せてなる光センサ等
がある。該光デバイスの具体例としては、光分岐結合器
、光スターカップラ、光合波分波器、光電スイッチ、物
体検出器、煙感知機、テープエンドセンナなどが挙げら
れる。
導波路が形成された光デバイスに関するものである。本
発明の光デバイスの利用分野としては、光ファイバと接
続して用いられる光伝送用デバイスや、発光素子、受光
素子、偏光子、回折格子などと組合せてなる光センサ等
がある。該光デバイスの具体例としては、光分岐結合器
、光スターカップラ、光合波分波器、光電スイッチ、物
体検出器、煙感知機、テープエンドセンナなどが挙げら
れる。
[従来の技術〕
従来、光導波路を用いた光デバイスにおいて、光ファイ
バ、発光素子、受光素子、光学素子などの光学部品と光
導波路の光軸を合わせるためのガイドを形成する方法と
しては、精密切削加工機によりガイド用溝を形成したり
、反応性エツチングにより■溝を形成する方法が採られ
ていた。
バ、発光素子、受光素子、光学素子などの光学部品と光
導波路の光軸を合わせるためのガイドを形成する方法と
しては、精密切削加工機によりガイド用溝を形成したり
、反応性エツチングにより■溝を形成する方法が採られ
ていた。
上記の従来法で、光軸合わせ用ガイドを形成するには、
該ガイドと光導波路の位置を正確に合わせるのが、非常
に困難であるか、又は、極めて精度の高い機器を必要と
する。
該ガイドと光導波路の位置を正確に合わせるのが、非常
に困難であるか、又は、極めて精度の高い機器を必要と
する。
本発明は、上記の問題点を克服すべく鋭意研究を重ねた
結果なされたものであり、その目的は、光軸合わせ用ガ
イドが高精度かつ簡便に形成できる光導波路型光デバイ
スを提供することにある。
結果なされたものであり、その目的は、光軸合わせ用ガ
イドが高精度かつ簡便に形成できる光導波路型光デバイ
スを提供することにある。
即ち、本発明は、感光性樹脂にフォトリソグラフ法を施
して光軸合わせ用ガイド及び光導波路を同時に形成する
ことにより、光軸合わせの簡便な光デバイスを提供する
ものである。
して光軸合わせ用ガイド及び光導波路を同時に形成する
ことにより、光軸合わせの簡便な光デバイスを提供する
ものである。
本発明における感光性樹脂としては、種々のものを用い
ることができる0組成による分類によれば、■感光性化
合物+高分子型、■感光基を持つ高分子型、■光重合組
成型の三つに大きく分けられる。■に属するものとして
は、例えば、重クロム酸塩+高分子化合物、ジアゾ又は
アジド化合物+高分子化合物などがあり、感光性化合物
が光により活性化されて高分子化合物と反応し、光照射
前と性質を異にする組成物となることを・利用するもの
である。■に属するものとしては、例えば、ポリ桂皮酸
ビニルもしくはその類慎化合物又はジアゾ基やアジド基
を有する高分子等があり、光による高分子間の架橋等を
利用する。■に属するものとしては、光重合開始剤と重
合性モノマーの混合物の系が多く知られている。
ることができる0組成による分類によれば、■感光性化
合物+高分子型、■感光基を持つ高分子型、■光重合組
成型の三つに大きく分けられる。■に属するものとして
は、例えば、重クロム酸塩+高分子化合物、ジアゾ又は
アジド化合物+高分子化合物などがあり、感光性化合物
が光により活性化されて高分子化合物と反応し、光照射
前と性質を異にする組成物となることを・利用するもの
である。■に属するものとしては、例えば、ポリ桂皮酸
ビニルもしくはその類慎化合物又はジアゾ基やアジド基
を有する高分子等があり、光による高分子間の架橋等を
利用する。■に属するものとしては、光重合開始剤と重
合性モノマーの混合物の系が多く知られている。
本発明における感光性樹脂は、上に述べた組成のみでも
、目的を達することが可能であるが、必要に応じて添加
剤を加えることが好ましい。添加剤としては、光増感剤
、安定剤、熱重合開始剤、可塑剤、螢光剤、着色剤など
が、挙、げられる、が、これらに限定されるものではな
い。
、目的を達することが可能であるが、必要に応じて添加
剤を加えることが好ましい。添加剤としては、光増感剤
、安定剤、熱重合開始剤、可塑剤、螢光剤、着色剤など
が、挙、げられる、が、これらに限定されるものではな
い。
本発明の感光性樹脂は、剛直な支持体上に単層又は2層
以上積層して用いられるものである。
以上積層して用いられるものである。
感光性樹脂は、フォトリソグラフ法を施すことにより光
導波路となるものであるから、導波される光の波長に対
して実質的に透明でなければならない。導波される光が
、可視光又は近赤外光である場合は、感光性樹脂として
は、紫外光に感度即ち吸収を有するものが好ましい、か
かる感光性樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、
ポリスチレンなどの高分子、多官能(メタ)アクリレー
トモノマー及び光重合開始剤を構成成分とする感光性樹
脂組成物が挙げられる。
導波路となるものであるから、導波される光の波長に対
して実質的に透明でなければならない。導波される光が
、可視光又は近赤外光である場合は、感光性樹脂として
は、紫外光に感度即ち吸収を有するものが好ましい、か
かる感光性樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、
ポリスチレンなどの高分子、多官能(メタ)アクリレー
トモノマー及び光重合開始剤を構成成分とする感光性樹
脂組成物が挙げられる。
好ましい感光性樹脂の具体例としては、特願昭63−1
01257号に記載のポリメチルメタクリレート、メチ
ルメタクリレート、2官能(メタ)アクリレート及び光
開始剤等からなる感光性樹脂、特願昭62−29394
6号に記載のポリスチレン臭素化芳香族(メタ)アクリ
レート及び光開始剤等からなる感光性樹脂が挙げられ、
これらは単層の感光性樹脂として用いるのに好適である
。又、2層の感光性樹脂として好適なものとしては、特
願昭63−63198号に記載の第1感光性樹脂及び第
2感光性樹脂の組合せよりなる感光性樹脂が挙げられる
が、本発明の感光性樹脂は勿論これらに限定されるもの
ではない。
01257号に記載のポリメチルメタクリレート、メチ
ルメタクリレート、2官能(メタ)アクリレート及び光
開始剤等からなる感光性樹脂、特願昭62−29394
6号に記載のポリスチレン臭素化芳香族(メタ)アクリ
レート及び光開始剤等からなる感光性樹脂が挙げられ、
これらは単層の感光性樹脂として用いるのに好適である
。又、2層の感光性樹脂として好適なものとしては、特
願昭63−63198号に記載の第1感光性樹脂及び第
2感光性樹脂の組合せよりなる感光性樹脂が挙げられる
が、本発明の感光性樹脂は勿論これらに限定されるもの
ではない。
本発明に用いられる支持体は、該光軸合わせ用ガイド及
び光導波路を保持でき、又、フォトリソグラフ法を施す
場合に、現像液に対して耐性を示す剛直で表面の平滑な
支持体であれば何でも使用できる。
び光導波路を保持でき、又、フォトリソグラフ法を施す
場合に、現像液に対して耐性を示す剛直で表面の平滑な
支持体であれば何でも使用できる。
ここで剛直な支持体とは、無機材料からなる剛直な基板
もしくは厚手のプラスチック基板を指す。
もしくは厚手のプラスチック基板を指す。
無機材料からなる支持体としては、ソシダガラス、パイ
レックスガラス、バイコールガラス、石英ガラス等から
なるガラス板、石英、NH,I(、POいKll□PO
いシリコン、ガリウム・ヒ素等の単結晶基板、アルミニ
ウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属板等があり、
その厚みに制限はないが、50μm以上が好ましく、更
に好ましくは100μm以上である。
レックスガラス、バイコールガラス、石英ガラス等から
なるガラス板、石英、NH,I(、POいKll□PO
いシリコン、ガリウム・ヒ素等の単結晶基板、アルミニ
ウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属板等があり、
その厚みに制限はないが、50μm以上が好ましく、更
に好ましくは100μm以上である。
プラスチック基板としては、ポリ塩化ビニル、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリメチルペンテ
ン、ポリ四フッ化エチレン、ポリスチレン等高分子材料
からなる板などがあるが、これらに限定されるものでは
ない。
ルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリメチルペンテ
ン、ポリ四フッ化エチレン、ポリスチレン等高分子材料
からなる板などがあるが、これらに限定されるものでは
ない。
又、支持体基板の表面を光軸合わせ用ガイド及び光導波
路との接着性を向上させる等の目的で処理を行うことも
可能である。かかる処理の例としては、上記高分子材料
のコロナ放電処理、上記ガラス材料のシランカップリン
グ剤処理が挙げられる。
路との接着性を向上させる等の目的で処理を行うことも
可能である。かかる処理の例としては、上記高分子材料
のコロナ放電処理、上記ガラス材料のシランカップリン
グ剤処理が挙げられる。
更に、支持体基板上の屈折率を制御する目的で、光導波
路となる感光性樹脂より低屈折率の材料を基板上に形成
することも可能である。代表例としてはシリコン基板の
熱酸化による酸化シリコン層の形成、フッ素系ポリマー
やシリコーン系ポリマーの塗布等が挙げられる。
路となる感光性樹脂より低屈折率の材料を基板上に形成
することも可能である。代表例としてはシリコン基板の
熱酸化による酸化シリコン層の形成、フッ素系ポリマー
やシリコーン系ポリマーの塗布等が挙げられる。
感光性樹脂層の厚みに制限はなく、それと接続する光フ
ァイバや受発光素子等の大きさ等にも関係して決定され
るが、好ましくは25μmないし3mm、更に好ましく
は50μm乃至1 、5+n+aである。
ァイバや受発光素子等の大きさ等にも関係して決定され
るが、好ましくは25μmないし3mm、更に好ましく
は50μm乃至1 、5+n+aである。
支持体基板上に該感光性樹脂を塗工する方法としては、
特に限定されるものではないが、塗布法が好ましい。塗
布法としては、スピンコード法、バーコード法、ロール
コート法、デインプ法等がある。
特に限定されるものではないが、塗布法が好ましい。塗
布法としては、スピンコード法、バーコード法、ロール
コート法、デインプ法等がある。
本発明におけるフォトリソグラフ法とは、所望の形状パ
ターンを有するフォトマスクを介して紫外線等の光を支
持体上の感光性樹脂に露光し、又は電子線ビーム等の光
を所望のパターンで感光性樹脂に露光した後、露光部と
未露光部との現像液に対する溶解性の差を利用して未露
光部を洗い流し、所望の形状のパターンを有する光導波
路及び光軸合わせ用ガイドを得る方法を云う。
ターンを有するフォトマスクを介して紫外線等の光を支
持体上の感光性樹脂に露光し、又は電子線ビーム等の光
を所望のパターンで感光性樹脂に露光した後、露光部と
未露光部との現像液に対する溶解性の差を利用して未露
光部を洗い流し、所望の形状のパターンを有する光導波
路及び光軸合わせ用ガイドを得る方法を云う。
上記の露光時に、露光部の該感光性樹脂の重合を阻害す
る酸素を低減する目的で不活性雰囲気下で行ったり、酸
素透過性の低いシートを感光性樹脂に密着させるなどの
方法を採り入れることも可能である。上記現像液として
は、露光部である該感光性樹脂の重合物に対する熔解性
が未露光部である該感光性樹脂に対する熔解性よりも低
いものであれば、特に限定されるものではなく、又、最
適な現像液も当然感光性樹脂の組成に依存する。
る酸素を低減する目的で不活性雰囲気下で行ったり、酸
素透過性の低いシートを感光性樹脂に密着させるなどの
方法を採り入れることも可能である。上記現像液として
は、露光部である該感光性樹脂の重合物に対する熔解性
が未露光部である該感光性樹脂に対する熔解性よりも低
いものであれば、特に限定されるものではなく、又、最
適な現像液も当然感光性樹脂の組成に依存する。
前記の感光性樹脂の具体例に対して、好ましい現像液の
例を挙げれは、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、1.1.1− )リクロロエタン、酢酸エチル
、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラ
ン等がある。
例を挙げれは、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、1.1.1− )リクロロエタン、酢酸エチル
、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラ
ン等がある。
本発明における光軸合わせ用ガイドとは、光導波路の端
面と接続される光ファイバ、発光素子及び受光素子や、
光導波路の間に用いられる光学素子等の光軸と、該光導
波路の光軸を精度良く合わせるために設けられるもので
あり、その形状は光ファイバ、発光素子、受光素子、又
は光学素子等の形状に当然依存する。
面と接続される光ファイバ、発光素子及び受光素子や、
光導波路の間に用いられる光学素子等の光軸と、該光導
波路の光軸を精度良く合わせるために設けられるもので
あり、その形状は光ファイバ、発光素子、受光素子、又
は光学素子等の形状に当然依存する。
本発明の光軸合わせ用ガイドの具体例を図面で説明する
が、これに限定されるものではない。
が、これに限定されるものではない。
第1図及び第2図は、光ファイバと光導波路の端面同士
を接続するのに好適な光軸合わせ用ガイドを示す。図に
おいて、1は支持体、2は光軸合わせ用ガイド、3は光
導波路、4は光ファイバである。なお、符合1〜4は、
第1〜6図を通じて同じものを意味する。
を接続するのに好適な光軸合わせ用ガイドを示す。図に
おいて、1は支持体、2は光軸合わせ用ガイド、3は光
導波路、4は光ファイバである。なお、符合1〜4は、
第1〜6図を通じて同じものを意味する。
第1図は、光ファイバが、プラスチック光ファイバの如
くクラフト部がコア部に比して薄い場合に好適であり、
光導波路及び光軸合わせ用ガイドは単層の感光性樹脂か
らなっている。又、第2図は、光ファイバが、石英系又
は多成分ガラス系光フーアイバの5IIO/125 、
GI50/125 、又はS I 200/250の如
(、クラッド部が比較的大部を占める場合に好適なもの
であり、光導波路及び光軸合わせ用ガイドは2層の感光
性樹脂からなっている。
くクラフト部がコア部に比して薄い場合に好適であり、
光導波路及び光軸合わせ用ガイドは単層の感光性樹脂か
らなっている。又、第2図は、光ファイバが、石英系又
は多成分ガラス系光フーアイバの5IIO/125 、
GI50/125 、又はS I 200/250の如
(、クラッド部が比較的大部を占める場合に好適なもの
であり、光導波路及び光軸合わせ用ガイドは2層の感光
性樹脂からなっている。
即ち、第1感光性樹脂層(3b)の膜厚を概ね光ファイ
バのクラッド部の厚みと同じくし、第2感光性樹脂層(
3a)の膜厚を概ねコア部の厚みと同じくすることによ
り、光ファイバのコア部の光軸と光導波路の第2感光性
樹脂層(光導波路のコア部)の光軸を一致させ、かつ、
光の導波する幅を概ね同じくすることにより、光ファイ
バと光導波路との接続損失を低くするものである。
バのクラッド部の厚みと同じくし、第2感光性樹脂層(
3a)の膜厚を概ねコア部の厚みと同じくすることによ
り、光ファイバのコア部の光軸と光導波路の第2感光性
樹脂層(光導波路のコア部)の光軸を一致させ、かつ、
光の導波する幅を概ね同じくすることにより、光ファイ
バと光導波路との接続損失を低くするものである。
第1図及び第2図の如く、光ファイバと光導波路の端面
接続において、端面反射による接続損失を低下させる目
的で、マツチング液を注入したり、光ファイバを光軸合
わせ用ガイドに接着する目的で、接着剤を注入したりす
ることも当然行い得る。
接続において、端面反射による接続損失を低下させる目
的で、マツチング液を注入したり、光ファイバを光軸合
わせ用ガイドに接着する目的で、接着剤を注入したりす
ることも当然行い得る。
又、光導波路に必要に応じてオーバクラッドを塗布する
こともできる。
こともできる。
第1図及び第2図の光ファイバを半導体レーザや発光ダ
イオード等の発光素子やフォトダイオードやフォトトラ
ンジスタ等の受光素子に置き換えて使用できる。
イオード等の発光素子やフォトダイオードやフォトトラ
ンジスタ等の受光素子に置き換えて使用できる。
第3図は、光導波路3の間にギャップを設け、干渉フィ
ルタ6や減衰板5を置いた光デバイスに用いられる光軸
合わせ用ガイド2を示したものである、用いられる光学
素子としては、他にプリズム偏光子、球レンズ、回折格
子等が挙げられる。
ルタ6や減衰板5を置いた光デバイスに用いられる光軸
合わせ用ガイド2を示したものである、用いられる光学
素子としては、他にプリズム偏光子、球レンズ、回折格
子等が挙げられる。
本発明における光導波路及び光軸合わせ用ガイドの厚み
は、用途に応じて種々可能であるが、10μ−〜10s
v+の範囲が好ましい、又、該光導波路のパターンは、
種々の形状が可能である。パターンの形状の例を挙げれ
ば、直線、L字型、S字型、0字型、1字型、7字型、
X字型、平面型及びこれらの組合せがあるが、これらに
限定されるものではない。
は、用途に応じて種々可能であるが、10μ−〜10s
v+の範囲が好ましい、又、該光導波路のパターンは、
種々の形状が可能である。パターンの形状の例を挙げれ
ば、直線、L字型、S字型、0字型、1字型、7字型、
X字型、平面型及びこれらの組合せがあるが、これらに
限定されるものではない。
以下に実施例を示す。
実施例1
ポリメチルメタクリレート25重量部、2官能メタクリ
レ−) HX−2201’l (日本化薬■製)42
重量部、メチルメタクリレート33重量部を、70℃で
加熱混合した後、光開始剤ジメトキシフェニルアセトフ
ェノン1重量部を混合し均一な溶液とした。フッ素樹脂
を厚み30μmで被覆した厚さIIIIIIlのアクリ
ル板を支持体とし、厚さ1mmのスペーサーを用い、上
記の感光性樹脂の溶液を注入し、離型処理をした厚さ2
5μmのポリエチレンテレフタレート・フィルムを保護
フィルムとして展延した後、Y分岐光導波路及び光フア
イバ軸合わせ用ガイドのパターンを有するフォトマスク
を設置した。
レ−) HX−2201’l (日本化薬■製)42
重量部、メチルメタクリレート33重量部を、70℃で
加熱混合した後、光開始剤ジメトキシフェニルアセトフ
ェノン1重量部を混合し均一な溶液とした。フッ素樹脂
を厚み30μmで被覆した厚さIIIIIIlのアクリ
ル板を支持体とし、厚さ1mmのスペーサーを用い、上
記の感光性樹脂の溶液を注入し、離型処理をした厚さ2
5μmのポリエチレンテレフタレート・フィルムを保護
フィルムとして展延した後、Y分岐光導波路及び光フア
イバ軸合わせ用ガイドのパターンを有するフォトマスク
を設置した。
フォトマスクを介して高圧水銀ランプから紫外線を10
100O/−照射し、70℃で10分間加熱し、保護フ
ィルム及びスペーサを除去した後、1.1.1− トリ
クロロエタンで現像し、厚さl mm、線幅IIIII
Il1長さ25mg+、分岐角2.9°のY分岐光導波
路、及び第4図に示したような厚さ1111111%線
幅1■、長さ5IIII11の光フアイバ光軸合わせガ
イドを得た。
100O/−照射し、70℃で10分間加熱し、保護フ
ィルム及びスペーサを除去した後、1.1.1− トリ
クロロエタンで現像し、厚さl mm、線幅IIIII
Il1長さ25mg+、分岐角2.9°のY分岐光導波
路、及び第4図に示したような厚さ1111111%線
幅1■、長さ5IIII11の光フアイバ光軸合わせガ
イドを得た。
ファイバ径1IIIII+、コード外径2.2mm、長
さ2mのプラスチック光フアイバコード“ルミナス↑C
−1000” (旭化成工業■製)の片端の芯線を出し
、端面研磨し、上記のY分枝光導波路の各端面に、光軸
合わせ用ガイドを介して端面接続した。マツチング液と
してUV硬硬化型フッ素用樹脂用い、光ファイバコ、−
ドの片端に光コネクタを取りつけ、波長0.66μIの
LED光源(NA、。−0,21)を用いて光伝送特性
を評価した。
さ2mのプラスチック光フアイバコード“ルミナス↑C
−1000” (旭化成工業■製)の片端の芯線を出し
、端面研磨し、上記のY分枝光導波路の各端面に、光軸
合わせ用ガイドを介して端面接続した。マツチング液と
してUV硬硬化型フッ素用樹脂用い、光ファイバコ、−
ドの片端に光コネクタを取りつけ、波長0.66μIの
LED光源(NA、。−0,21)を用いて光伝送特性
を評価した。
結果は、過剰損失3.6dB、分配均一性0.3dBで
あった(光コネクタの接続・損失も含む)。
あった(光コネクタの接続・損失も含む)。
なお、二官能メタクリレートOX−220Mは、次の化
学構造式の化合物である。
学構造式の化合物である。
得られた光分岐結合器の概念図を第4図に示した。
実施例2
ポリメチルメタクリレ−)60重量部、2官能メタクリ
レ−) OX−220M (日本化薬■製) 40m
:置部及び光開始剤ジメトキシフェニルアセトフェノン
lii置部を0−キシレン110重量部に加え混合し溶
液とした。シランカフプリング剤で表面処理したガラス
板(70X 70 X 1 mm)にスピンニート法で
上記の溶液を塗布し、70℃で10分間加熱乾燥し、厚
み37.5μ輪の第1感光性樹脂の塗膜を得た。次にポ
リスチレン50重量部、臭素化物A 50重量部及び光
、開始剤ジメトキシフェニルアセトフェノン2重量部を
0−キシレン110重量部に加え混合して溶液とした。
レ−) OX−220M (日本化薬■製) 40m
:置部及び光開始剤ジメトキシフェニルアセトフェノン
lii置部を0−キシレン110重量部に加え混合し溶
液とした。シランカフプリング剤で表面処理したガラス
板(70X 70 X 1 mm)にスピンニート法で
上記の溶液を塗布し、70℃で10分間加熱乾燥し、厚
み37.5μ輪の第1感光性樹脂の塗膜を得た。次にポ
リスチレン50重量部、臭素化物A 50重量部及び光
、開始剤ジメトキシフェニルアセトフェノン2重量部を
0−キシレン110重量部に加え混合して溶液とした。
この溶液を第1感光性樹脂の塗膜上にスピンコードし、
70’Cで15分間加熱乾燥し厚み50μmの第2感光
性樹脂の塗膜を得た。
70’Cで15分間加熱乾燥し厚み50μmの第2感光
性樹脂の塗膜を得た。
フォトマスクを介して高圧水銀ランプから紫外線を70
(1mJ/−照射し、70’eで1o分間加熱した後、
1.1.1− )リクロロエタンで現像し、線幅50μ
m1長さ10mm、分岐角θ=1.6°の光導波路及び
光フアイバ光軸合わせ用ガイドを有する第5図に示した
光アクセッサを得た。
(1mJ/−照射し、70’eで1o分間加熱した後、
1.1.1− )リクロロエタンで現像し、線幅50μ
m1長さ10mm、分岐角θ=1.6°の光導波路及び
光フアイバ光軸合わせ用ガイドを有する第5図に示した
光アクセッサを得た。
芯線GI50/125 、コード外径2.2mm、長さ
2mの片端に光コネクタを有する石英系光フアイバコー
ドの片端の芯線を出し、カッタで切断し、上記の光アク
セッサの各端面に光軸合わせ用ガイドを介して端面接続
した。マツチング液及びオーバクラフト材としてUV硬
化型アクリレートを塗布しU′V硬化した。
2mの片端に光コネクタを有する石英系光フアイバコー
ドの片端の芯線を出し、カッタで切断し、上記の光アク
セッサの各端面に光軸合わせ用ガイドを介して端面接続
した。マツチング液及びオーバクラフト材としてUV硬
化型アクリレートを塗布しU′V硬化した。
波長0.85μmのLED光源(NA、。−0,12)
を用いて、光伝送特性を評価した。
を用いて、光伝送特性を評価した。
結果は、主線路の挿入損失は7.0dB、副線路の挿入
損失は9.5dBであった。
損失は9.5dBであった。
なお、臭素化物Aは、次の化学後横造式の化合物である
。
。
実施例3
実施例1と同様に、フォトリソグラフを行い、第6図に
示した如く厚さ31I1m、線幅3InII11長さ1
0cm、分岐角θ=3°のY分岐導波路及び厚さ3mm
の線幅2+nn+、長さ10mmの受・発光素子用光軸
合わせガイドを得た。
示した如く厚さ31I1m、線幅3InII11長さ1
0cm、分岐角θ=3°のY分岐導波路及び厚さ3mm
の線幅2+nn+、長さ10mmの受・発光素子用光軸
合わせガイドを得た。
第6図において、7は発光素子、8は受光素子を示す。
直径3mmの波長0.66μmのLED及びシリコンフ
ォトダイオードをY分岐導波路の端面と接続した。LE
Dを発光させながら、開放端の前方5mmで約1cm角
の物体を移動させるとシリコンフォトダイオードの出力
が移動に伴って変化した。
ォトダイオードをY分岐導波路の端面と接続した。LE
Dを発光させながら、開放端の前方5mmで約1cm角
の物体を移動させるとシリコンフォトダイオードの出力
が移動に伴って変化した。
本発明は、光導波路と光ファイバ、発光素子、受光素子
、光学素子等との光軸合わせが簡便な光デバイスを提供
するものである。
、光学素子等との光軸合わせが簡便な光デバイスを提供
するものである。
第1図は、本発明の単層の感光性樹脂より賦形された光
フアイバ光軸合わせ用ガイド及び光導波路を有する光デ
バイスの光ファイバと光導波路の接続を示1′−概念図
である。 第2図は、本発明の2層の感光性樹脂より賦形された光
フアイバ光軸合わせ用ガイド及び光導波路を有する光デ
バイスの光ファイバと光導波路の接続部を示す概観図で
ある。 第3図は、本発明の感光性樹脂より賦形された光学素子
光軸合わせ用ガイド及び光導波路を有する光デバイスの
概観図である。 第4図は、実施例1に記載された光分岐結合器の概観図
である。 第5図は、実施例2に記載された光アクセッサの概観図
である。 第6図は、実施例3に記載された光センサの概観図であ
る。 1・・・支持体 2・・・光軸合わせ用ガイド 3・・・光導波路 3a・・光導波路上層(第2感光性樹脂層)3b・・光
導波路下層(第1感光性樹脂層)4・・・光ファイバ 5・・・減衰板 6・・・干渉フィルタ 7・・・発光素子 8・・・受光素子 第1図 第2図 特許出願人 旭化成工業株式会社 代 理 人 弁理士 星野 透 第3図 第4図 第 図 第 図
フアイバ光軸合わせ用ガイド及び光導波路を有する光デ
バイスの光ファイバと光導波路の接続を示1′−概念図
である。 第2図は、本発明の2層の感光性樹脂より賦形された光
フアイバ光軸合わせ用ガイド及び光導波路を有する光デ
バイスの光ファイバと光導波路の接続部を示す概観図で
ある。 第3図は、本発明の感光性樹脂より賦形された光学素子
光軸合わせ用ガイド及び光導波路を有する光デバイスの
概観図である。 第4図は、実施例1に記載された光分岐結合器の概観図
である。 第5図は、実施例2に記載された光アクセッサの概観図
である。 第6図は、実施例3に記載された光センサの概観図であ
る。 1・・・支持体 2・・・光軸合わせ用ガイド 3・・・光導波路 3a・・光導波路上層(第2感光性樹脂層)3b・・光
導波路下層(第1感光性樹脂層)4・・・光ファイバ 5・・・減衰板 6・・・干渉フィルタ 7・・・発光素子 8・・・受光素子 第1図 第2図 特許出願人 旭化成工業株式会社 代 理 人 弁理士 星野 透 第3図 第4図 第 図 第 図
Claims (2)
- (1)剛直な支持体上の感光性樹脂にフォトリソグラフ
法を施すことにより、光軸合わせ用ガイド及び光導波路
が同時に形成された光デバイス。 - (2)剛直な支持体上に感光性樹脂を塗工した後、該感
光性樹脂にフォトマスクを介して露光し現像することに
より、光軸合わせ用ガイド及び光導波路を同時に形成す
ることを特徴とする光デバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20009788A JPH0250106A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 新規な光デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20009788A JPH0250106A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 新規な光デバイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0250106A true JPH0250106A (ja) | 1990-02-20 |
Family
ID=16418796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20009788A Pending JPH0250106A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 新規な光デバイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0250106A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003227950A (ja) * | 2002-02-01 | 2003-08-15 | Omron Corp | 光学素子およびその製造方法 |
| JP2009116008A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Nitto Denko Corp | 光導波路デバイスの製法およびそれによって得られる光導波路デバイス |
| JP2013156163A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Olympus Corp | 光学式センサ |
-
1988
- 1988-08-12 JP JP20009788A patent/JPH0250106A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003227950A (ja) * | 2002-02-01 | 2003-08-15 | Omron Corp | 光学素子およびその製造方法 |
| JP2009116008A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Nitto Denko Corp | 光導波路デバイスの製法およびそれによって得られる光導波路デバイス |
| US7912332B2 (en) * | 2007-11-06 | 2011-03-22 | Nitto Denko Corporation | Manufacturing method of optical waveguide device and optical waveguide device obtained thereby |
| JP2013156163A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Olympus Corp | 光学式センサ |
| US9366551B2 (en) | 2012-01-30 | 2016-06-14 | Olympus Corporation | Optical sensor having a characteristic changing part in a characteristic light guiding member |
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