JPH02501217A - 高い純度（Ｎｂ１‐ｘ Ｔａｘ）２Ｏ５およびＫＮｂ１‐ｘ Ｔａｘ Ｏ３ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 高い純度（Ｎｂｒ−ｘ　Ｔａｘ）２０ｓおよびＫ　Ｎ　ｂ　１−１　Ｔ　ａ　ｘ 　Ｏｓ［発明の背景］ この発明は、化合物およびそのような化合物からの処理結晶から不純物を除去す るための純化方法に関するものであり、特に（Ｎｂｘ−ｘ　Ｔａｘ）２０ｓおよ びそれから処理した結晶の純化方法に関するものである。

高い純度の、はとんど完全な単結晶は、そのような単結晶の選択された組成にお いて見出だされた特定の性質のために電子的、光学的、電子・光学的、その他の 応用において広く使用されている。ある場合には単結晶は高度に純化された形態 でまず前駆物質を与えることによって処理され、それから純粋な前駆物質を所望 の組成の単結晶に変換される。

技術的に重要な例は前駆物質Ｍ２Ｏ３に認められる。それにおいてはＭは（Ｎｂ ｔ−ｘＴａｘ）であり、Ｘは０から１まで変化する。Ｘが０のとき、前駆物質は Ｎｂ、０゜であり、それはＫＮｂＯ，の単結晶に変換される。Ｘが１のとき、前 駆物質はＴａ２０５であり、それはＫＴａＯ３の単結晶に変換される。Ｘが０と １の間のとき、前駆物質は（Ｎｂ１−ｘ　Ｔａｘ　）２０ｓであり、ＮＴＯとし ても知られている。それはＫＴＮとしても知られている中間組成のＫＮｂｌ−１ Ｔａｚ　Ｏ，の単結晶に変換される。これらの単結晶は電子・光学的素志用にお いて使用され、それにおいて結晶の屈折率は電界の印加によって変化させること ができ、パイロ電気効果によって熱を検知するのに使用されることがでこの方法 によって処理された単結晶の特性は前駆物質中の不純物の型および量に強く依存 する。２つの特定の例を引用すると、周期律表第３族中の元素のような２以上の 安定値状態を有する金属イオン不純物は電子ドナーまたはアクセプタとして振舞 うできる。置換される主成分に対して原子価的に整合しない１個の安定値状態を 有するイオン不純物は電荷補償プロセスを生じさせる。カラーセンターがこれら のプロセスの結果として生じ、それは光結晶に対して悪影響を及ぼし、結晶の電 気伝導度を増加または減少させる。

この形式の単結晶の処理の重要な特徴はそれ故不純物含有量の減少であり、特に 単結晶の特性を妨害するような不純物成分の減少である。不純物レベルの減少の ために多くの方法が試みられたが、いずれもこのような結晶の処理に一般的に使 用して充分に有効なものではない。純化の従来技術は粉末製造業者によってもっ ばら維持されている。２００ｐｐｍ　（部／１００万）より低い全不純物含有量 を有する粉末は得られない。

前記不純物レベルは最終の結晶特性に顕著な悪影響を及ぼすものである。一つの 知られている技術では（Ｎｂｌｘ　Ｔａｘ）０５は水和酸化物Ｈ（Ｎｂｘ　ｘ　 Ｔａ）（）０３　・ｙＨ２０で示される酸として純化された。この酸はアルカリ 溶融および後続する沸騰により鉱石から得られる。この酸は加水分解中に沈澱さ れる。この高度に分散性の材料は一連の単調な工程で各種の不純物が純化れ、そ れにおいては一時に１種または数種の不純物が除去される。例えば錫とアンチモ ンは沈澱された酸を硫化アンモニウムに浸すことによって除去される。タングス テンは希釈したアンモニアまたはアンモニウムカーボネイトに浸し、または暖か い水酸化ナトリウム溶液に浸し、余分の窒化のアンモニウムを沸騰させることに よって除去される。シリカは弗化水素と硫酸で除去される。チタンは余分のサル チル酸の添加および逆流コンデンサ中の沸騰、およびそれに続くろ過およびチタ ンとアンモニアの沈澱によって除去される。ジルコニウムはパイサルフェートと 溶融することによって分離され、溶融物は希釈硫酸によって抽出され、硫化ジル コニウムを溶解する。純化後、純化した酸の発火は（Ｎｂｘ　ｘ　Ｔａｘ　）２ ０ｓを生じる。

現在における主要な商業的技術であると信じられる別の方法では純化した５塩化 物（ＮｂＩ　Ｘ　Ｔａ）（）ＣＩ５の加水分解が純化した酸を生成し、それは前 記と同様の方法で酸化物に変換される。この方法で生成された酸化物は商業的に 得られる最大の純度を有するが、依然として多数の不純物を含み、特に処理中に 生じた第３族およびハロゲン元素を２００ｐｐｍ以上の濃度で含み、それから生 成されたＫＴＮ単結晶の電子および光学的特性に悪影響を及ぼす。硝酸中での反 復洗浄の技術はハロゲン含有量を減少させるが、ハロゲンおよび金属試料は残る 。有害な不純物を許容できる低いレベルに減少させる方法はまだ提案されていな い。したがって有効で、経済的な（ＮｂＩＸ　Ｔａ）（）２０５の形式の単結晶 前駆物質から不純物を除去する方法に対する必要性が存在している。この発明は 、この必要性を満たし、さらに関連する利点を提供するものである。

［発明の概要］ この発明は（Ｎｂｌｘ　Ｔａｘ）２０ｓ前駆物質のための処理方法に関する。そ の方法は、単結晶処理に使用する前の材料、または単結晶に処理するコンパクト および完成した粉末およびそれから作られた単結晶からの不純物の除去に有効で ある。純粋化のための処理はただ単一のステップが必要であるに過ぎず、外来の 、危険な、または高価な化学物質を使用せず、容易に利用できる、廉価な装置に よって行うことができる。この方法は物理的または化学的に人体に危険なもので はなく、高価な掃除装置または無駄な制御装置を必要としない。純粋化した（Ｎ ｂ１ｘ　Ｔａｘ）２０ｓ前駆物質材料はＫＮｂＩ　Ｘ　Ｔａ）（０３の粉末また は単結晶に処理され、電子的、光学的、および電子・光学的応用において有用で ある。

純粋化処理は酸化物から有害な不純物の除去に高度に有効であり、そのため低い 純度の従来利用できた前駆物質材料より純粋で良好な物理的性質を有する。

この発明によれば、（Ｎｂ１ｘ　Ｔａｘ）２０ｓの形態の酸化物を純粋化する処 理は（Ｘは０〜１の範囲）微細に粉末化された形態の（Ｎｂｌ　ｘ　Ｔａ）（） ２０ｓを供給し、微粉化された（Ｎｂｌ　Ｘ　Ｔａｘ）２０ｓをそこにある不純 物のハロゲンか物の揮発温度以上の温度に加熱し、加熱された微粉化された（Ｎ ｂｌ　Ｘ　Ｔａｘ）２０ｓにガス状プロトンドナーを通過させ、それによってそ こから不純物を除去する工程からなる。ガス状プロトンドナーは水蒸気であるこ とが好ましく、窒素のような不活性キャリヤガスと混合した微粉化された（Ｎｂ １ｘ　Ｔａｘ　）２０ｓに送られる。プロトンドナーと酸化物の反応は６００℃ 以上好ましくは９００乃至１１００℃、最も好ましくは約１０００℃の温度に維 持された炉管中のボート中の酸化物により行われる。

実施例で、ＸがＯ乃至１の範囲の（Ｎｂ１ｘ　Ｔａｘ）２０５の形態の酸化物を 純粋化するための処理は、微粉化された（Ｎｂ１ｘ　Ｔａｘ　）２０ｓを供給し 、管中の容器中へ（Ｎｂ１Ｘ　Ｔａｘ）２０ｓを配置し、（Ｎｂｌ　ｚ　Ｔａ） （）２０５を約９００乃至１１００℃の温度に加熱し、管を通って（Ｎｂｌ　ｘ 　Ｔａｘ）２０５上をキャリヤガス中の水蒸気の混合物を通過させ、それによっ て（Ｎｂｌ　Ｘ　Ｔａｘ）２０ｓから不純物を除去する工程を有している。この 処理において不純物ハロゲンは揮発しガス流中に除去される。ニオブおよびタン タルハロゲン化物の一部は揮発しガス流中に除去される。

しかしながら、ニオブおよびタンタルハロゲン化物の別の部分はそれらの酸化物 に変換され、それは揮発せず、所望のスペシイズとして残る。酸化ハロゲン不純 物は水と反応して揮発性ハロゲンと金属イオンを開放する。

材料の基本的化学的性質は変化せず固まって焼結されることも行われないから、 この発明の処理から生じた生成物は依然として微粉化された（Ｎｂ１ｘ　Ｔａｘ ）２０ｓである。ガス状プロトンドナーは水であることが好ましく、揮発性であ り、ガス流れにより酸化物から除去される。主として塩化物である不純物を含む 反応生成物は反応温度で揮発し、またガス流により酸化物の付近から除去される 。Ｘの全範囲にわたるＮＴＯ材料はＸがゼロ（Ｎｂ２０ｓ）からＸの中間値を含 み、Ｘが１　（Ｔ　ａ　２０５　）までこの発明の方法によって処理される。

処理された材料は、ここで与えられた例で詳細に報告されるように最も有害な金 属およびハロゲン不純物を含むほとんど全ての不純物のレベルを減少する。ｔｏ ｏｐｐｏ＋以下の全不純物レベルおよび５０ｐｐｍ以下の全不純物レベルは定常 的に（Ｎ　ｂ　ＩＸＴ　ａ　Ｘ　）　２０ｓおよび最小的なＫＮｂｌｚＴａ）（ ｏ３において到達され、一方１５　ｍ）ｐ１以下のレベルおよび５　ｐｐｍ以下 のレベルさえしばしば到達される。これに対して従来の市場で得られる最低の不 純物レベルは２００ｐｐｍまたはそれ以上である。従来の純粋化処理はこの発明 の処理によって達成されるレベルまで除去することができないので、現在入手で きる最良の、最も純粋なＮＴＯでも高い不純物レベルが存在する。

したがって、この発明の方法により処理された純粋な微粉化された（Ｎｂ１ｘ　 Ｔａｘ）２０ｓはユニークなものであり、他の方法で処理されることができない 。

この発明の別の観点では、高純度の（Ｎｂ１ｘ　Ｔａｘ）２０５はＸを０から１ として約ｔｏｏ　ｐｐｍより低い全不純物含有量を有する（Ｎｂ１ｘ　Ｔａｘ） ２０ｓを含む。約５０ｐｐｍ以下、約１５ｐｐｍ以下および約５ｐｐｍ以下の同 様の材料もまて可能である。

微粉化された（Ｎｂｌ　ｘ　Ｔａｘ　）２０ｓはそれからＫＮｂＩ　Ｘ　Ｔａｘ ０３の結晶を処理するために使用される。

この発明の処理のこの観点にしたがって、高度に純粋なＫＮ　ｂ　Ｉ　Ｘ　Ｔ　 ａ）＜　０３の結晶を処理する方法はこの発明の任意の方法による微粉化された （Ｎｂ１ｘ　Ｔａｘ）２０ｓ前駆、物質を供給し、（Ｎｋ）１ｘ　Ｔａｘ　）２ ０５をＫＮｂＩＸ　Ｔａ）（０３の結晶に処理する工程を含む。このような方法 は溶融物から結晶を引出す質量勾配質量転送技術によって達成されることが好ま しい。この技術は以下詳細に説明する。

結果的に生成されたＫＮｂＩ　Ｘ　Ｔａ）（０３結晶はダメージを与える不純物 レベルの実質上最低不純物レベルを有し、例により後述するようにこの発明によ る処理を行わない市販の前駆物質から作られた結晶よりも実質的にすぐれた物理 的性質を有する。この発明により処理した前駆物質中の不純物の減少されたレベ ルから生じた改善された特性が生じるものと信じられる。ＫＮｂｌ　ｘＴａ）（ ０３結晶の子のような改善された特性を得るような他の方法は知られていない。

この発明のこの観点によれば、高純度のＫＮｂｌ　Ｘ　Ｔａｘ０３材料は約１１ ００ｐｐより低い全不純物含有量を有するＫＮｂｌ　Ｘ　Ｔａ）（０３を構成し 、ここでＸは０から１　（０，１を含む）の範囲である。約５０ｐｐｍ以下、約 １５ｐｐｍ以下、約５　ｐｐｍ以下の類似の材料もまた可能である。

この発明の方法および純粋化した材料はＮＴＯおよびＫＴＮ材料の製造技術にお ける重要な進歩を与えるものであることが認識される。この方法は入手できる装 置、廉価で安全な化学的反応材料およびである水を使用する。前駆物質およびそ れから生成される結晶は低い不純物レベルと従来より勝れた特性を有する。その 他の特徴および利点、はこの発明の原理を例により示した添附図面を参照にした 以下の詳細な説明から明白である。

図面の簡単な説明 第１図は、明瞭にするために一部を開いた前駆物質酸化物を純化するための装置 の側面図である。

第２図は、ＫＴＮ単結晶成長のための装置の側面図である。

［好ましい実施例の詳細な説明］ この発明の好ましい純粋化プロセスは第１図にｌＯで示された純化装置と関連し て使用されること°力（できる。微粉化された（Ｎｂｌ　Ｘ　Ｔａｘ）２０ｓ酸 化物粉末のマス１２はシリカのボート１４のような適当な容器中に配置されてい る。粉末はできる限り微細であることが好ましく、６００メツシユ以下であり、 酸化物の単位容積当りの接触表面面積量がさいでいにすることが好ましい。この 方法は粗い酸化物粉末でも動作可能であるが、純化反応に長い時間がかかる。同 じ理由でボート１４は充分大きく、粉末マス１２はボート１２中に広げられ、ガ ス反応剤との接触を最大にすることが好ましい。

ボート１４はシリカのような耐熱性材料でできた炉管１６中に配置される。炉管 １６は所要の反応温度で動作できる類１８内に配置される。他の加熱方法も使用 できるが、炉は一般に長い反応期間が必要なために望ましく、反応期間にわたっ て経済的にその温度を維持する能力を有する。炉は約９００℃乃至約１１００℃ の温度に加熱される。もしももつと低い温度が使用されるならば、金属不純物を 含む化合物は揮発せず、反応運動い温度が使用されれば、シリカ炉管１Ｂは破損 する可能性がある。中間の温度、例えば１０００℃は炉管１６の寿命を短くする ことなく短い反応時間で所望のレベルの不純物減少を達成できる。高い温度はも つと耐熱性の高い炉管が得られれば使用できる。

反応ガスは炉管１６の第１の端部２２のニップル２０を通って炉管１６中に導入 される。反応ガス流はプロトンドナーとして水蒸気を含んでいる。水蒸気は廉価 であり、容易に入手可能であり、使用は物理的および化学的に安全であるから好 ましいものである。水蒸気は窒素ガス源２４から水を含むバブラー２６中に窒素 ガスを通過させることによって導入される。バブラー２６は水の蒸気圧力を増加 させるために加熱されてもよい。

加熱された水を通過する窒素ガスの泡はある程度の水蒸気を吸収してガス混合物 を形成する。

キャリヤガスと水蒸気のガス状混合物は炉管１６を通過し、ボート１４中の加熱 された粉末マス１２上を流れてそれと接触する。水蒸気は酸化物粉末中の不純物 と反応する。反応しなかった水蒸気および気体状の反応生成物はガス流と共に管 １６の第２の端部３２のニップル３０を通って炉管１６からでされる。ガス流は 第２のバブラー３４へ送られ、そこでガスは冷水を通って泡立てられる。このバ ブラー３４の目的はガス流から水中へ溶解性および不溶性反応生成物の両者を残 留物として除去し、そのためバブラー３４から出て行くガスはスクラバーや沈澱 装置等の高価な排気物清浄装置の必要なく直接大気中に排出することができ、実 用的動作では重要な利点である。

装置ｌＯを使用する約５００グラムの６００メツシユの酸化物粉末が長さ約３０ ８１％幅約６０Ｉｌｌの石英ボート１４中に負荷されたボート１４は直径８ｃｍ の炉管ｌＢ中に配置された。バブラー２６中の水は約６０℃に加熱され窒素ガス 流が毎分１０立方Ｃａｔの流量率でスタートした。炉はガス流がオンになると約 １０００℃に加熱される。ガス流は約１４日の期間連続し、その間にガス混合物 中の水蒸気は酸化物中の不純物と反応して粉末を純化する。

反応期間の終わりに純化された酸化物粉末は炉から取出される。粉末は１０００ ℃では焼結は少ししか或いは全く起らないため一般的に純化前と同じ一貫性と粒 子寸法を有している。

しかしその不純物含有量はスタート前と比較して実質上減少している。

この説明に拘束されることは希望しないが、実施例では水であるプロトンドナー は塩化水素ガスおよび金属酸化物を生成するために金属塩化物の不完全な加水分 解の結果として与えられるニオブおよびタンタルの塩化物と反応するものと信じ られる。塩化水素ガスの存在は経験的に確認されている。

塩化水素ガスは不純物金属と反応して揮発性塩化物を生成し、それはガス流中に 除去される。ニオブおよびタンタルの酸塩化物は反応温度では揮発性ではなくプ ロトンドナーと反応して塩化水素ガスおよび対応する金属酸化物を生成する。

粉末はそれから前駆物質として使用され、第２図に示す装置を使用して以下の方 法でＫＫＮｂｌ　Ｘ　Ｔａｘ０３の結晶に処理される。白金るつぼ５０は大気中 で抵抗炉（図示せず）中に配置される。前記の方法により処理された神化された 粉末１５００　ｇプラス純化された炭酸カリウムが白金るつぼ５０中で溶融され て溶融物５２を形成した。種結晶５Ｂを有する引上げ棒５４が溶融物５２の表面 に下げられ、種結晶５６が溶融物５２の表面に丁度接触するようにされる。種結 晶５Ｂは典型的には前の作業によって処理されたものであり、任意の所望の方位 を有′している。＜　１００　＞　、　＜　１１０　＞　、および（１１１）の 方位を有する結晶は一般に使用される。引上げ棒５４は１日に約１ｍａ＋のゆっ くりした速度で引上げられ、そのため種結晶５Ｂの先端が溶融物５２の表面に接 触する位置に結晶５８が形成される。約２００〜３００ｇの大きさの結晶がこの 方法によって容易に処理できる。

この技術の変形として、溶融物５２の組成が制御される技術が文献（Ｍａｔｅｒ ｉａｌｓ　Ｒｅ５ｅａｃｈ　Ｂｕｌｌｅｔｉｎ、Ｖｏｌ、２．８５３〜８５９頁 １９６７）に開示されている。別の動作技術は雑誌（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＣｒ ｙｓｔａｌ　Ｇｒｏｖｔｈ、Ｖｏｌ、１２．１２０〜１２４頁、　１９７２年お よびＪｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｅｒａａ＋ｉｃ　５ ｏｃｉｅｔｙ　、　Ｖｏｌ、４９．　Ｎｏ、８゜４１５〜４１ｇ頁、　１９８６ 年）に開示されている。これら、その他の既知の技術とこの発明の純化した前駆 物質の使用は従来得られたものに比較して著しく改善された結晶を生じる。

ＫＮｂｌ　Ｘ　Ｔａｘ０３の結晶は一般に物理的外見、形状、および結晶方位に おいて純化しない前駆粉末物質を使用したものと類似している。しかしながら、 電気的および光学的特性のようなそれらの重要な特性は従来得られたものと比較 して著しく改善されている。この発明による結晶は前駆物質粉末の純粋化処理中 にカラーセンターが除去されることによって通常はとんど無色である。

以下の例はこの発明の観点を示しているが、この発明のいずれの観点も限定する ものではない。

大きなロットで市場で入手できる最良の酸化物粉末はジョンソン・マツティ　（ Ｊｏｈｎｓｏｎ　Ｍａｔｔｈｅｙ　）社またはモートン・チオコル（Ｍｏｒｔｏ ｎ　Ｔｈ１ｏｋｏｌ）社から市販されているが、２００　ｐｐｍ以上の全不純物 含有量を有する。受取った材料の不純物含有量が表１に示されている。この表お よび以下の表において記号“く°は“それより少ない″を意味し、不純物含有量 はｐｐｍ（原子）で示されている。

表　１ Ｎａ　Ｏ，４０，０６ Ｓｉ　１０−２８０　１５０−４３００Ｔｉ　３２　７ Ｃｒ　Ｏ，８３ Ｆｅ　２３０−３３０　４４−２３Ｏ Ｎｉ　１２　２０ Ｃｕ　１０　１０ Ｆ＜、００１＜、０００１ Ｃ１１６００２２００ Ｃａ　９　１．３ Ｓｒ＜、０１＜、０１ Ｂａ　Ｏ，２− Ｉｎ　０．５　０．０３ Ｋ　１２　０．Ｏ２ Ｍｎ　４．３　１．５ これらの不純物レベルはこのようなスタート材料から成長させたＫＮｂｌ−）（ Ｔａｘ０３の結晶の最終特性を損う。全体の不純物レベルは２００　ｐｐｍ＋よ りずっと上であり、もしも最終的に得られた結晶でもそのレベルが維持されれば その特性を阻害するであろう。

これらの粉末はそれからこの発明による方法で純化され前記技術によって結晶に 成長された。４個の例示的な結晶の化学的な解析が以下の表２において報告され ている。

表　２ Ｎａ　、０６　．０６ λｌ　Ｏ，８０，６，０２，０５ Ｓｉ　３．６２．６　Ｃ７− Ｃ１，０３−２，５− Ｆｅ　３　０．８　０．１　− Ｎｉ　Ｃ４１，２０，１，− Ｃｕ　−０，ｉ　０．２　− Ｓｉ　−−０，０１，，３８ Ｒｈ　Ｏ，４１，７０，０３０，３ Ｂａ　Ｏ，７０，０２０，０８，００３Ｃａ　＜８　＜７　．０００４　．０２ （６＋　−，０００４− Ｎｄ　−−，００１− Ｇｄ　−−，００５，０００４ Ｙｂ　−−，０００６− Ｍｇ　Ｏ，３０，２−，１６ Ｆ　４　５　−　− Ｃｒ　Ｏ，６０，０４−− ５ｒ　０．０？　０．５　−　− Ｚｒ　＜１　０．０９　−　− 組成が表２に記載されている結晶番よ一般的唇こＫＮ　ｂ　１−Ｘ　Ｔ　ａ）（ ０３の組成を有し、Ｘの値またＣよＴａの含有量は各列の最初に示されている。

表１のよう暑こダ・ソシュ（−）は測定レベルが装置の感度以下であることを示 して（亀表１の結果（購入した材料）と表２の結果（最終の結晶）の化学的組成 の比較はこの発明の方法により不純物含有量の著しい減少を示している。この減 少した金属およびハロゲンの不純物含有量は結晶の特性を改善し、以前に得られ たものではない。１００　ｐｐｍ以下、５０ｐｐｍ以下、および１５ｐｐｏ＋以 下の全金属およびハロゲン不純物含有量のＫＮｂＩ　Ｘ　Ｔａｘ０３結晶はこの 発明の方法を使用することによって得られるものであって従来知られているもの ではない。

それ故この発明の方法は他の方法で得られるものとは異なる（Ｎｂ１ｙ、Ｔａｘ ）２０ｓの形態の高い純度の酸化物を生じ、それは従来可能であったものよりも 高度に純粋でありりようこうな電気的特性を有するＫＮｂｌ　ｘＴａｘ０３結晶 を生成するのに使用されることができる。この発明の方法は普通に入手できる装 置および普通に入手できる廉価なガス状反応剤である水を使用する。純粋化プロ セスは物理的および化学的に動作が安全であり、多数段ではなくただ１回の工程 が必要であるに過ぎず、拡張された純粋化動作中に最小の注意が必要であるだけ であり、残留物の処理のための複雑なスクラバー（ｓｃｒｕｂｂｅｒ）を必要と しない。

説明のためにこの発明の特定の実施例が詳細に説明されたが、こ発明の技術的範 囲をいだつすることなく置くの変形が可能である。したがってこの発明は添附請 求の範囲の記載によってのみ限定されるべきものである。

国際調査報告 ＋ｍ＊ｍｍ。ｗ＋　Ａ＠＠ｋＭ＋４＠Ｍ　Ｎ＠、ＰＣＴ／υＳ　８８１０２３７ １国際調査報告 ＵＳ　８８０２３７１ ＳＡ　２４２５９

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. １．ｘが０から１の範囲にある（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５の形態の酸化物を純粋 化するための方法において、微粉末の形態で（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５を供給し 、微粉末（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５をその含有する不純物の塩化物の揮発温度以 上の温度に加熱し、ガス状プロトンドナーを加熱された微粉末（Ｎｂ１ｘＴａｘ ）２Ｏ５を通過させてそれによりそこから不純物を除去する工程を有する（Ｎｂ １ｘＴａｘ）２Ｏ５の形態の酸化物の純粋化方法。
2. ２．ガス状プロトンドナーが水である請求の範囲１記載の方法。
3. ３．ガス状プロトンドナーがキャリヤガスと混合されて輸送される請求の範囲１ 記載の方法。
4. ４．キャリヤガスが窒素である請求の範囲３記載の方法。
5. ５．液体形態のプロトンドナーの容器を通ってキャリヤガスを泡立てることによ つてガス状プロトンドナーがキャリヤガス中に導入され、それにおいてプロトン ドナーの蒸気がキャリヤガスと混合する請求の範囲３記載の方法。
6. ６．前記通過させる工程中の（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５の温度が約９００℃乃至 約１１００℃である請求の範囲１記載の方法。
7. ７．ｘが０であり、それ故酸化物がＮｂ２Ｏ５である請求の範囲１記載の方法。
8. ８．ｘが１であり、それ故酸化物がＴａ２Ｏ５である請求の範囲１記載の方法。
9. ９．（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５が前記通過させる工程中石英管中に含まれている 請求の範囲１記載の方法。
10. １０．請求の範囲１記載の方法によつて処理された微粉化された（Ｎｂ１ｘＴａ ｘ）。
11. １１．ｘが０から１の範囲にある（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５の形態の酸化物を純 粋化するための方法において、微粉末の形態で（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５を供給 し、（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５を管中の容器中へ配置し、微粉末（Ｎｂ１ｘＴａ ｘ）２Ｏ５を約９００℃乃至約１１００℃の温度に加熱し、 管を通って（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５上をキャリヤガス中水蒸気の混合物に通過 させ、それにより（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５から不純物を除去する工程を有する （Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５の形態の酸化物の純粋化方法。
12. １２．キャリヤガスが窒素である請求の範囲１１記載の方法。
13. １３．前記通過させる工程が約１４日の期間にわたつて連続される請求の範囲１ １記載の方法。
14. １４．前記通過させる工程中の（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５の温度が約１０００℃ である請求の範囲１１記載の方法。
15. １５．請求の範囲１１記載の方法によつて処理された微粉化された（Ｎｂ１ｘＴ ａｘ）２Ｏ５。
16. １６．ｘが０乃至１の範囲で０および１を含み、約１００ｐｐｍより少ない不純 物含有量を有する（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５を含む高純度（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２ Ｏ５材料。
17. １７．不純物含有量が約１５ｐｐｍより少ない請求の範囲１６記載の材料。
18. １８．ｘが０から１の範囲にあるＫＮｂ１ｘＴａｘＯ３の高純度結晶を処理する 方法において、 １００ｐｐｍより少ない不純物含有量を有する微粉末（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５ を供給し、 （Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５前駆物質材料をＫＮｂ１ｘＴａｘＯ３の結晶に処理す る工程を有するＫＮｂ１ｘＴａｘＯ３の高純度結晶の処理方法。
19. １９．前記処理する工程は、 （Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５をるつぼ中に位置させて微粉末を溶融させ、 種結晶を溶融物の表面に接触させ、 種結晶を上方に引上げてその上に結晶を形成する工程を有する請求の範囲１８記 載の方法。
20. ２０．前記供給する工程は、 （Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５を微粉末の形態で供給し、微粉化された（Ｎｂ１ｘＴ ａｘ）２Ｏ５をそこに含まれた不純物の塩化物の揮発温度以上の温度に加熱し、 加熱された微粉化された（Ｎｂ１ｘＴａｘ）２Ｏ５上をガス状プロトンドナーに 通過させてそれによつてそこから不純物を除去する工程を有する請求の範囲１８ 記載の方法。
21. ２１．請求の範囲１８記載の方法によつて処理されたＫＮｂ１ｘＴａｘＯ３結晶 。
22. ２２．ｘが０乃至１の範囲で０および１を含み、約１００ｐｐｍより少ない不純 物含有量を有するＫＮｂ１ｘＴａｘＯ３を含む高純度ＫＮｂ１ｘＴａｘＯ３材料 。
23. ２３．不純物含有量が約１５ｐｐｍより少ない請求の範囲２２記載の材料。