JPH0251092A - 基板保持方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、マスクの検査装置等で使用される基板保持
方法及びその装置に係り、特に基板の撓みを容易に補正
することができる基板保持方法及びその装置に関する。

〔従来の技術］ 半導体集積回路の製造工程には、フォトレジストを塗布
したウェハにマスクの回路パターンを露光して焼付ける
露光装置が用いられている。この露光装置に使用される
マスクは、ウェハに露光する関係で高精度の回路パター
ンが要求され、このためマスクを検査する検査装置も基
板を撓みな（保持して、検査精度を向上させることが要
求されている。

従来の基板保持装置としては、例えば特開昭６２−１２
２１２８号公報（以下、第１従来例と称す）及び特開昭
６２−１１４２２３号公報（以下、第２従来例と称す）
に記載されているものがある。

すなわち、第１従来例には、向き合せに接地したマスク
とウェーハとの対向面間およびウェーハに対面しないマ
スクの他の面とに向けてそれぞれマスク及びウェーハの
温度制御を行う気体の吹き出し口を備えた２系統の気体
供給手段を有することを特徴とするプロキシミティー露
光装置が記載されている。

また、第２従来例には、マスクを担持するマスクホルダ
プレートと、半導体ウェハを担持するウェハチャックと
、マスクホルダプレートとウェハチャックとを相互に近
接させる駆動手段と、マスクと半導体ウェハの間を減圧
して両者密着させる真空密着手段と、上記マスクホルダ
プレートまたはウェハチャックに取付けた超音波発信機
及び超音波受信機と、上記マスクと上記半導体ウェハと
の密着を検出する超音波受信機からの信号に応答して露
光を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする露光
装置が記載されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記第１従来例にあっては、マスクの表
裏両面にそれぞれ沿わせて異なる温度に制御したＮ２ガ
ス流を形成してマスクとウェハとの伸び°縮みを自在に
制御してピッチエラーを補正することができるが、積極
的にマスクの撓みを補正するものではないと共に、多量
のＮ２ガスの吹き出しによって生じる負圧によって外気
が誘引されてマスク及びウェハに塵埃などが付着し易く
、しかも露光完了までの長時間温度制御しなからＮ２ガ
スの吹き出しを継続する必要があるので、Ｎ２ガスを多
量に消費し高価となるという未解決の課題があった。

また、第２従来例にあっては、マスクとウェハとの間を
真空状態として、両者を密着させるので、マスクやウェ
ハの凹凸形状にかかわらず一定した解像力を得ることが
できるものであるが、透過光を使用してマスクのパター
ンを検査する場合のように、中央部に透光が形成された
枠体でマスクの周縁部を保持する必要があるときには、
その自重撓みを補正することができないという未解決の
課題があった。

そこで、この発明は、上記従来例の問題点に着目してな
されたものであり、基板の周縁部を保持したときに、基
板に生じる自重による撓み或いは反り等の変形を容易に
補正することができる基板保持方法及びその装置を提供
することを目的としている。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、請求項（１１の発明は、マ
スク等の基板を保持する基板保持方法において、枠体内
に少なくとも上面を可撓性板部で構成した流体室を形成
し、該可撓性板部上に前記基板を吸着保持する吸着チャ
ックを配設し、該吸着チャックで前記基板を吸着保持し
ている状態で、前記流体室内の圧力を調整することによ
り、前記基板の撓みを補正するようにしたことを特徴と
している。

また、請求項（２）の発明は、マスク等の基板を保持す
る基板保持装置において、枠体内に形成した少なくとも
上面を可撓性板部で構成した流体室と、該可撓性板部上
に配設した前記基板を吸着保持する吸着チャックと、前
記流体室の圧力を調整する圧力調整手段とを備えたこと
を特徴としている。

〔作用〕

この発明においては、ウェハ等の基板の周縁部を吸着保
持する吸着チャックが流体室を構成する可撓性板部上に
配設されているので、この吸着チャックによって基板を
吸着保持している状態で、流体室の圧力を外気圧と等し
い状態から高めると、可撓性板部が外側に膨出し、これ
に伴う吸着チャックの姿勢が変化して、基板の自重によ
る撓みを補正することができる。逆に、流体室の圧力を
外気圧から低下さすることにより、可撓性板部が内側に
凹み、これに伴う吸着チャックの姿勢変化によって基板
の撓みを補正することができる。

〔実施例〕

以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図はこの発明をマスクパターン検査装置に適用した
場合の一実施例を示す斜視図である。

図中、１は基台であって、この基台１上に、Ｘ方向及び
Ｙ方向に移動可能に配設された移動テーブル２及びこの
移動テーブル２上に載置されたワークステージ３を有す
る移動テーブル装Ｗ４が配設されている。

また、基台１に固定配置されたコラム５の先端にイメー
ジセンサを内蔵する工具顕微鏡６がワークステージ３に
対向して取付けられ、イメージセンサから出力されるパ
ターン読取情報が処理装置（図示せず）に送出されてマ
スクパターン幅２間隔の測定が行われる。

移動テーブル装置４は、第２図〜第５図に示すように、
基台１の上面に配設された案内レール７ａ、７ｂ、７ｃ
によって案内されるスライダ３ａ。

８ｂ、８ｃを有し、所定間隔を保って配設され連杆９ａ
によって互いに連結されたＹ方向移動体９ｆ、９ｒと、
これらＹ方向移動体９ｆ、９ｒ上に配設された案内レー
ル１０ｆ、１０ｒによって案内されるスライダｌｌｆ、
ｌｌｒを有するＸ方向移動テーブル１２とで移動テーブ
ル２が構成されている。

そして、Ｙ方向移動体９ｆ、９ｒは、移動体９ｆの下面
に固着されたボールナツト１３を、ハンドル１４を取付
けた螺軸１５に螺合させることにより、ハンドル１４の
回転に応じてＹ方向に移動される。

一方、Ｘ方向移動テーブル１２は、その下面に固着され
たボールナフト１６を、ステッピングモータ１７によっ
て回転駆動される螺軸１８に螺合させることにより、ス
テッピングモータ１７の回転に応じてＸ方向に移動され
る。

そして、Ｘ方向移動テーブル１２には、第３図に示すよ
うに、中央部に比較的幅広の窓１９が穿設されていると
共に、その上面の窓１９の周縁部に、第４図に拡大図示
したように、前方側の左右位置及び後方側の左右位置に
それぞれ転動体としてのボール２０を受けるポール座２
１３〜２１ｊが形成されている。ここで、ボール座２１
ａ〜２１ｊのそれぞれは、Ｘ方向移動テーブル１２の上
面に固着されたボール２０の直径より低い高さの内側リ
ング２２とこれにボール２０の直径より長い所定間隔を
保って同心的に固着された同様にボール２０の直径より
低い高さの外側リング２３とによって形成された円環状
溝２４で構成されている。

そして、各ボール座２１ａ〜２１ｊ内に複数のボール２
０を移動自在に配置し、これらボール２０上にワークス
テージ３が載置されている。

ワークステージ３は、第２図及び第３図に示すように、
その上面に基板としての所定のパターンを形成したマス
ク２５を保持するマスク保持部２６が載置されていると
共に、右側縁及び後端縁にそれぞれＹ方向及びＸ方向に
所定長さを存するレーザ測長機２７からのレーザ光を分
岐した分岐レーザ光を反射する反射ミラー２８Ｘ及び２
８Ｙが取付けられている。

このワークステージ３は、その右端側の前後位置及び後
端側の左右位置における下面とＸ方向移動テーブル１２
の上面との間に介挿されたＸ方向引張機構３０Ｘ及びＹ
方向引張機構３０Ｙと、前記ボール座２１ａ〜２１ｊの
中心部に配設されたＺ方向引張機構３０ＺとによってＸ
方向移動テーブル１２上に弾性支持されている。ここで
、Ｘ方向引張機構３０Ｘ及びＹ方向引張機構３０Ｙは、
第５図に拡大図示したように、Ｘ方向移動テーブル１２
の下面に形成した長溝３１ａ内に固着された係止ピン３
１ｂと、ワークステージ３の上面に形成した長溝３１ｃ
内に固着された係止ビン３１ｄとの間に橋架された引張
スプリング３１ｅを有し、この引張スプリング３１ｅに
よってワークステージ３が右方側及び後方側に付勢され
ている。

そして、ワークステージ３の右方位置及び後方位置がス
トッパ機構３２Ｘ及び３２Ｙによって規制されている。

これらストッパ機構３２Ｘ及び３２Ｙは、第６図に拡大
図示したように、Ｘ方向移動テーブル１２の上面に形成
した長溝３３ａ内に、ワークテーブル３に固着された係
合ビン３３ｂを存する突出片３３ｃが挿入され、この突
出片３３Ｃの係合ビン３３ｂに対向してＸ一方向移動テ
ーブル１２を左右又は前後方向に貫通して螺合された螺
軸３３ｄが配設され、この螺軸３３の先端と突出片３３
ｃの係合ビン３３ｂとが当接することにより、Ｘ方向移
動テーブル１２に対するワークテーブル３の位置決めが
行われる。

また、Ｚ方向引張機構３０Ｚは、第４図に拡大図示した
ように、Ｘ方向移動テーブル１２及びワークテーブル３
にそれぞれ段部３４ａ及び３４ｂを有する貫通孔３４Ｃ
及び３４ｄが穿設され、貫通孔３４ｄの段部３４ｂにキ
ャップ３４ｅが係合され、貫通孔３４ｄの段部３４ｂに
螺軸３４ｆが螺合され、キャップ３４ｅ及び螺軸３４ｆ
間に引張スプリング３４ｇが橋架され、この引張スプリ
ング３４ｇによってワークテーブル３がＸ方向移動テー
ブル１２側に弾性支持されている。

一方、マスク保持部２６は、第２図及び第３図に示す如
く、方形の窓３５ａを有する枠体３５と、この枠体３５
上に配設された吸着チャック３６とで構成されている。

枠体３５は、その上下の開放端面が枠状の取付部材３５
ｂＵ及び３５　ｂＬによって気密性を保持して配設され
た例えばガラス製の可撓性板部３５Ｃ及び３５ｄによっ
て閉塞されて圧力室３５ｅが形成され、この圧力室３５
ｅが、第３図に示すように、枠体３５に形成された貫通
孔３５ｆを介して外部の圧力調整機構３５ｇに接続され
ている。

ここで、圧力調整機構３５ｇは、正圧を発生する加圧ポ
ンプ等の加圧源３５ｈと、負圧を発生する真空ポンプ等
の減圧源３５ｉと、加圧源３５ｈ及び減圧源３５ｉを選
択する方向切換弁３５ｊと、この方向切換弁３５ｊの出
力側に接続された圧力制御弁３５にとを備え、圧力制御
弁３５にの出力側が圧力室３５ｅに接続されている。

吸着チャック３６は、第２図及び第３図に示す如く、枠
体３５の取付部材３５ｔＪｕ上にＸ方向及びＹ方向に延
長して配設された高さの異なる案内レール３６ａｘ及び
３６ａｖと、これらに係合するスライダ３６ｂｘ＋〜３
６ｂＸ４及び３６ｂｙ＋〜３６ｂｖａと、相対向するス
ライダ間に橋架された連結杆３５　ＣＸＩ＋　　３６　
ＣＸ□及び３６　Ｃｖ＋、　　３６　Ｃｖｚと、各連結
杆の交差位置にこれらを貫通して配設されたチャック本
体３６ｄ１〜３６ｄ４と、各チャ、り本体３６ｄ、〜３
６ｄ４間の中央位置において連結杆３６　ＣｘＩ、　　
３６　Ｃｘｚ及び３６ＣＹ＋、３６ｃｙｚに固着された
チャック本体３６ｄ５〜３６ｄ、とを備えている。ここ
で、チャンク本体３６ｄ、〜３６ｄａと連結杆３６　ｃ
ｘｌ、　　３６　ｃＸｚ及び３６　ｃｙｌ、　　３６　
ｃｖ２とは、チャック本体３６ｄ１〜３６ｄ８が、ＸＹ
力方向みならずＺ方向にも移動できるように充分な遊隙
又は可撓性を有して製作されている。すなわち、後述す
るように、チャック本体３６ｃｔ、　〜３６ｄａが、吸
着部３６ｅｕ及び３６　ｅＬによってマスク２５と可撓
性板部３５ｃとを吸着する状態において、圧力室３５ｅ
の圧力設定によって可撓性板部３５ｃに設定された変形
量を、マスク２５に伝えるためのチャック本体３６ｄｌ
〜３６ｄ８の変位を妨げないため、チャック本体３６ｄ
ｌ　〜３６ｄ、と連結杆３６ＣＸｌ。

３６　Ｃｘｚ、　　３６　Ｃｖ＋、　　３６　Ｃｖｚと
の案内隙間は前記チャック本体３６ｄ１〜３６ｄ８の変
位を妨げない範囲の遊隙を有するか、変位を可能にする
可撓性を有するように製作されている。

各チャック本体３６ｄ１〜３６ｄ８は、第７図に拡大図
示したように、内方側の上面及び下面に方形の吸着凹部
３６　ｅｕ及び３６ｅ＋、がそれぞれ形成され、これら
吸着凹部３６　ｅｕ及び３６　ｅＬが貫通孔３６ｆによ
って連通されていると共に、この貫通孔３６ｆの中間部
が外方側から穿設された気体通路３６ｇを介して外部の
気体吸引源３６ｈに接続されている。気体吸引源３６ｈ
は、一方の入力側が真空ポンプ３６ｉに接続され、他方
の入力側が大気に開放された方向切換弁３６ｊを有し、
この方向切換弁３６ｊの出力側が各チャック本体３６ｄ
、〜３６ｄ、の気体通路３６ｇに接続された構成を有す
る。また、チャック本体３６ｄ、、３６ｄＺ及び３６ｄ
、の上面の吸着凹部３６ｅ０の外方には、マスク２５の
位置決めを行うストッパピン３６ｋが固着されている。

さらに、第２図において、移動テーブル２の左側縁にお
ける前方位置にマイクロメータ４１が固着され、そのス
ピンドル４１ａがワークステージ３の左側縁に形成した
係合片４２に係合され、このマイクロメータ４１を操作
してスピンドル４１ａを伸縮させることによりＸ方向引
張機構３０Ｘ及びＹ方向引張機構３０Ｙの引張スプリン
グ３１ｄに抗してワークステージ３０角度を微調整する
ことができる。このワークステージ３の角度微調整範囲
は、ワークステージ３の下面に垂設された軸４３が移動
テーブル２に形成された軸４３より大径の係合孔４４の
内周面に当接することにより規制されている。

次に、上記実施例の動作を説明する。今、パターン検査
装置で、第１図に示すように、表面にＸ方向に所定間隔
を保って平行な線り、−Ｌ、を描いたマスク２５の線間
隔を測定する場合として説明する。

この場合には、まず、気体吸引源３６ｈの方向切換弁３
６ｊを出力ボートが大気に連通ずる切換位置に切換えて
、チャック本体３６ｄｌ〜３６ｄａが自由に移動可能な
状態とする。

この状態で測定対象となるマスク２５の大きさに合わせ
てスライダ３６ｂｘ＋〜３６ｂＸ４及び３６ｂ’／Ｉ〜
３６ｂＹ４を手動で移動させてチャック本体３６　ｄ＋
　〜３６　ｄａの吸着凹部３６　ｅｕがマスク２５で完
全に覆われるように位置合せを行う。

この位置合せが完了したら、各チャック本体３６ｄ＋〜
３６ｄ、上にマスク２５をその後端縁及び右端縁がそれ
ぞれストッパビン３６ｋに当接するように載置する。

次いで、気体吸引源３６ｈの方向切換弁３６ｊを切換え
て、真空ポンプ３６ｉと各チャック本体３６ｄ＋　〜３
６ｄｓの上下の吸着凹部３６　ｅｕ及び３６　ｅＬとを
連通させる。これに応じて各チャック本体３６ｄ、〜３
６ｄ、が枠体３５の可撓性板部３５ｃの上面に真空吸着
されると同時にマスク２５がチャック本体３６ｄ、〜３
６ｄ、に真空吸着されてワークステージ３上に位置決め
保持される。

この状態で、ハンドル１４を回転させることにより、移
動テーブル２をＹ方向に移動させて綿Ｌ〜Ｌ、が工具顕
微鏡６の視野範囲内に入るように調整し、またマスク２
５がＸ方向に対して微小角度ずれている場合には、マイ
クロメータ４１を操作してスピンドル４１ａを伸縮させ
ることにより、角度ずれを補正する。

さらに、マスク２５の吸着保持状態で、第８図に実線図
示の如く、自重によってマスク中央部が下方に撓んでい
る場合には、工具顕微鏡６の焦点ずれが生じる。この焦
点ずれを補正するには、圧力調整機構３５ｇの方向切換
弁３５ｊを加圧源３５ｈ側に切換えると共に、圧力制御
弁３５にで所定の圧力を選定する。これにより、枠体３
５に形成した圧力室３５ｅの内圧が上昇し、このため圧
力室３５ｅを形成してし）、る可撓性板部３５ｃ及び３
５ｄが第８図で鎖線図示のように外方に撓んでその中央
部が膨出する。この可撓性板部３５ｃの撓みに応じてチ
ャック本体３６ｄ、〜３６ｄａも外側に傾斜しながら変
位して相対向するチャック本体の上端側が開いて両者間
の距離が長くなると共に、吸着保持したマスク２５に対
して上方側に撓ませる曲げモーメントを発生ずる。この
曲げモーメントは、圧力室３５ｅに加える圧力に比例す
るので、圧力制御弁３５にの圧力を調整することにより
、マスク２５の自重による撓みを補正して、マスク２５
を平坦面とすることができる。

このようにマスク２５を平坦面に保持した状態で、枠体
３５の可撓性板部３５ｄの下側からの透過光によってマ
スク２５を透過照明すると共に、例えば手元スイッチ（
図示せず）を操作してステッピングモータ１７を回転駆
動させて移動テーブル２をＸ方向に移動させることによ
り、マスク２５の原点即ち例えば第１図に示すように一
番右端の線Ｌ１に工具顕微鏡６のクロスラインを一致さ
せ、このときのレーザ測長機２７の測定値を原点として
記憶する。

次いで、上記と同様に、ステッピングモータ１７を作動
させて移動テーブル２をＸ方向に移動させることにより
、工具顕微鏡６のクロスラインを線Ｌ２に一致させ、こ
のときのレーザ測長機２７の測定値を読込み、この測定
値と前回の原点位置における測定値との差値を算出する
ことにより、線Ｌｌ及び５２間の距離を正確に測定する
ことができる。

また、マスク２５に下反りが発生している場合にも、上
記と同様に圧力室３５ｅの圧力を高くすることによって
、この反りを補正することができる。

一方、マスク２５に上反りが発生している場合には、圧
力調整機構３５ｇの方向切換弁３５ｊを減圧源３５ｉ側
に切換えると共に、圧力制御弁３５ｋを所望の圧力に設
定することにより、圧力室３５ｅの内圧を減少させる。

これによって、圧力室３５ｅを構成する可撓性板部３５
ｃ及び３５ｄが内方に撓み、これに応じてチャック本体
３６ｄ１〜３６ｄｌｌも内側に傾斜しながら変位して、
マスク２５に対して下方に撓ませる曲げモーメントを発
生させてマスク２５の上反りを正確に補正して平坦面と
することができる。

ところで、今、第９図で実録図示のように、ワークステ
ージ３に外力が作用しておらず、平坦な状態にあるもの
とすると、この状態では反射ミラー２８Ｘ、２８Ｙとレ
ーザ測長機２７からのレーザ光とが直角となって正確な
距離測定を行うことができるが、移動テーブル２及びワ
ークステージ３は、完全な側体として製作することは不
可能であるので、移動テーブル２をＸ方向に移動させる
際に、案内レールｌＯｆ、ｉｏｒに沿ってスライダｌｌ
ｆ、ｌｌｒが移動することにより、移動テーブル２にピ
ッチングやヨーイングを生じ、これがボール２０を介し
てマスク２５を載置するワークステージ３に伝達される
。このため、ワークステージ３が微小撓み等の変形を生
しることになる。

このとき、ワークステージ３が第９図で鎖線図示の如く
下に凸に湾曲する変形が生じると、ワークステージ３が
ボール２０によって支持されているので、第９図で鎖線
図示のように、ボール２０が転勤しながら及び／又は滑
りながら外方に移動することになり、このボール２０が
移動する分だけ変形に伴う水平方向分力を吸収し、ボー
ル２０でワークステージ３を受ける垂直抗力が少な（な
ってワークステージ３の変形量が２点鎖線図示のように
少なくなり、これによって右端に取付けられた反射ミラ
ー２８Ｘ、２８ＹのＸ方向（又はＹ方向）及びＺ方向ｆ
ｆ１７ち垂直方向の変位量を僅かなものとすることがで
き、反射ミラー２８Ｘ、２８Ｙのレーザ光に対する傾斜
角を小さくすることができ、正確な測長を行うことがで
きると共に、工具顕微鏡６とワークステージ３に載置さ
れたマスク２５との距離変化も少なくなり、測定誤差を
極力抑制することができる。

同様にして、ワークステージ３が上に凸に湾曲する場合
には、ボール２０が内方に転動しながら及び／又は滑り
ながら移動することにより、上記と同様にワークステー
ジ３の変形量を少なくして高精度の測定を行うことがで
きる。

なお、上記実施例においては、枠体３５内に１つの圧力
室３５ｅが形成されている場合について説明したが、こ
れに限定されるものではなく、圧力室３５ｅを複数の圧
力室に分割し、各圧力室に対して個別に圧力調整機構を
設けて、圧力の調整を個別に行うことにより、マスク２
５の複雑な反り等の変形を補正することができ、また圧
力室３５ｅを構成する可撓性板部３５ｃの厚みを部分的
に異ならせるようにすることにより、可撓性板部３５ｃ
の変形量を任意に設定することができる。

また、上記実施例においては、マスク２５を透過照明に
よって照明する場合について説明したが、これに限らず
マスク２５の上方から落射照明するようにしてもよく、
この場合には可撓性板部３５Ｃ及び３５ｄを透光性を有
さない可撓性金属板等の使用するようにしてもよく、さ
らには可撓性板部３５ｄについては必ずしも可撓性を有
する必要はない。

さらに、上記実施例においては、圧力室３５ｅに空気等
の気体を出入させる場合について説明したが、これに限
らず水、油等の流体を使用するようにしてもよいことは
言うまでもない。

またさらに、移動テーブル２をステッピングモータ１７
によって回転駆動されるボールねじを使用して移動させ
る場合について説明したが、これに限定されるものでは
なく、他の送り機構を通用するようにしてもよく、また
Ｙ方向移動体９ｆ及び９ｒを移動させる移動機構として
は、ハンドル１４による手動操作に限らず、ステッピン
グモータ等を使用して移動させるようにしてもよい。

また、上記実施例においては、移動テーブル２をＸ及び
Ｙ方向に移動させる場合について説明したが、これに限
定されるものではなく、Ｘ方向又はＹ方向の何れか一方
にのみ移動させるようにしてもよい。

さらに、上記実施例においては、転動体としてボール２
０を適用した場合について説明したが、移動テーブル２
が一方向のみに移動する場合には、コロを適用するよう
にしてもよい。

またさらに、上記実施例においては、移動テーブル２側
にボール２０を受けるボール座２１ａ〜２１ｊを形成し
た場合について説明したが、これらをワークステージ３
側に設けてもよく、移動テーブル２及びワークステージ
３の双方に設けるようにしてもよい。

なおさらに、上記実施例においては、この発明をパター
ン検査装置に適用した場合について説明したが、これに
限定されるものではなく、露光装置その他のマスク、ウ
ェハ等の基板を保持する被載置物保持装置にも適用し得
ることは言うまでもない。

〔発明の効果］ 以上説明したように、この発明によれば、枠体に形成し
た圧力室を構成する可撓性板部上に吸着チャックを配設
し、この吸着チ中ツタで被載置物を吸着保持した状態で
、圧力室の圧力を調整して基板の反り等の撓みを補正す
るようにしているので、簡易な構成で容易に基板の撓み
を正確に補正することができ、基板を平坦面として保持
することができ、パターン検査装置等の光学系を使用し
た装置に適用した場合、基板の移動に応じて一々焦点合
せの必要がなく、且つ解像度が高く倍率変化などの読取
り精度誤差もなくスループットを大きくすることができ
る等の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明をパターン検査装置に適用した場合の
一実施例を示す斜視図、第２図は移動テーブル装置の平
面図、第３図は第２図の正面図、第４図は第２図のＡ−
Ａ線拡大断面図、第５図は第２図のＢ−Ｂ線拡大断面図
、第６図は第２図のＣ−Ｃ線拡大断面図、第７図は吸着
チャックを示す拡大断面図、第８図及び第９図はそれぞ
れこの発明の詳細な説明に供する模式図である。 図中、１は基台、２は移動テーブル、３はワークステー
ジ、４は移動テーブル装置、６は工具顕微鏡、７ａ〜７
ｃは案内レール、８ａ〜８ｃはスライダ、９ｆ、９ｒは
Ｙ方向移動体、１０ｆ、１０ｒは案内レール、ｌｌｆ、
ｌｌｒはスライダ、１２はＸ方向移動テーブル、１３．
１６はボールナンド、１５．１８は螺軸、１７はステン
ピングモータ、２５はマスク、２６はマスク保持部、３
５は枠体、３５ｃ、３５ｄは可撓性板部、３５ｅは圧力
室、３５ｇは圧力調整機構、３５ｈは加圧源、３５ｉは
減圧源、３５ｊは方向切換弁、３５には圧力制御弁、３
６は吸着チャック、３６ｂＸ。 〜３６　ｂｘａ、　　３６　ｂｖ＋〜３６　ｂｖａはス
ライダ、３６ｄ１〜３６ｄ８はチ＋７り本体、３６ｅｕ
、３６ｅＬは吸着凹部、３６ｈは気体吸引源、３６ｉは
真空ポンプ、３６ｊは方向切換弁である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）マスク等の基板を保持する基板保持方法において
   、枠体内に少なくとも上面を可撓性板部で構成した流体
   室を形成し、該可撓性板部上に前記基板を吸着保持する
   吸着チャックを配設し、該吸着チャックで前記基板を吸
   着保持している状態で、前記流体室内の圧力を調整する
   ことにより、前記基板の撓みを補正するようにしたこと
   を特徴とする基板保持方法。
2. （２）マスク等の基板を保持する基板保持装置において
   、枠体内に形成した少なくとも上面を可撓性板部で構成
   した流体室と、該可撓性板部上に配設した前記基板を吸
   着保持する吸着チャックと、前記流体室の圧力を調整す
   る圧力調整手段とを備えたことを特徴とする基板保持装
   置。