JPH0252429B2 - - Google Patents

Description

請求の範囲 １ 超放射レーザー媒質の使用により物体を処理
し記録し且つ観察する方法であつて、この方法に
よれば超放射レーザー媒質から放射される光ビー
ムが光学的焦点調整装置により物体に向けられ、
その後、物体から反射され、物体により散乱され
たビームが前記超放射レーザー媒質に戻されて、
超放射レーザー媒質を通過する間に増幅されると
共に、物体の像が視覚観察スクリーン等の記録媒
体上に形成される方法において、超放射レーザー
媒質１から放射されて記録媒体７に向かう光ビー
ムが少なくとも２つの部分に分割され、その１つ
の部分は前記超放射レーザー媒質１内で反転分布
が終了する前に超放射レーザー媒質１を介して物
体３へ戻されることを特徴とする方法。

２ 光ビームが放射線の強さに基いて分割される
ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の方
法。

３ 光ビームが波長に基いて分割されることを特
徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。

４ 光ビームが放射線の強さと、波長の双方に基
いて分割されることを特徴とする請求の範囲第１
項に記載の方法。

５ 超放射レーザー媒質１を介して物体３へ戻さ
れる光ビームの強さを連続的に制御できることを
特徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。

６ 超放射レーザー媒質１を介して物体３へ戻さ
れる光ビームの強さが処理を受けない物体３の部
分の損傷限界値を下回るレベルに維持されること
を特徴とする請求の範囲第５項に記載の方法。

７ 超放射レーザー媒質１を介して物体３へ戻さ
れる光ビームが寸法に関して限定されることを特
徴とする請求の範囲第１項または第５項に記載の
方法。

８ 物体３の処理が、光学的焦点調整装置２の視
野全体にわたつて限定された大きさの光ビームに
より物体３を走査することによつて実施されるこ
とを特徴とする請求の範囲第７項に記載の方法。

９ 分割された光ビームの任意の部分自体が少な
くとも２つの部分に分割され、そのうち任意の部
分がさらに少なくとも２つの部分に分割され、ｎ
個の光ビーム部分が形成されるまでこの一連の動
作が継続されることを特徴とする請求の範囲第１
項に記載の方法。

１０ 超放射レーザー媒質の使用により物体を処
理し記録し且つ観察するための装置であつて、超
放射レーザー媒質１と、超放射レーザー媒質１と
物体３との間に挿入され且つ超放射レーザー媒質
から放射される光ビームを物体に向けるための光
学的焦点調整装置２と、前記超放射レーザー媒質
に関して物体の反対側に配置された記録媒体７と
を具備し、これらの構成要素３，２，１，７が観
察チヤンネルを構成する装置において、超放射レ
ーザー媒質１と記録媒体７との間に少なくとも１
つの分光器４が挿入され、この分光器は超放射レ
ーザー媒質１から放射される光ビームを少なくと
も２つの部分に分割するためのものであること、
およびこれらの光ビーム部分の１つの光路を横切
るように反射鏡５が配置され、この反射鏡５が光
ビームを超放射レーザー媒質１および光学的焦点
調整装置２を介して、第２反射鏡として働く物体
３へ導くので、双方の反射鏡が光学的空洞を形成
することを特徴とする装置。

１１ 超放射レーザー媒質１と記録媒体７との間
に、超放射レーザー媒質１から放射される光ビー
ムを少なくとも２つの部分に分割する分光器４が
挿入されるため、これらの部分の１つが超放射レ
ーザー媒質１を介して物体３へ導かれることを特
徴とする請求の範囲第１０項に記載の装置。

１２ 少なくとも２つの波長λ₁およびλ₂で放射す
る超放射レーザー媒質１と光学的焦点調整装置２
との間に、超放射レーザー媒質１の放射線を部分
的に透過する付加的反射鏡８が配置され、付加的
反射鏡８が波長λ₁とλ₂の放射線を分離するように
設計されていることを特徴とする請求の範囲第１
０項に記載の装置。

１３ 付加的反射鏡８が波長λ₁の放射線に対して
は特定の透過率を有するが、波長λ₂の放射線に対
してはこれをすべて透過し、波長λ₁の放射線は物
体３、光学的焦点調整装置２、超放射レーザー媒
質１、分光器４及び反射鏡５とで構成された処理
チヤンネル中を伝播するが、波長λ₂の放射線は前
記観察チヤンネル中を伝播することを特徴とする
請求の範囲第１１項に記載の装置。

１４ 反射鏡５が物体３が位置している平面と光
学的に共役である平面に配置されていることを特
徴とする請求の範囲第１０項に記載の装置。

１５ 反射鏡５の寸法が物体３の平面と共役な平
面において光学的焦点調整装置２により形成され
る非合焦点の寸法より大きくないことを特徴とす
る請求の範囲第１０項に記載の装置。

１６ 前記処理チヤンネルが物体３に当たる光放
射の強さを連続的に制御する手段１０を含むこと
を特徴とする請求の範囲第１０項に記載の装置。

１７ 物体３の損傷限界値を決定する手段１１を
含むことを特徴とする請求の範囲第１０項に記載
の装置。

１８ 物体３の損傷限界値を決定する手段１１が
放射線の強さを連続的に制御する手段１０に接続
されることを特徴とする請求の範囲第１６項また
は第１７項に記載の装置。

１９ 反射鏡５は、物体３の表面の各々の領域と
光学的に共役である視野内の場所に配置された複
数の別々のセルから構成され、セルの寸法はセル
が位置している平面における光学的焦点調整装置
２の非合焦点の寸法より大きくないことを特徴と
する請求の範囲第１０項に記載の装置。

２０ 反射鏡５がこれを３本の座標軸のうちの少
なくとも１本に沿つて運動させる手段１３に結合
されることを特徴とする請求の範囲第１０項に記
載の装置。

２１ 付加的光学素子１４が反射鏡５の前方に配
置されることを特徴とする請求の範囲第１０項に
記載の装置。

２２ 反射鏡５は、曲率中心が光学的焦点調整装
置２の開口の中心と一致する球面鏡５′であるこ
とを特徴とする請求の範囲第１０項または第１４
項に記載の装置。

２３ 反射鏡５がその反射表面の大きさを限定す
る手段１５を備えていることを特徴とする請求の
範囲第２２項に記載の装置。

２４ 反射鏡５の反射表面の大きさを限定する手
段１５は、それが位置している平面において可動
であり且つ少なくとも１個の孔を備えていること
を特徴とする請求の範囲第２３項に記載の装置。

２５ 反射鏡５の反射表面の大きさを限定する手
段１５が孔の面積を変えることができるように設
計されていることを特徴とする請求の範囲第２３
項に記載の装置。

２６ 反射鏡５の反射表面の大きさを限定する手
段１５が孔の形状を変えることができるように設
計されていることを特徴とする請求の範囲第２３
項に記載の装置。

２７ 孔の面積または形状を変化させる手段１７
に接続された放射線強度測定計器１６を含むこと
を特徴とする請求の範囲第２５項に記載の装置。

２８ 超放射レーザー媒質１と記録媒体７との間
に付加的分光器１９が挿入されること、および付
加的分光器１９により形成される付加的光ビーム
の光路を横切つて光フイルタ１８と、光学的シヤ
ツタ２１と、明るい円形の光点等の少なくとも１
つの基準マークを物体３上および観察スクリーン
上に形成する反射鏡２０とが配置されることを特
徴とする請求の範囲第１０項または第１５項に記
載の装置。

２９ 基準マークを形成する反射鏡２０が読取り
手段２２と、この反射鏡２０を物体３の平面と共
役な平面において少なくとも１本の座標軸に沿つ
て運動させる手段２３とを備えていることを特徴
とする請求の範囲第２３項に記載の装置。

３０ 読取り手段と、絞りを少なくとも１本の座
標軸に沿つて運動させる手段とを備えた絞りが反
射鏡２０の前方に配置させることを特徴とする請
求の範囲第２８項に記載の装置。

３１ 放射線が分光器４により分割されてできる
光学チヤンネルの１つが付加的分光器１９を含む
こと、および放射線が付加的分光器１９により分
割されてできる光学チヤンネルの１つがさらにも
う１つの分光器２５を含み、このようにして形成
された光学チヤンネルには記録媒体７と、反射鏡
５と、基準マークを形成する反射鏡２０と、視野
全体にわたつて物体３を照明する反射鏡２６とが
連続的に配置されていることを特徴とする請求の
範囲第１０項に記載の装置。

３２ 分光器４が光学プリズムであることを特徴
とする請求の範囲第１０項、第２８項、第３１項
のいずれか１項に記載の装置。

３３ 付加的光学素子２８が記録媒体７の前方に
配置されていることを特徴とする請求の範囲第１
０項、第２８項、第３１項のいずれか１項に記載
の装置。

３４ 超放射レーザー媒質１が断熱素子３０を有
する放電チヤンネル２９であり、このチヤンネル
２９は真空シエル３２の内部に留付け具３１によ
り固定され、断熱素子３０は熱伝導率の低い高溶
融粉末の粉を含み且つ真空シエル３２の壁面と、
放電チヤンネル２９および留付け具３１との間に
配置され、放電チヤンネル２９は留付け具３１内
に運動自在に取付けられているので、放電チヤン
ネルと留付け具との間には間隙があり、この間隙
の幅は粉末の通常の粒の寸法より小さいことを特
徴とする請求の範囲第１０項から第３３項までの
いずれか１項に記載の装置。

３５ 留付け具３１が励起エネルギーを超放射レ
ーザー媒質１に伝導するための電極としても働く
ことを特徴とする請求の範囲第３４項に記載の装
置。

発明の分野 本発明はレーザー工学に関し、より詳細には超
放射レーザー媒質を使用して物体を処理し記録し
且つ観察する方法および装置に関する。

発明の背景 本明細書の中で、「処理」という用語は様々な
物体に対するレーザー放射線の作用であつて、熱
化学的および光化学的処理、機械加工等を含むも
のとして理解する。この意味において、レーザー
処理は科学および工業技術の殆どすべての分野で
広範に応用されている。処理の精度と選択性に厳
しい条件が課されるという点で顕微鏡的物体のレ
ーザー処理は極めて困難である。

物体をレーザーで処理し記録し且つ観察する方
法と装置には種々のものがある。

レーザー媒質を使用して物体を処理する公知の
方法および装置では、処理中に物体を観察するた
めの特殊な光源を使用している。特殊な光源を使
用するということは入力電力が増大することを意
味し、レーザー処理装置がより複雑になり、且つ
コストもより高くなる。

レーザー媒質を使用して物体を処理する公知の
方法および装置は、物体の処理と観察に全く同一
のレーザーを使用できないという点でさらに不利
である。換言すれば、物体を観察するために１つ
のレーザーを使用してしまうと、処理には別のレ
ーザーを用意しなければならない。これはまた、
レーザー処理装置の電力消費が増大し、価格が高
くなることにもつながる。

レーザー媒質と、２つの高反射率鏡から成る空
洞と、レーザー媒質と空洞鏡の一方との間に挿入
された光学的焦点調整装置とを具備する物体観察
装置が公知となつている（米国特許第3293565号、
分類番号331／94.5、付与日：1966年12月20日を
参照）。

この装置では、空洞内に配置される様々のマス
クおよび物体の像を観察することができる。

超放射レーザー媒質を使用して物体を観察また
は処理する方法と装置がさらに公知となつている
（米国特許第3786366号、分類番号331／94.5、付
与日：1974年１月15日を参照）。この装置は超放
射レーザー媒質と、物体と超放射レーザー媒質と
の間に配置され且つ超放射レーザー媒質の光放射
を物体へ向けるための光学的焦点調整装置とを具
備する。装置はまた、物体の背後に、超放射レー
ザー媒質に対向して配置された記録媒体も含む。
記録媒体は観察すべき物体の拡大像を示す。物体
が鏡の前方に配置されたマスクである場合は記録
媒体はマスクの縮小像を示す。すなわち、このマ
スクは処理を受けている。物体の照明はきわめて
不十分である。超放射レーザー媒質を透過する放
射線のみにより像が形成されるからであるが、こ
れに対して、記録媒体上に形成される像は非常に
明るい。唯一回の通過で超放射レーザー媒質によ
り発生される放射線の強さを増加しなければ、記
録媒体上の像を必要な輝度にすることができな
い。これはすなわち、所望の輝度の像を確保する
には電力消費を増大するしかないということを意
味する。

真空密シエル内に配置された真空密チヤンネル
である超放射レーザー媒質が公知となつている
（米国特許第3576500号、分類番号331／94.5、付
与日：1971年４月27日を参照）。この媒質は、広
範囲にわたつて変化する温度で動作するように設
計された様々な材料が真空密に接続されているた
めにきわめて高価である。

物体の処理と観察に同じ超放射レーザー媒質を
使用することができるが、いくつかの重大な問題
がある。このような媒質を組込んだ装置では、視
野の大部分の照度が低いという状態の下で入力電
力を付加せずに物体のいくつかの点を高照度で確
実に照明しなければならない。また、このような
レーザー媒質は安価で且つ確実であると共に、有
効寿命が長くなければならない。

発明の開示 本発明は、超放射レーザー媒質を使用して物体
を処理し記録し且つ観察する方法および装置であ
つて、入力電力を付加することなく超放射レーザ
ー媒質内の反転分布をより十分に利用することに
より物体の処理と観察の双方が行なえ、且つ超放
射レーザー媒質の高い信頼性と長い有効寿命を保
証するような方法および装置を提供することを目
的とする。

この目的は、超放射レーザー媒質から放射され
た光ビームが光学的焦点調整装置により物体へ向
けられ、物体から反射され且つ物体により散乱さ
れたビームが超放射レーザー媒質へ戻されて、超
放射レーザー媒質中を通過する間に増幅され、そ
の後、物体の像が視覚観察スクリーン等の記録媒
体上に形成されるような、超放射レーザー媒質を
使用して物体を処理し、記録し且つ観察する方法
であつて、超放射レーザー媒質から記録媒体へ導
かれる光ビームが少なくとも２つの部分に分割さ
れ、その１つの部分が超放射レーザー媒質内で反
転分布が中断する前に超放射レーザー媒質を介し
て物体へ戻されることを特徴とする方法を提供す
ることにより達成される。

光ビームの一部を超放射レーザー媒質を介して
物体へ戻すと、記録媒体上に物体の明るい拡大像
が得られるようになる。また、物体に当たる放射
線が局部的に増加することにより、物体を処理す
る、すなわち物体に熱物理学的、化学的およびそ
の他の種類の処理を行なうことができる。このよ
うな放射線の局部的な増加は超放射レーザー媒質
内で放射線の一部が付加的に増幅されることによ
るものである。

超放射レーザー媒質から放射された光ビームを
放射線の強さまたは波長に基いて分割することが
できる。この二種類の分光を同時に行なうことも
できる。

物体の反射特性、記録媒体の選択性と感度、お
よび物体の光化学的または熱物理学的特性は、本
発明の方法を実施する際の装置の効率を最大限に
することを目的として光ビームの分割法を決定す
る上での要因となる。

超放射レーザー媒質を介して物体へ戻される光
ビームの強さが連続的に可変であり且つ処理を受
けない物体の部分の損傷限界値を下回るレベルに
設定されていると好都合である。

超放射レーザー媒質を介して戻される光ビーム
の強さを連続的に制御すると、融解または蒸着等
の様様な種類の処理ができる。強さのレベルを処
理を受けない物体の部分の損傷限界値未満に設定
することにより、物体を高度に局部的に且つ選択
的に処理できる。

超放射レーザー媒質を介して物体へ戻される光
ビームの大きさを、物体が光学的焦点調整装置の
視野の内部で物体を走査する限定された大きさの
光点により処理されるように限定することができ
る。

光ビームの大きさを限定すると物体の処理に用
いられる光点がより明るくなる。これは入力電力
を増加することなしに行なわれる。

これにより、光学的焦点調整装置の視野全体に
わたつて明るい光点で走査することによつて静止
した物体を処理することができる。

分割された光ビームの任意の部分が再び少なく
とも２つの部分に分割され、そのうちの任意の部
分がさらに２つの部分に分割され、ｎ個の部分が
形成されるまで分光が行なわれるとさらに好都合
である。

光ビームの多重分割により、本発明による方法
のもつ機能的な可能性は、物体を処理し且つその
像を観察することの他に、精密測定を実施し、物
体を付加的に照明し、並びに別個の単色像および
物体に作用する単色チヤンネル系を形成するため
に使用できるようになるという意味でさらに広が
る。従つて、本発明による方法は融通性があり、
科学および工業技術のきわめて多岐にわたる分野
に応用できる。

本発明はまた、超放射レーザー媒質を使用して
物体を処理し記録し且つ観察する装置であつて、
超放射レーザー媒質と、超放射レーザー媒質と物
体との間に挿入され且つ超放射レーザー媒質から
放射された光を物体へ向けるための光学的焦点調
整装置と、物体の背後の、超放射レーザー媒質と
は反対の側に配置された記録媒体とを具備し、こ
れらの構成要素が装置の観察チヤンネルを構成
し、本発明によれば前記装置が超放射レーザー媒
質と記録媒体との間に配置され且つ超放射レーザ
ー媒質から放射される光ビームを少なくとも２つ
の部分に分割する少なくとも１つの分光器と、光
ビーム部分の１つの光路を横切つて配置され且つ
光ビームを超放射レーザー媒質および光学的焦点
調整装置を介して、第２反射鏡として働く物体へ
向け、２つの反射鏡が光学的空洞を形成するよう
な働きをする反射鏡とを含むことを特徴とする装
置を提供することにある。

分光器により分割された光ビームの一部の光路
を横切つて反射鏡を設け、この反射鏡と物体が光
学的空洞を形成することにより、物体が処理され
る。一方、第２光学チヤンネルは付加的な電力入
力なしに観察のために使用される。

場合によつては、超放射レーザー媒質と記録媒
体との間に分光器を配置することが望ましく、こ
の分光器は超放射レーザー媒質から発出する光ビ
ームを少なくとも２つの部分に分割し、そのうち
１つの部分が超放射レーザー媒質を介して物体に
向けられる。

超放射レーザー媒質から放射される光ビームを
部分的に透過する付加的反射鏡８を少なくとも２
つの波長λ₁およびλ₂で放射する超放射レーザー媒
質と光学的焦点調整装置との間に配置すると良
い。この場合、分光器は波長λ₁とλ₂を分離するよ
うに設計される。

場合によつては、付加的反射鏡が波長λ₁の放射
線に対しては特定の透過率を有するが、波長λ₂の
放射線に対しては透過できるようにすると好都合
である。この場合、波長λ₁の放射線は処理チヤン
ネル内を伝搬し、波長λ₂の放射線は観察チヤンネ
ル内を伝搬する。

波長λ₁の放射線に対しては特定の透過率を有す
る付加的反射鏡を導入し、且つ波長λ₁の光ビーム
は透過するが波長λ₂の光ビームは反射する分光器
を設けることにより、異なる波長で物体を観察し
且つ反射率の低い物体を含む様々な物体を有効に
処理し、しかもすぐれた画質を保つことができ
る。

反射鏡を物体の平面と光学的に共役である平面
に配置し、且つ反射鏡の大きさが物体の平面と共
役な平面において光学系により形成される光点の
大きさを越えないと好都合である。

処理チヤンネルが物体に向けられる光ビームの
強さを連続的に制御する手段を含んでいることが
望ましい。

本発明による装置が物体の損傷限界値を決定す
る手段を含んでいること、およびこの手段が光ビ
ームの強さを連続的に制御する手段に接続されて
いることがさらに望ましい。

場合によつては、反射鏡が視野内部の、物体の
表面の夫々の部分と光学的に共役である場所に配
置された複数の別々のセルから構成されていると
好都合である。セルの横断面寸法はセルが配置さ
れている平面において光学系により形成される光
点の大きさを越えないものとする。また、反射鏡
が反射鏡を３本の座標軸のうちの少なくとも１本
に沿つて動かす手段に結合されていると好都合で
ある。

このようにすることにより、３次元の物体を含
む物体を１つ以上の光点により処理できるように
なる。各光点は任意の光学系により形成しうる最
小の寸法のものである。その結果、物体を高度に
局部的に且つ高度に選択的に処理できる。

場合によつては、反射鏡の前方に付加的光学素
子を配置することが望ましい。この場合、反射鏡
は曲率中心が光学的焦点調整装置の開口の中心と
一致する球面鏡として構成される。

付加的光学素子を導入することにより装置の万
能性がより一層高められる。

反射鏡がその反射表面を限定する手段を備え且
つ反射鏡が配置されている平面において可動であ
ることが望ましい。また、反射鏡が面積または形
状を変えることのできる少なくとも１つの孔を有
することが望ましい。

本発明の装置が反射鏡に設けられた孔の面積ま
たは形状を変化させる手段に接続された放射線強
度・濃度測定計器を備えていると好都合である。

このような構成にすることにより、視野全体に
わたつて、特定のレベルに維持された強さの放射
線により、任意に選択した面積と形状を有する光
点の内部で物体をきわめて有効に連続的に処理で
きる。

場合によつては、超放射レーザー媒質と記録媒
体との間に付加的分光器を配置することが好まし
い。分光器により形成される付加的光ビームの光
路を横切つて光フイルタ、光学的シヤツタおよび
反射鏡を配置することがさらに望ましい。反射鏡
は、物体上および観察スクリーン上の明るい円形
の光点である少なくとも１つの基準マークを形成
するように設計される。反射鏡が読取り手段と、
物体の平面と共役な平面において座標軸の１本に
沿つて反射鏡を運動させる手段とを備えていると
好都合である。

基準マークを形成する反射鏡の前方に絞りを配
置すること、および絞りが読取り手段と、絞りを
座標軸のうちの少なくとも１本に沿つて運動させ
る手段とを備えていることが望ましい。

付加的光学素子を導入すると、物体が処理およ
び観察されている間に物体またはその部分の精密
測定を行なうことができる。

光ビームが分光器により分割されてできる光学
チヤンネルの１つが付加的分光器を含むことが望
ましい。付加的分光器により形成される光チヤン
ネルの１つが１つ以上の分光器を含むものと考え
る。読取り手段と、反射鏡と、基準マークを形成
する反射鏡と、視野全体にわたつて物体を照明す
る反射鏡とが付加的分光器により形成される光学
チヤンネルを横切つて連続的に配置されると好都
合である。

光学チヤンネルの１つを連続的に分割して行く
ことにより装置の万能性がさらに高められる。

分光器はくさびとして形成しても良い。

これにより分光器の第２面からの反射が不可能
となるので処理精度が改善される。

本発明による装置のいくつかの好ましい実施例
においては、付加的光学素子は記録媒体の前方に
配置される。

それにより光学系の倍率と、記録媒体の照度と
を制御することができる。

超放射レーザー媒質は真空密シエルの内部に留
付け手段により固定された、断熱素子を有する放
電チヤンネルであると好都合である。断熱素子は
熱伝導率の低い高溶融粉末の粒を含み、真空密シ
エルと留付け手段を有する放電チヤンネルとの間
に配置される。放電チヤンネルはこれと留付け手
段との間に間隙を有するような状態で留付け手段
内に運動自在に取付けられる。間隙の幅は断熱粉
末の通常の粒の寸法より小さい。

放電チヤンネルを留付ける手段が超放射レーザ
ー媒質に励起電流を供給するための電極としても
働くことが好ましい。

このような構成とすることにより装置のコスト
が妥当なものになり、同時に装置の高い信頼性と
長い有効寿命とが確実に保証される。

【図面の簡単な説明】

本発明のその他の目的と利点は添付の図面に関
連する以下の好ましい実施例の詳細な説明を考慮
することによりより明らかになるであろう。第１
図は本発明による物体を処理し、記録し且つ観察
する方法を実施するための装置のブロツク図であ
る。第２図は本発明による反射の不十分な物体を
処理し、記録し且つ観察する装置のブロツク図で
ある。第３図は最少限の数の素子から成る物体を
処理し、記録し且つ観察する装置のブロツク図で
ある。第４図は物体を処理し、記録し且つ観察す
る装置の変形例のブロツク図である。第５図は視
野全体にわたつて処理する装置の略図である。第
６図は基準マークの使用により高精度の測定が行
なえる物体を処理し、記録し且つ観察する装置の
ブロツク図である。第７図はフアインダの使用に
より高精度の測定が行なえる物体を処理し、記録
し且つ観察する装置のブロツク図である。第８図
は物体の高精度測定および視野全体の照明が行な
える物体を処理し、記録し且つ観察する装置の変
形例のブロツク図である。第９図は本発明による
超放射レーザー媒質の略正面図である。

好適な実施例の説明 本発明の好ましい実施例を次に挙げる基本的な
項目に関して説明する。

１ 単一の超放射レーザー媒質を使用して実施さ
れる物体を同時に処理し、記録し且つ観察する
方法。

２ 入力を付加せず、単一の超放射レーザー媒質
を使用する物体を処理し、記録し且つ観察する
装置。

３ 物体を高度に局部的に且つ高度に選択的に処
理できる物体を処理し、記録し且つ観察する装
置。

４ 輝度がさらに増加された物体を処理し、記録
し且つ観察する装置。

５ 物体の精密な測定が行なえる物体を処理し、
記録し且つ観察する装置。

６ 超放射レーザー媒質が高い信頼性と、長い有
効寿命を有するように設計されている物体を処
理し記録し且つ観察する装置。

超放射レーザー媒質を使用して物体を処理し記
録し且つ観察する本発明の方法について、本発明
による、この方法を実施するための装置の好まし
い実施例に関して説明する。

本発明による物体を処理し記録し且つ観察する
装置は超放射レーザー媒質１（第１図）を具備
し、その片側に光学的焦点調整装置２および物体
３が配置されている。超放射レーザー媒質１の反
対側には分光器４と、光学的シヤツタ６を有する
反射鏡５が配置される。視覚観察スクリーン等の
記録媒体７が、物体３のある平面₂と共役する
平面₁に配置される。物体３の処理、記録およ
び観察は超放射レーザー媒質１により行なわれ
る。媒質１は一様な光学的特性を有し且つ開口が
大きいことが好ましい。たとえば、超放射レーザ
ー媒質１は銅、金、バリウムまたは鉛の蒸気中、
または窒素中等に置かれたガス放電プラズマであ
つても良い。

装置の動作について考える。

超放射レーザー媒質１は従来通りに、すなわち
サイラトロン発生器を使用して励起される。超放
射レーザー媒質１から放射されて物体３に向かう
光ビームは光学的焦点調整装置２を介して導かれ
て物体３に当ると共に、記録媒体７へ向かう。

光学的焦点調整装置は物体３から反射された光
ビームを超放射レーザー媒質１に戻し、媒質１に
おいてこの光ビームが増幅され、その後光ビーム
はこれを２つの部分に分割する分光器４を通過す
る。一方のビーム部分は主に物体３の明るい拡大
像を形成するために記録媒体７に伝送される。光
ビームの第２の部分は反射鏡５に向けられ、反射
鏡５は入射光の少なくとも一部を超放射レーザー
媒質１へ戻す。この光は光学的焦点調整装置を介
して物体３へ進む。

物体３、光学的焦点調整装置２、超放射レーザ
ー媒質１、分光器４および記録媒体７は全く同一
の光学軸上に配置されて、観察チヤンネルを構成
する。

従つて、物体３、光学的焦点調整装置２、超放
射レーザー媒質１、分光器４、および光学的シヤ
ツタ６を有する反射鏡５は全く同一の光学軸上に
配置されて、処理チヤンネルを構成する。

反射鏡５と物体３との間の距離が物体３に戻さ
れる光ビームの部分が反転分布が生じる前に超放
射レーザー媒質１に達するようなものであれば、
光ビームのこの部分は付加的に増幅されて、物体
３に向けられる放射線を実質的に強化する。この
反転分布がまだ中断されていない場合は、物体３
から反射されれ光ビームは超放射レーザー媒質１
に再度到達してそこで増幅される。この光ビーム
は再び２つの部分に分割され、その一方は記録媒
体７へ送られ、他方は反射鏡５へ進む。この一連
の結果は超放射レーザー媒質１内に反転分布があ
る限り継続している。

この過程の中で物体３に向けられる放射の強さ
は物体３の処理を生じさせるのに十分なものとな
る。先に指摘したように、「処理」という用語は
感光物質を光に曝すことから金属膜の蒸着までを
含む範囲の多種多様な工程を意味する。

従つて、この装置は物体３の処理を行なうと同
時に、液晶セルにより機能を果たす光拡散スクリ
ーン等の記録媒体７において物体３を観察できる
ようにする。物体３の処理と観察は共に単一の超
放射レーザー媒質１を使用して行なわれる。両方
のチヤンネルの総放射力は分光器４および反射鏡
５を伴なわない場合の超放射レーザー媒質１の放
射力よりかなり高い。従つて本発明では物体の処
理と観察を同時に行なえるという明白な利点とは
別に、超放射レーザー媒質１の励起に必要とされ
るエネルギーをより合理的に利用できる。反射鏡
５の前方に配置される光学的シヤツタは正確なタ
イミングで処理を行なわせるためのものである。

本発明の範囲から逸脱せずに、様々に異なる波
長で放射するレーザー媒質１により物体を処理・
観察することができることは明らかである。この
目的のためには、分光器４（第２図）を放射線の
波長λ₁およびλ₂を分離できるように設計すれば十
分である。

分光器４の機能は超放射レーザー媒質１により
増幅された波長から特定の波長を有効に分離でき
る任意のシステムにより果たすことができる。こ
れは立体プリズム、回折格子、干渉フイルタ等を
具備するシステムであつても良い。

物体３の光学的特性および処理に要求される精
度または選択的処理のための波長を知つている
と、物体３に対する放射線の作用を最大限にし且
つできる限り容易に観察を行なえるように処理チ
ヤンネルおよび観察チヤンネルに放射線スペクト
ルを形成することができる。

第１図の装置において、処理チヤンネルは光学
的空洞を形成することにより形成されるが、この
光学的空洞の第１反射鏡は物体３であり、第２反
射鏡が反射鏡５である。

物体３の反射が乏しい場合、この共振子のＱ係
数は低い。すなわち処理チヤンネル中の放射力も
弱く、そのため処理が不可能となつてしまう。

この不都合は付加的反射鏡８（第２図）を導入
することにより排除される。第２図の装置では、
反射鏡８および５が放射線を物体３に向ける新た
な空洞を構成する。付加的反射鏡８は反射鏡８の
光学的特性を変化させる手段９に接続される。

この場合、物体３は２つの光学的空洞を使用し
て処理される。そのうち第１の空洞は物体３およ
び反射鏡５により形成され、第２の空洞は反射鏡
５および８により形成される。各空洞の配分は物
体３および付加的反射鏡８の光学的特性によつて
決まる。反射鏡８の反射係数は両方の空洞の物体
３に対する所望の総作用に基いて選択される。

本発明の範囲から逸脱せずに、付加的反射鏡８
を波長λ₁の放射線に対しては特定の透過率を有す
るが、波長λ₂の放射線に対しては透過できるよう
に設計することができる。波長λ₁の放射線は処理
チヤンネルを透過され、波長λ₂の放射線は観察チ
ヤンネル内を伝播する。分光器４は波長λ₁の放射
線を透過し且つ波長λ₂の放射線を反射する鏡であ
る。分光器４はその機能を果たしていれば、様々
に変形して用いることができる。

分光器４は半透明平面−平行板、楔形の板、分
光立方体、プリズム、偏光装置等であつても良
い。

第３図の実施例において、分光器４はこれが反
射する光ビームが物体３に向けられるように光学
軸上に配置される。換言すれば、この分光器４は
反射鏡の機能も果たし、この反射鏡を通過した光
ビームは記録媒体７に向けられる。従つて、物体
３を処理するための光学的空洞は分光器４と、物
体３自体により形成される。

以下に示す全ての実施例において、光ビームは
放射線の強さに基いて分割されるが、以下に述べ
ることはすべて光ビームの分割が波長に基いて、
または他の任意の方法で行なわれる場合にも等し
く適用される。

物体３、光学的焦点調整装置２、超放射レーザ
ー媒質１および反射鏡５は様々に配置することが
できる。一つの配置法としては反射鏡５（第１
図）を物体３のある平面₂と光学的に共役であ
る平面₁に配置する。前述の構成要素の相互配
置を変えても装置内で起こる物理的過程には全く
影響がない。そこで簡潔にするために、反射鏡５
が物体が位置している平面と光学的に共役である
平面に配置されている場合を考える（前述の構成
要素を異なる配置にした場合と装置の動作方式は
同一である）。

反射鏡５（第１図）がその反射表面の寸法が物
体３が配置されている平面と光学的に共役である
平面において光学的焦点調整装置２により形成さ
れる光点の寸法より大きくならないように設計さ
れているならば、任意の光学的焦点調整装置２に
より形成できる最小寸法の光点により物体を処理
することによつて処理の精度および質を改良する
ことができる。原理的には、反射鏡の寸法を小さ
くすれば物体を処理するための光点の寸法を光学
的焦点調整装置２の回折限界まで縮小することが
できる。この点が以下の実施例に図示されてい
る。超放射レーザー媒質は銅蒸気中のプラズマで
あり、物体はアルミニウムフイルムである。この
物体を処理する装置は8^×の拡大率と、1.3μmの回
折分解能とを有するマイクロ対物レンズを含む。
反射鏡５は通常の縫い針の尖端であり、アルミニ
ウムフイルム上に形成される光点の直径は1.5μm
である。

多くの場合、物体またはその部分の処理は高度
に選択的である。この問題は本質的には先に論じ
た装置の変形である装置を使用することにより解
決される。この装置は寸法の小さい光点により物
体を処理するために使用される。この変形装置の
ブロツク図が第４図に示されている。

この装置において、超放射レーザー媒質１、光
学的焦点調整装置２、物体３、分光器４、および
光学的シヤツタを有する反射鏡５は第１図および
第２図のものと同様である。

第４図に示した装置の特別な特徴は、処理チヤ
ンネル中の、分光器４（第４図）と光学的シヤツ
タ６との間に光ビームの強さを連続的に制御する
手段１０が配置されていることである。手段１０
はくすんだ灰色のガラスから成る可動光学楔であ
つても良い。手段１０が加わつて完全となつた装
置は、超小型電子工学の分野において一般に使用
される材料を組合わせたもの、すなわち反射係数
の低い基板上に付着された高反射膜、たとえばガ
ラス、水晶またはセラミツク材料上の金属や、
SiO₂，SiAl₂O₃等の上に付着された金属を処理す
るためのものである。このような膜を処理する場
合には基板の放射の影響を最小限に抑えることが
必要である。

このために、手段１０は放射線の強さを基板を
処理するために要求されるレベルより低いレベル
まで下げる。高反射膜は物体３を光学的焦点調整
装置２に対して動かすことにより光点によつて処
理される。空洞のＱ係数が増すため、光ビームの
強さは膜を処理するのに十分なレベルまで自動的
に増加し、放射線により膜が除去されると直ちに
自動的に当初の低いレベルまで下げられる。この
低レベルにおいては基板は全く作用を受けないま
まである。

処理条件の選択過程は物体３の損傷限界値を決
定する手段１１を装置に導入することにより自動
的に行なうことができる。手段１１は作動装置１
２を介して手段１０に結合される。物体３の損傷
限界値を決定する手段１１は受光器であつても良
く、この受光器は受光器から到達する信号に従つ
て手段１０を駆動する標準作動装置１２に接続さ
れる。光ビームの強さを連続的に制御するという
問題は、本発明の精神および範囲から逸脱するこ
となく他の適切な手段を使用することにより解決
することができる。

別の好ましい実施例においては、反射鏡５は光
学的焦点調整装置２の視野内の、物体３の夫々の
領域と光学的に共役である箇所に配置された一組
の反射セルである。一組の光点を使用することに
より処理速度が増すこととは別に、物体３を異な
る平面で処理することができる。換言すれば、こ
の方法では三次元の物体の処理を行なえる。先に
説明した実施例と同様に、処理の精度および質に
関しては最良の結果は各セルの最大寸法が物体の
各々の平面と共役な平面において任意の光学的焦
点調整装置により形成される光点の寸法より大き
くない場合に得られる。

第１図、第２図および第４図の実施例のすべて
において、反射鏡５は３本の座標軸の少なくとも
１本に沿つてこの反射鏡５を駆動する手段１３に
結合されていても良い。手段１３により、光学的
焦点調整装置２に関して静止している物体３を処
理することができる。この処理は限定された寸法
の光点により行なわれる。

反射鏡５の変位が光学的焦点調整装置２の倍率
に比例するものと考えれば、非常に精度の高い処
理を行なうことができる。

さらに、反射鏡５の前方に補助光学素子１４を
配設することができる。このような付加的光学素
子１４は焦点距離が可変である対物レンズを構成
するので、物体を処理するための光点の寸法を連
続的に制御できるようになる。付加的光学素子１
４の機能は、物体３が曝される放射線の強さの制
御をも補助する光フイルタにより果たすことがで
きる。

別の好ましい実施例によれば、反射鏡の形状と
位置は視野全体を処理または照明できるように選
択する。この実施例を第５図に示す。

先に説明した実施例と同様に、第５図の装置は
超放射レーザー媒質１、光学的焦点調整装置２、
物体３、分光器４、および光学的シヤツタ６を有
する反射鏡５を具備する。反射鏡５は物体３と共
役な平面に配置された鏡５′である。鏡５′の曲率
中心は光学的焦点調整装置２の開口の中心にあ
る。先に論じた実施例と同様に、超放射レーザー
媒質１を発出した光ビームは光学的焦点調整装置
２により物体３に向けられる。物体３から反射さ
れ且つ物体により散乱された光ビームは光学的焦
点調整装置２により超放射レーザー媒質１へ戻さ
れる。媒質１はビームを増幅して分光器４へ送
り、分光器４はビームを２つの部分に分割する。
第１の部分は記録媒体７へ送られる。第２部分は
超放射レーザー媒質１へ戻されて増幅され、光学
的焦点調整装置２により物体３へ送られる。

反射鏡５（第５図）は反射鏡５の反射表面を限
定する手段１５を備えていても良い。この手段１
５は孔またはスリツト等の絞りであつても良い。

この構成では光学的焦点調整装置２の視野の任
意の部分において放射線の強さが局部的に増加さ
れる。これは、反射鏡５の配置されている平面に
おいて反射鏡５の反射表面を限定することによ
り、それに比例して反射鏡５の平面と共役である
物体３の平面における光点の面積が縮小するから
である。同時に、増幅に関連する超放射レーザー
媒質１の容量も処理を受ける表面の面積の減少よ
りはるかに少ない程度まで低減される。従つて、
反射鏡５の反射表面を制限しない場合に比べて、
処理される単位面積当たりの超放射レーザー媒質
１の容量が多くなる。

さらに、反射鏡の大きさを限定する手段１５
（第５図）はそれが配置されている平面において
走査を行なうことができ、少なくとも１つの孔を
備えている。手段１５は孔の面積および形状を変
えることができるようなものである。手段１５は
孔の面積を変化させる機構１７に電気的に結合さ
れた放射線強度測定計器１６を備えている。放射
線強度測定計器１６は受光器であつても良く、ま
た機構１７はこの受光器から到達する信号により
幅が調節される２本の垂直なスリツトを有してい
ても良い。

光学的焦点調整装置２は絞りの像を物体３の表
面に投影するので、絞りの孔の形状を適切に調整
することにより、物体３を処理する光点の所望の
形状を得ることができる。物体３を強さを増大さ
せた光点により視野全体にわたつて処理すること
が必要である場合には、絞りをそれが位置する平
面内で変位させる。光点、すなわち絞りの孔は狭
く細長い長方形の形状とするのが好ましい。絞り
の孔は長方形にすると、絞りがこの長方形の長辺
に対して本質的に垂直な方向へ一行程進むごとに
視野のかなり大きな部分にわたつて物体３を処理
することができる。

絞りは複数個の孔を有していても良いが、この
場合には放射線の強さは孔の総面積によつて決ま
る。

物体３が曝される放射線の強さを監視する手段
１６および光点の面積を変化させる機構１７によ
り、物体３に当たる放射線の強さを必要な処理条
件に適合するように維持することができる。ここ
で物体１６のある部分を蒸着するものと仮定す
る。放射線強度測定計器１６および機構１７は物
体３の損傷限界値と、物体３を処理すべき光点の
必要な面積とを決定する。本発明の範囲から逸脱
していない前述の改良例は全て次の様ないくつか
の重大な利点を備えている。

物体が曝される放射線の強さを広範囲にわたつ
て変化させることができるので、様々に異なる種
類の処理を実施できること。

物体を処理するための光点の形状および強さを
無限に変化させることができること。

特定の強さの光点により視野の内部で高速の処
理を確実に保証できること。

物体に当たる放射線の特定の強さを維持できる
こと。

光フイルタ等の付加的光学素子１４は分光器４
と反射鏡５との間に挿入しても良い。

このようにすると物体３に当たる放射線の強さ
を制御する付加的な手段が提供される。

第６図は物体の精密測定が可能であり、本発明
による物体を処理し、記録し且つ観察する装置の
ブロツク図である。

先に説明した実施例と同様に、第６図の装置は
超放射レーザー媒質１、光学的焦点調整装置２、
物体３、分光器４、および光学的シヤツタ６を有
する反射鏡５を具備する。装置はまた、付加的分
光器１９と光学的シヤツタ２１を有する反射鏡２
０との間に挿入された付加的光フイルタ１８も含
む。光フイルタ１８および反射鏡２０は少なくと
も１つの基準マークを形成する。付加的光フイル
タ１８は反射鏡２０から反射される放射線の強さ
を物体の損傷限界値を下回る点まで低下させる。

本発明によれば、反射鏡２０は読取り手段２２
と、物体３が位置している平面と共役である平面
においてこの反射鏡２０を少なくとも１本の座標
軸に沿つて運動させる手段２３とを備えていても
良い。

物体の平面と共役な平面において基準マークを
形成する反射鏡２０は、基準マークを物体または
その一部の境界線と連続的に整合させることによ
り物体またはその一部の精密測定を行なえるよう
にしたものである。基準マークの拡大像は記録媒
体７上に表示される。測定結果は読取り手段から
読取られる。測定結果は実際には、基準マークが
その平面に表示される、光学的焦点調整装置２の
倍率により分割された距離である。本発明の好ま
しい実施例の１つによれば、基準マークを形成す
る反射鏡２０は反射鏡２０の平面における光学的
焦点調整装置２の非合焦点の寸法を越えない直径
を有する鏡である。

後者の種類の本発明による物体を処理し、記録
し且つ記録する装置の動作について考える。先に
論じた実施例と同様に、超放射レーザー媒質１か
ら放射された光ビームは光学的焦点調整装置２に
より物体３へ向けられる。物体３により反射さ
れ、物体により拡散された光ビームは超放射レー
ザー媒質１へ戻され、媒体１はこの光ビームを増
幅して分光器４へ送る。分光器４は光ビームを２
つの部分に分割する。第１の部分は反射鏡５へ導
かれるので処理チヤンネルが形成される。光ビー
ムの第２の部分は付加的分光器１９へ送られて、
そこで再び２つの部分に分割される。先に説明し
たすべての実施例の場合と同様に、第１の部分は
記録媒体７へ送られ、第２部分は反射鏡20へ向け
られる。反射鏡２０はこのビーム部分を超放射レ
ーザー媒質１へ戻すので、基準マークの像が物体
３上および記録媒体７上に形成される。減弱光フ
イルタ１８は、基準マークの輝度を物体３をある
種の処理に曝せなくなるレベルまで低下させるよ
うにこの第２光ビームの光路を横切るように配置
するのが良い。また、必要に応じて基準マークを
オン・オフするように光学的シヤツタ２１を第２
光ビームの光路を横切るように配置すると良い。

本発明の好ましい実施例の１つによれば、反射
鏡２０はこれを物体３の平面と共役な平面におい
て運動させるテーブル２３の上に配置されてい
る。テーブル２３は10μmの不連続性を有するパ
ルス型変位変換器と、カウンタ付の５桁のインジ
ケータにより機能する読取り手段２２とを備えて
いる。反射鏡２０の鏡の直径はこの鏡の平面にお
ける光学的焦点調整装置２の非合焦点の直径を越
えないので、基準マークは回折点像となる。この
ような基準マークは高反射物体３の縁と非常に正
確に整合させることができる。光学的焦点調整装
置２の倍率は70^×である。これはすなわち、反射
鏡２０の70μmの変位が物体３上における基準マ
ークの1μmの変位およびスクリーン上における基
準マークの１mmの変位（観察チヤンネルの倍率を
1000^×とする）に対応するということを意味する。

本発明によれば、基準マークは非常に細いワイ
ヤ、または絞りとして働き且つ反射鏡２０のごく
近くに配置されているガラス板２４（第７図）の
切欠きであつても良い。この反射鏡２０は曲率中
心が光学的焦点調整装置２の開口の中心と一致す
る球面鏡である。反射鏡２０は読取り手段２２
と、反射鏡２０を少なくとも１本の座標軸に沿つ
て運動させる手段２３とを具備する。

第８図は本発明による物体を処理し、記録し且
つ観察する装置で、物体３またはその一部の精密
測定と、視野全体の照明の双方ができるもののブ
ロツク図である。

先に論じた実施例と同様に、第８図の装置は超
放射レーザー媒質１、光学的焦点調整装置２、物
体３、分光器４、光学的シヤツタ６を有する反射
鏡５および記録媒体７を具備する。

しかしながら、付加的分光器１９は処理チヤン
ネル内または観察チヤンネルを除く他の任意の場
所に配置される。分光器１９により形成される光
ビームの一方を横切るように別の分光器２５が配
置される。分光器２５はこの光ビームを２つの部
分に分割する。このようにして形成される夫々の
光チヤンネルには、記録媒体７、光学的シヤツタ
６を有する反射鏡５、基準マークを形成する反射
鏡２０、そして最後に視野全体にわたつて物体３
を照明するための反射鏡２６が連続して配置され
ている。反射鏡２６は光学的シヤツタ２７を備え
ている。前述の実施例の場合と同様に、光学的シ
ヤツタ２１および光フイルタ１８は反射鏡２０の
前方に配置しても良い。

記録媒体７の前方に付加的光学素子２８を配置
しても良い。

この実施例は前述のいくつかの実施例とそれほ
ど異なつていないが、本発明の範囲内で個々の構
成要素をきわめて多種多様に配置できることは明
らかである。

この実施例は、処理、観察、測定、照明および
その他の過程に関連する全体的な光の放射のうち
の厳密に特定された部分が記録媒体７に向けられ
るという点で有利である。光ビームを連続的に分
割して行くので多数の光チヤンネルが提供され
る。これは超放射レーザー媒質の特性および媒体
内部の反転分布の継続時間によつてのみ制限され
る。

チヤンネルをどのように配置しても良いことは
明らかであるが、これらのチヤンネルのすべてが
基本的に類似していることに留意する。最初の光
ビーム分割は振幅に基いて行ない、次の分割を波
長またはその他のものに基いて行なつても良く、
またはこの逆であつても良い。いずれを採るかは
物体の反射率と、遂行すべき工業技術上の課題に
よつて決まる。

すべての分光器は分光器の第２表面から反射さ
れた放射線が超放射レーザー媒質に達するのを妨
げ、それによりこの反射放射線が装置の動作に悪
影響を及ぼすのを回避するように光学プリズムで
あることが好ましい。このことは前述のすべての
実施例に当てはまる。

記録媒体の前方に配置される付加的光学素子は
投影レンズ、鏡、偏光手段、光フイルタ等とす
る。投影レンズおよび鏡では所望の倍率で像を記
録媒体に表示することができ、光フイルタでは所
望の輝度の像が得られる。

次に、前述の装置のすべての実施例において採
用される超放射レーザー媒質の種類について考え
るが、その他の種類の超放射レーザー媒質であつ
ても良いことは明らかである。

第８図の装置は先に論じた全ての装置と同様に
超放射レーザー媒質１、光学的焦点調整装置２、
物体３、分光器４および反射鏡５を具備する。超
放射レーザー媒質（第９図）は断熱素子３０を備
えた放電チヤンネル２９内の放電プラズマであ
る。放電チヤンネル２９は留付け具３１により真
空シエル３２の内部に固定されているが、これら
の留付け具３１は電極として働いても良い。断熱
素子３０は熱伝導率の低い半溶融粉末の粒を含
み、真空シエル３２の壁面と放電チヤンネル２９
および留付け具３１との間に配置される。放電チ
ヤンネル２９は留付け具３１内に運動自在に配置
されているので、放電チヤンネル２９と留付け具
３１との間には間隙がある。間隙の幅は断熱素子
の通常の粒の寸法より小さい。

以上説明した超放射レーザー媒質は次のように
動作する。

電圧が電極３１に印加されると、その結果、ネ
オン等の緩衝ガスを満たした放電チヤンネル２９
の中で放電が生じる。放電チヤンネル２９は、放
電チヤンネル２９内に含まれる作用物質の必要な
蒸気圧を提する温度まですぐに暖められる。その
後続いて作用物質の原子が励起すると、放射が開
始される。

本発明による超放射レーザー媒質は確実であ
り、且つ放電チヤンネル２９が留付け具３１内に
運動自在に取付けられているために有効寿命が長
い。放電チヤンネル２９と留付け具３１との間の
間隙の幅が断熱素子３０の粒寸法より小さいの
で、チヤンネル２９および射出ウインドウ３は清
潔に保持される。

本発明による超放射レーザー媒質の構成は簡単
であるのでコストが安い。超放射レーザー媒質の
有効寿命は300時間ないし2000時間以上の範囲で
ある。

産業上の利用可能性 本発明は電子工業、生物学、医学およびその他
の科学および工業技術の分野に利用することがで
き、様々に異なる物体に対して局部的選択的なレ
ーザー放射線の作用を生じさせ、それと同時にこ
れらの物体を大型のスクリーンで観察するために
使用できる。本発明は集積回路およびマスクの欠
陥を修正するために使用することができ、また、
混成集積回路、水晶共振子および音響表面波装置
のパラメータを制御するために使用できる。本発
明はさらに、情報のマイクロ記録に使用でき、且
つ細胞およびその他の生物学的対象に局部的に作
用を与えるために使用できる。最後に、本発明は
物体またはその一部の直線的な寸法を測定するた
めにも使用することができる。