JPH025243A - 光カード - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は追記書込み可能な光カードに関する。

〈従来技術〉 近年、各分野に広く用いられている磁気カードに対して
より高い機能の付加が求められるようになり、磁気カー
ドに比べ、記憶容量が大きいカード状記録媒体として光
カードが提案され、なかでも、追加書込み型光カードは
利用範囲が広く、有望視されている。

現在光ディスクなどで、応用されている追加書込み型光
記録媒体の記録方法として、ダイレクト・リード・アフ
ター・ライト（ＤＲＡＷ）形式があり、この形式の記録
方法は、薄膜状に形成された光記録層にレーザ光等の放
射光を熱源として照射して光記録材料に物理的、化学的
変化を与え、デジタル情報をピットの形で記録するヒー
トモード記録であり、光記録材料を永久変形させる温度
で加熱しない限り記録が消滅することがないという利点
を持つ。

ＤＲＡＷ形式の光記録材料としては、Ｔｅ系化合物やア
ントラキノン系、ナフトキノン系、トリフェニルメタン
系、カルボシアニン系、メロシアニン系、キサンチン系
、アゾ系、アジン系、チアジン系、オキサジン系、フタ
ロシアニン系、スクアリリウム系などの有機色素が用い
られる。

これらの光記録材料により形成された光記録部に、半導
体レーザ等の記録光、例えば８３０±１５Ｉｍの波長の
光が照射されると、照射された部分が昇温し、昇華或い
は熔融する。レーザ照射部の昇華或いは熔融部分はその
周辺に移動し孔、すなわちビットが形成される。そこで
、光デイスク型光記録媒体では昇華または熔融にともな
うレーザ光照射部分の移動を妨げることがないように光
記録層の記録面と対向するカード基板に空間層を設けて
いる。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、前述のＤＲＡＷ形式の光カードを製作す
る場合には次に述べる問題点がある。

光カードは、−Ｓにキャッシュカードやクレジットカー
ドと同様に携帯して使用されることが多く、種々雑多に
加えられる外力による光カードの変形または破損に対し
てカードの強度をもたせる必要があり、さらにカードと
しての機能上から薄くすることが必要である。このため
、光記録層に隣接させて空間層を有する従来のＤＲＡＷ
形式の光デイスク型光記録媒体の構造をそのままカード
に適用した場合はカードの強度低下或いはカードの１型
化を招来するため、その構造をそのまま採用することは
困難である。

そのため、追加書込み型光カードは光記録層に隣接して
空間層を設けないカード基板、光記録層および、そのほ
かの透明層などの各層を一体に密着する構造を採用する
ことが考えられる。

そこで、光記録層の記録材料の昇華或いは熔融によるレ
ーザ光の照射部からの移動による変形を妨げない空間層
の代わるものとして熱可塑樹脂が考えられる。しかし、
光記録材料の移動変形に対して抵抗となるため、レーザ
光によるデータ書込み感度を低下させる傾向があること
がわかった。

例えば、光記録層と、硬度があり弾性のない固体とが密
着状態になると、レーザ光照射により光記録材料が昇華
、蒸発あるいは熔融する場合、物質の移動空間が生じな
いため、ビット内の圧力上昇により昇華或いは蒸発が抑
制されるため、また熔融部分の移動が妨げられるため記
録感度は非常に低く、高いレニザ出力が必要となる。

また、ビットの形状についても、昇華あるいは熔融物質
の移動する空間がないためビット周辺に再析出するため
、ビット形状が悪くなり、コントラストの低下が見られ
る。

よって、本発明は前述の問題点に基づき、カードの薄型
化を図るとともに、外力に耐えうる強度とし、記録感度
が十分に得られる密着構造の光カードの提供を目的とす
る。

〈課題を解決するための手段と作用〉 前記目的を達成するために本発明の光カードは透明基板
上に光記録層を積層し、この光記録層にシリコーン樹脂
からなる光記録層のビット形成にともなう変形を吸収す
るバッファー層を積層した後、光記録層を積層して設け
たことを特徴とするものである。

本発明の光カードの基本的構成を第１図および第２図を
参照して説明する。

図中１は透明基板、２はＴｅ系の合金或いは有機色素か
らなる光記録層、３はシリコーン樹脂からなるバッフ１
−層、４は接着剤、５は裏打ち用基牟反である。

透明基板１は通常、ポリカーボネート樹脂、ポリカポネ
ートスチレン混合樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
オレフィン系樹脂などでレーザ光にて読み取りの際のト
ラッキングを可能とするために案内溝が形成されている
。

光記録層は、アントラキノン系、ナフトキレン系、トリ
フェニルメタン系、カルボシアニン系、メロシアニン系
、キサンチン系、アゾ系、アジン系、チアジン系、オキ
サジン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ス
クアリウム系などの有機色素、Ｔｅ、Ｔｅ−５ｅ、Ｔｅ
−Ｃ，Ｔｅ　−−Ｃ５ｔ　、Ｔｅ−Ｔｅｎｔ　、Ｔｅ−
３ｂ、Ｔｅ　−Ｇｅ等のＴｅ系合金−Ｔｅ−３ｅ−３ｂ
、Ｔｅ５ｅ−Ｇｅ等のＴ６−５ｅ系合金といったＴｅ化
合物を使用して形成されている。

バッファー層３は書き込み時、記録層にレーザ光が照射
された際、加熱され昇温した記録材料が熔融あるいは昇
華し、レーザ光照射部の周辺に移動して孔、すなわちビ
ットを形成する力を妨げないものでＤＲＡＷ形式の光記
録材料に隣接するものとして、空間層すなわち空気また
は窒素といった気体あるいは真空状態のときとビット形
成状態が同様に得られるような材料であることが必要で
ある。

−ＦＧ的にこのバッファー層を構成する樹脂は、適当な
溶剤で樹脂を溶解し、光記録層上に塗布し、バッファー
層として形成するが、このように溶剤を用いた場合、溶
剤の種類によっては光記録層、さらには透明基板をも溶
解させてしまうといった悪影響を与えてしまうため、影
響を与えないような溶剤を選択する必要がある。しかし
ながら、このように限定された溶剤に溶解する樹脂は極
めて種類が少なく、適当な樹脂を選択ことが大変能しい
問題となっている。従って、このことがＤＲＡＷ形式に
より追加書込み可能な光カードを製作する上で障害とな
っていたが、これについて、光硬化型又は電子線硬化型
のシリコーン樹脂、すなわち無溶剤の硬化型樹脂を用い
ることにより、使用可能な光記録材料の範囲を広げるこ
とも可能である。

裏打ち基板は、光記録層の保護とカードの機穢的特性を
保証する材料であり、ポリカーボネート樹脂、ポリカー
ボネートスチレン混合樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、オレフィン樹脂、他に塩化ビニル樹脂、ポリエチレ
ン樹脂等のプラスチック樹脂板が良く、これを接着剤に
より、積層密着し機械的強度に優れ、且つ薄型化を図っ
て光カードを製作することができる。

バッファ層に使用されるシリコーン樹脂はその硬化反応
から、付加反応型と縮合反応型に分けられる付加反応は
次式（１）で示される。

山　　　　　　　　　３ Ｈｓ ＯＨ３ ビニル基のような不飽和炭化水素基を持つポリオルガノ
シロキサンとケイ素原子に直接結合した水素原子を持つ
ポリオルガノシロキサンを白金化合物等の触媒により付
加反応することにより架橋硬化するというものである。

縮合反応型は、ケイ素原子に結合した水酸基を持つポリ
オルガノシロキサンと、加水分解可能な基（たとえば、
アルコキシ基、オキシム基、アセトキシ基など）を持つ
オルガノシランまたはポリシロキサンとの縮合反応によ
り架橋、硬化する。

。Ｈｓ　　　　　　／　　＼ Ｏ 〜Ｃ５ｉ−ＯＨ ＯＨ３ Ｈｓ というものである。

付加反応型は架橋密度の分子構造をｉｔ！　Ｉ！ｆｌす
ることにより、軟かいゲル状に硬化するもの力＜１斗ら
れる。このような構造が、軟かいゲル状硬化物、あるい
はゴム状弾性体は、レーザ光の照射により、光記録層に
ピットを形成する際に、光８己録上面の変形を吸収する
作用がある。又、紫外線、電子線硬化タイプも、メチル
基とビニル基とを紫外線電子線の照射で生ずるラジカル
により反応させるというもので、 ＣＨ。

ＣＩ。

〜ＯＳｔ　−Ｃｕｔ　　ＣＨオ　　　Ｃｕｔ　　　　５
ｔ−ＣＨｓＣｌ（。

ゴム状の弾性体として得られる。

本発明ではこのバッファー層にシリコーン樹脂を用いる
ことにより記録の感度の低下がなく、しかも高コントラ
ストの記録が可能である。

〈実施例〉 以下、実施例を第１図および第２図について説明する。

〈実施例１〉 先ず、カード基板１を作製した。つまり、ガラス板（Ｂ
Ｋ−７）にフォトレジスト（ＡＺ−１３５０）をスピン
コータにて塗布する。その後でカッティングマシンにて
アルゴンレーザ光により露光現像しＩｇｏ、８μｍ、ト
ラックピッチ２．５μｍ、深さ０．０７μｍの案内溝を
形成した。次に、この原板にニッケルスタンバを形成し
た。その後、このスタンバに感光性樹脂を塗布して、０
．４鴫で１００　ｒｔｍ　Ｘ　３０　ａｓサイズのポリ
カーボネイト基板をおしめで、紫外線を照射して硬化さ
せることによりこの基板に案内溝を形成してカード基板
１とした。次に、カード基板ｌの表面に、Ｔｅを３００
人の厚さに抵抗加熱法により蒸着し、光記録層を形成し
た。

さらに、光記録Ｎ２の表面に紫外線硬化型シリコーン樹
脂であるＸ　Ｅ　１７−６１０　（東芝シリコーン■製
）をスクリーン印刷法にて塗布した後、４０ｍＪ　／１
の光を照射することにより硬化させ、バッファー層３を
形成した。

次いで、バッファー層３の上にエポキシ系接着剤４（チ
バガイギー社、アラルダイト）を介して透明基板５であ
る０、３国厚さで１００■×８０鴫サイズの硬質白色Ｐ
ｖＣとを接着、硬化後にカードサイズ８５．５鵬Ｘ５６
ａ＊に内抜き、光カードを製作した。

この様にして製作した光カードを半導体レーザ（８ｍＷ
、１００ＫＨｚ）で記録したとコロ、良好な記録ができ
た。次いで、０．６Ｗの半導体レーザにて再生処理した
ところ良好な信号が得られた。これの記録感度は、光記
録層上に空間層を設けた場合の７０％であり、直接エポ
キシ接着剤を積層した時の５倍の感度を持ちバッファー
層の効果があることがわかる。

〈実施例２〉 先ず、カード基板１を作製した。つまり、ガラス板（Ｂ
Ｋ−７）にフォトレジスト（ＡＺ−１３５０）をスピン
コーターにて塗布する。その後でカッティングマシンに
てアルゴンレーザ光により露光現像し幅０．８μｍ、ト
ラックピッチ２．５μｍ、深さ０．０７μｍの案内溝を
形成した。次に、この原板にニッケルスタンバ法にて０
．０５〜０．１ｔＩｍの導電膜を形成した後ニッケル電
鋳法にて０．３Ｉｌｌｌ厚さのスタンバを形成した。そ
の後、このスタンバに感光性樹脂を塗布して、０゜４ｔ
ｍで１００ｍＸ８０ｓサイズのポリカーボネイト基板を
おしあて、紫外線を照射して硬化させることによりこの
基板に案内溝を形成してカード基板１とした０次に、カ
ード基＋Ｈ１の表面に、バナジルナフタロシアニンを抵
抗加熱蒸着法により７００人の厚さ形成し、光記録層と
した。

さらに、光記録層２の表面に電子線硬化型シリコーン樹
脂であるＸ　Ｅ　１’７−８０２　（東芝シリコーン■
製）をスクリーン印刷法にて塗布した後、１５Ｍｒａｄ
の電子線を照射することにより樹脂を硬化させ、２０μ
ｍ厚さのバッファー層３を形成した。

次いで、バラファー層３の上にエポキシ系接着剤４（チ
バガイギー社　アラルダイト）を介して透明基板５であ
る０、３ｍｍ厚さで１００ｍｍ×８０団サイズの硬質白
色ＰｖＣとを接着、硬化後にカードサイズ８５．５ｍｍ
Ｘ５６ｍｍに内抜き、光カードを製作した。

この様にして製作した光カードを半導体レーザ（８ｍＷ
　　１００ＫＨｚ）で記録したところ、良好な記録が得
られた。このときの記録密度は光記録層上に空間層を設
けた場合と変わりなくバッファー層があることにより感
度低下が防げ、また０゜６Ｗの半導体レーザにて記録再
生を行ったところ良好な再生信号が得られた。

〈発明の効果〉 以上、説明したように本発明によれば、シリコーン樹脂
でバッファー層を形成することにより、記録感度を低下
させることなく、カードの薄型化、曲げ強度に優れ、各
基板間が密着した構造の光カードが得られる。

また、紫外線反応硬化型樹脂や電子線反応硬化型樹脂と
いった無溶剤型のシリコーン樹脂でバッファー層を形成
することも可能であり、溶剤によるカード基板や光記録
層への悪影響を与えることもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光カードを示す部分拡大断面図であり
、第２図は本発明の光カードの平面口である。 １・・・・・・透明基板　　　２・・・・・・光記録層
３・・・・・・バッファー層　４・・・・・・接着層５
・・・・・・カード基板 特　　　許　　　出　　　願　　　人 凸版印刷株式会社 代表者　鉛木和失

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）少なくとも一方が透明である二つの基板の間に光
   記録層とバッファー層を挟持してなる光カードであって
   、該バッファー層がシリコーン樹脂からなることを特徴
   とする光カード。
2. （２）前記シリコーン樹脂が光硬化型或いは電子線硬化
   型であることを特徴とする請求項１記載の光カード。