JPH0253905B2 - - Google Patents

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JPH0253905B2
JPH0253905B2 JP6479777A JP6479777A JPH0253905B2 JP H0253905 B2 JPH0253905 B2 JP H0253905B2 JP 6479777 A JP6479777 A JP 6479777A JP 6479777 A JP6479777 A JP 6479777A JP H0253905 B2 JPH0253905 B2 JP H0253905B2
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JP
Japan
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focusing
lens system
voltage
focusing lens
cathode ray
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JP6479777A
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Japanese (ja)
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JPS54561A (en
Inventor
Mitsuru Ootake
Masanobu Takada
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は投写型陰極線管、特に陰極線管の画像
を映写スクリーンに投写して拡大投写画像を得る
ようにした投写型陰極線管に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a projection type cathode ray tube, and more particularly to a projection type cathode ray tube that projects an image from the cathode ray tube onto a projection screen to obtain an enlarged projected image.

一般に投写型陰極線管は、映写スクリーンより
所要距離離間した位置に配置し、陰極線管のフエ
ースプレート面上の再生画像を映写スクリーン面
に投写させて上記再生画像より拡大された投写画
像を得るいわゆる映像投写装置に広く用いられて
いる。
In general, a projection type cathode ray tube is placed at a position a required distance from the projection screen, and the reproduced image on the face plate of the cathode ray tube is projected onto the projection screen to obtain a projected image that is enlarged from the reproduced image. Widely used in projection devices.

第1図は従来の投写型陰極線管を用いた映像投
写装置の一例を示す要部側面図である。同図にお
いて、1は投写型陰極線管であり、この投写型陰
極線管1の中心軸上には、陰極線管1のフエース
プレートに対向して一定距離離間した位置に映写
スクリーン2が配設されている。また、上記陰極
線管1のフエースプレートの前面側には、その中
心軸と同一線上に投写レンズ系3が配置され、フ
エースプレート上に再生された画像を集光拡大さ
せて上記映写スクリーン2に投写させている。ま
た、カラー映像投写装置の場合には、第2図にそ
の要部側面図を示したように、映写スクリーン2
の中心軸およびそれに関して対称な位置にそれぞ
れ赤色画像用の陰極線管4、緑色画像用の陰極線
管5および青色画像用の陰極線管6が配設され、
さらに、これらの投写型の陰極線管4,5,6の
前面側には、投写レンズ系7,8,9がそれぞれ
配置されている。そして、上記陰極線管4,5,
6のフエースプレート上に再生された単色の画像
が投写レンズ系7,8,9によつてそれぞれ集光
拡大されて上記映写スクリーン2に投写され、そ
れぞれ互いに3色が合成して重ね合つたカラー画
像が得られる。
FIG. 1 is a side view of essential parts showing an example of a video projection device using a conventional projection type cathode ray tube. In the figure, reference numeral 1 denotes a projection type cathode ray tube, and a projection screen 2 is disposed on the central axis of the projection type cathode ray tube 1, facing the face plate of the cathode ray tube 1 and spaced apart from it by a certain distance. There is. Further, on the front side of the face plate of the cathode ray tube 1, a projection lens system 3 is disposed on the same line as the central axis thereof, and the image reproduced on the face plate is condensed and expanded and projected onto the projection screen 2. I'm letting you do it. In addition, in the case of a color image projection device, as shown in a side view of the main parts in FIG.
A cathode ray tube 4 for a red image, a cathode ray tube 5 for a green image, and a cathode ray tube 6 for a blue image are respectively disposed at the central axis and symmetrical positions with respect to the central axis,
Furthermore, projection lens systems 7, 8, and 9 are arranged on the front side of these projection type cathode ray tubes 4, 5, and 6, respectively. And the cathode ray tubes 4, 5,
The monochromatic image reproduced on the face plate 6 is condensed and expanded by the projection lens systems 7, 8, and 9 and projected onto the projection screen 2, and the three colors are combined and superimposed on each other. An image is obtained.

ここで第1図に説明した陰極線管1のスクリー
ン輝度BOと映写スクリーン2上の輝度Bとの関
係を求めると、次式のようになる。
Here, the relationship between the screen brightness B O of the cathode ray tube 1 and the brightness B on the projection screen 2 explained in FIG. 1 is determined by the following equation.

B=BO×T×G/4f2(M+1)2 ………(1) ただし、 T:投写レンズ系3の透過率 G:映写スクリーン2の利得 f:投写レンズ系3のfナンバー M:再生画像の拡大率 ここで、1例としてT=0.8、G=10、f=
2.0、M=6の値を(1)式に代入すると、映写スク
リーン2上の輝度B=0.01BOとなり、陰極線管1
上のスクリーン輝度BOは映写スクリーン2上で
はその1/100に低下してしまう。また、第2図の
場合には、映写スクリーン2上の輝度は、第1図
の場合の約3倍程度とすることができるが、いず
れも映写スクリーン2上における拡大再生画像の
輝度の低下が免れなかつた。
B=B O ×T×G/4f 2 (M+1) 2 ………(1) However, T: Transmittance of projection lens system 3 G: Gain f of projection screen 2: f number M of projection lens system 3: Enlargement ratio of reproduced image Here, as an example, T=0.8, G=10, f=
2.0, M = 6 into equation (1), the brightness B on the projection screen 2 = 0.01B O , and the cathode ray tube 1
The screen brightness B O on the projection screen 2 drops to 1/100 of that on the projection screen 2. In addition, in the case of FIG. 2, the brightness on the projection screen 2 can be approximately three times that in the case of FIG. I couldn't escape it.

したがつて、この種の映像投写装置として、実
用的な拡大再生画像を得るためには、陰極線管の
フエースプレート(スクリーン)上での輝度出力
を大幅に増大させなければならない。このために
は、陰極線管内面の螢光面の発光効率を向上させ
る方法あるいは螢光面を励起する電子ビームのエ
ネルギーを増加させる方法がある。この場合、前
者の螢光面の発光効率を向上させるには、その発
光色に関する制限などから自ずとその限度があ
る。一方、後者の陰極線ビームのエネルギーを増
加させるには、陰極線管のアノード電圧を増加さ
せる、あるいはビーム電流を増加させる、または
アノード電圧、ビーム電流の両者ともに増加させ
ることになる。ところが、アノード電位を増加さ
せることは陰極線管の電極間の耐電圧特性、陰極
線管からのX線放射等の問題があり、アノード電
圧を高くすることにも限度を有している。したが
つて、一般的には、ビーム電流を増加させて陰極
線管からの輝度出力を増加させているのが現状で
ある。ところが、従来の構成による投写型陰極線
管においては、集束レンズ方式によつて種々の大
きな弊害を伴なう場合がある。以下これについて
説明する。
Therefore, in order to obtain a practically enlarged reproduced image in this type of image projection apparatus, the luminance output on the face plate (screen) of the cathode ray tube must be significantly increased. For this purpose, there is a method of improving the luminous efficiency of the fluorescent surface on the inner surface of the cathode ray tube, or a method of increasing the energy of the electron beam that excites the fluorescent surface. In this case, there is a limit to improving the luminous efficiency of the former fluorescent surface due to restrictions on the color of the luminescent surface. On the other hand, in order to increase the energy of the latter cathode ray beam, the anode voltage of the cathode ray tube is increased, the beam current is increased, or both the anode voltage and the beam current are increased. However, increasing the anode potential poses problems such as withstand voltage characteristics between the electrodes of the cathode ray tube and X-ray radiation from the cathode ray tube, and there is a limit to increasing the anode voltage. Therefore, the current situation is to generally increase the beam current to increase the brightness output from the cathode ray tube. However, in a projection type cathode ray tube having a conventional configuration, the converging lens system may cause various serious problems. This will be explained below.

第3図は従来の投写型陰極線管、特に静電集束
タイプの投写型陰極線管の一例を示す要部断面図
である。同図において、ガラスバルブ10のネツ
ク部10a内部には、電子ビーム11を放射する
カソード12、電子ビーム11のビーム量を制御
する制御電極13および電子ビーム11を加速さ
せる加速電極14からなる電子銃15と、電子銃
15より放出された電子ビーム11を集束する集
束電極16とが収納されている。また、このガラ
スバルブ10のフアンネル部10bとネツク部1
0aにまたがつてその内部には、アノード電極1
7が配置され、上記集束電極16とこのアノード
電極17とによつて上記電子ビーム11を集束さ
せる静電集束レンズ系18が構成されている。ま
た、このガラスバルブ10のパネル部10cつま
り前面側はその内面に螢光面19が被着形成され
て投写型陰極線管が構成されている。
FIG. 3 is a sectional view of a main part showing an example of a conventional projection cathode ray tube, particularly an electrostatic focusing type projection cathode ray tube. In the figure, inside the neck portion 10a of the glass bulb 10 is an electron gun consisting of a cathode 12 that emits an electron beam 11, a control electrode 13 that controls the amount of the electron beam 11, and an acceleration electrode 14 that accelerates the electron beam 11. 15 and a focusing electrode 16 that focuses the electron beam 11 emitted from the electron gun 15 are housed. Further, the funnel part 10b and the neck part 1 of this glass bulb 10 are
There is an anode electrode 1 inside the electrode 0a.
7 is arranged, and the focusing electrode 16 and this anode electrode 17 constitute an electrostatic focusing lens system 18 that focuses the electron beam 11. Further, a fluorescent surface 19 is formed on the inner surface of the panel portion 10c, that is, the front side of the glass bulb 10, thereby forming a projection type cathode ray tube.

このように構成された静電集束タイプの投写型
陰極線管において、電子銃15より放出された電
子ビーム11は、静電集束レンズ系18により螢
光面19上に微小スポツトとして集束されなけれ
ばならないが、前述したように、螢光面19上の
発光輝度を向上させるためにビーム電流を増加さ
せると、これに伴なつてこの静電集束レンズ系1
8を通過する際の電子ビーム11の直径が増加
し、この静電集束レンズ系18の球面収差の大き
な影響を受けることになる。つまり、球面収差の
影響はビーム径の3乗に比例するため第4図の特
性に示したように、螢光面19上のビームのス
ポツト直径が大幅に太くなつてしまい、螢光面1
9上に形成される再生画像の品質を著しく低下さ
せてしまうなどの欠点を有している。
In the electrostatic focusing type projection cathode ray tube configured as described above, the electron beam 11 emitted from the electron gun 15 must be focused as a minute spot on the fluorescent surface 19 by the electrostatic focusing lens system 18. However, as described above, when the beam current is increased to improve the luminance of light emitted from the fluorescent surface 19, this electrostatic focusing lens system 1
The diameter of the electron beam 11 increases when passing through the electron beam 8, and is greatly affected by the spherical aberration of the electrostatic focusing lens system 18. In other words, since the influence of spherical aberration is proportional to the cube of the beam diameter, the spot diameter of the beam on the fluorescent surface 19 becomes significantly thicker, as shown in the characteristics of FIG.
This method has the disadvantage that the quality of the reproduced image formed on 9 is significantly degraded.

また、第5図は従来の投写型陰極線管、特に電
磁集束タイプの投写型陰極線管の一例を示す要部
断面図であり、第3図と同記号は同一要素となる
のでその説明は省略する。同図において、ガラス
バルブ10のネツク部10aとフアンネル部10
bとにまたがつてその内部には、アノード電極1
7が配置され、このアノード電極17に対応する
ガラスバルブ10の外周部には、集束コイル20
が配置されて電磁集束レンズ21が構成されてい
る。
In addition, FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part showing an example of a conventional projection cathode ray tube, particularly an electromagnetic focusing type projection cathode ray tube, and the same symbols as in FIG. 3 are the same elements, so a description thereof will be omitted. . In the figure, a neck portion 10a and a funnel portion 10 of a glass bulb 10 are shown.
The anode electrode 1 is located inside the b.
A focusing coil 20 is arranged on the outer periphery of the glass bulb 10 corresponding to this anode electrode 17.
are arranged to constitute the electromagnetic focusing lens 21.

このように構成された電磁集束タイプの投写型
陰極線管において、電子銃15より放出された電
子ビーム11は、集束コイル20によつて集束さ
れ、螢光面19上に微小スポツトとして集束され
ることになる。この場合も前述したように螢光面
19の発光輝度を向上させるためにビーム電流を
増加させると、電子ビーム11の量が増加して電
子ビーム11の直径が電磁集束レンズ系21内で
大きくなる。ところが、集束コイル20はネツク
部10aの外周部に配置されて、ネツク部10a
の径に制限されることなくその径を大きくするこ
とができるため、電子ビーム11の量が増えた場
合でも、電子ビーム11の直径に比較して集束コ
イル20の内径を十分に大きくとることが可能と
なるので球面収差の影響を極力抑えることができ
る。したがつて、第4図に特性で示したように
螢光面19上の電子ビーム11のスポツト直径を
ほぼ所要の太さに保持させることができる。
In the electromagnetic focusing type projection cathode ray tube configured as described above, the electron beam 11 emitted from the electron gun 15 is focused by the focusing coil 20 and focused on the fluorescent surface 19 as a minute spot. become. In this case, as described above, when the beam current is increased to improve the luminance of the fluorescent surface 19, the amount of the electron beam 11 increases and the diameter of the electron beam 11 becomes larger within the electromagnetic focusing lens system 21. . However, the focusing coil 20 is disposed on the outer periphery of the neck portion 10a.
Since the diameter of the focusing coil 20 can be increased without being limited to the diameter of the electron beam 11, even when the amount of the electron beam 11 increases, the inner diameter of the focusing coil 20 can be made sufficiently large compared to the diameter of the electron beam 11. This makes it possible to suppress the influence of spherical aberration as much as possible. Therefore, as shown in the characteristics in FIG. 4, the spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 can be maintained at approximately the required thickness.

ここで、上述した2種類の静電集束タイプと電
磁集束タイプとを第4図において比較してみる
と、静電集束タイプ(特性)と電磁集束タイプ
(特性)には、ビーム電流に対する電子ビーム
11のスポツト直径において著しい格差を有して
おり、この図から明らかなように大電流で動作す
る投写型陰極線管としては電磁集束タイプのもの
が最適であることが明らかである。
Here, if we compare the two types of electrostatic focusing type and electromagnetic focusing type mentioned above in Figure 4, we can see that the electrostatic focusing type (characteristics) and the electromagnetic focusing type (characteristics) have different characteristics for the electron beam relative to the beam current. As is clear from this figure, the electromagnetic focusing type is most suitable as a projection cathode ray tube that operates with a large current.

通常、投写型映像装置においては、パネル部フ
エースプレート上では再生すべき画像の明るさが
時々刻々変化するので、ビーム電流もそれに伴な
つて変化するが、ビーム電流の変化に影響されな
い様にアノード等の高電圧を完全に定電圧化する
ことは極めて困難であり、第6図に示した例のよ
うにアノード電圧がビーム電流の変動に伴なつて
約10%程度変動することは避けられない。したが
つて、前述したような第3図の静電集束タイプの
陰極線管においては、アノード電極17および集
束電極16に印加する電圧は同一の高圧電源から
ブリーダー回路を介して供給されているので、ア
ノード電極17の電圧がある値だけ変動すればそ
れに対応して集束電極16の電圧も比例して変動
し、 集束電極電圧/アノード電極電圧=RO 比は常に一定に保持される。したがつて、ビー
ム電流の変動によつてアノード電極電圧が変動し
てもそれに応じ集束電極電圧も変化するために静
電集束レンズの原理から静電集束タイプの陰極線
管のフオーカス状態は全く変らない。これに対し
て第5図に示した電磁集束タイプの陰極線管の場
合には、ビーム量の変動によつて生じたアノード
電極17の電圧変動と電磁集束コイル20に流れ
る集束電流とは直接的に無関係であるため、ビー
ム量が変化し、アノード電極17の電圧が変動す
ると著しいデフオーカス状態となり、パネル部1
0cのフエースプレート上に再生される画像が著
しく劣化してしまうなどの欠点を有している。
Normally, in a projection video device, the brightness of the image to be reproduced on the panel face plate changes from moment to moment, and the beam current also changes accordingly. It is extremely difficult to make such high voltages completely constant, and as shown in the example shown in Figure 6, it is inevitable that the anode voltage will fluctuate by about 10% as the beam current fluctuates. . Therefore, in the electrostatic focusing type cathode ray tube shown in FIG. 3 as described above, the voltages applied to the anode electrode 17 and the focusing electrode 16 are supplied from the same high voltage power supply via the bleeder circuit. If the voltage of the anode electrode 17 changes by a certain value, the voltage of the focusing electrode 16 also changes proportionally, and the ratio of focusing electrode voltage/anode electrode voltage=R O is always kept constant. Therefore, even if the anode electrode voltage changes due to changes in the beam current, the focusing electrode voltage also changes accordingly, so based on the principle of an electrostatic focusing lens, the focus state of an electrostatic focusing type cathode ray tube does not change at all. . On the other hand, in the case of the electromagnetic focusing type cathode ray tube shown in FIG. Since they are unrelated, if the beam amount changes and the voltage of the anode electrode 17 fluctuates, a significant defocus state will occur, and the panel section 1
This method has the disadvantage that the image reproduced on the 0c face plate is significantly degraded.

したがつて、本発明の目的は上記の点に着目し
てなされたものであり、アノード電圧の変動に対
して安定したフオーカス特性を得るとともに、小
さいビームスポツト径を得るようにした投写型陰
極線管を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention has been made with attention to the above points, and is to provide a projection type cathode ray tube which obtains stable focus characteristics against fluctuations in anode voltage and also obtains a small beam spot diameter. Our goal is to provide the following.

このような目的を達成するための本発明による
投写型陰極線管は、静電集束レンズ系と電磁集束
レンズ系とを組合せたものである。以下図面を用
いて本発明による投写型陰極線管について詳細に
説明する。
A projection type cathode ray tube according to the present invention for achieving the above object is a combination of an electrostatic focusing lens system and an electromagnetic focusing lens system. The projection type cathode ray tube according to the present invention will be explained in detail below with reference to the drawings.

第7図は本発明による投写型陰極線管の一実施
例を示す要部断面図であり、第3図,第5図と同
記号は同一要素となるのでその説明は省略する。
同図において、ガラスバルブ10のネツク部10
aに形成された集束電極16およびアノード電極
17からなる静電集束レンズ系18(図示しな
い)の外周部分に、集束コイル20を配設し、静
電集束レンズ系18(図示しない)とこの集束コ
イル20による電磁集束レンズ系21(図示しな
い)とを組合せた複合レンズ22を形成させて投
写型陰極線管を構成したものである。
FIG. 7 is a sectional view of a main part showing an embodiment of a projection type cathode ray tube according to the present invention, and since the same symbols as in FIGS. 3 and 5 represent the same elements, a description thereof will be omitted.
In the figure, a neck portion 10 of a glass bulb 10 is shown.
A focusing coil 20 is disposed on the outer periphery of an electrostatic focusing lens system 18 (not shown) consisting of a focusing electrode 16 and an anode electrode 17 formed in a. A projection cathode ray tube is constructed by forming a composite lens 22 which is a combination of a coil 20 and an electromagnetic focusing lens system 21 (not shown).

このように構成された投写型陰極線管におい
て、まず、集束コイル20には電流を供給しない
で電磁集束レンズ系21(図示しない)を作動さ
せない状態、つまり純静電集束動作のみによつて
投写型陰極線管を動作させ、電子銃15から電子
ビーム11を放出させるとともに、集束電極16
およびアノード電極17にアノード電極電圧に対
する集束電極電圧の電圧比RO=0.2となるような
電圧をそれぞれ印加した場合螢光面19上でビー
ム11が最小スポツトとなる様設計された本発明
による陰極管の測定例では、この時の螢光面19
上の電子ビーム11のスポツト直径は、第8図の
a点に示したようにほぼ1.5(任意単位)となる。
次に、アノード電極電圧に対する集束電極電圧の
比、つまりRPを0.2以上1.0未満の範囲内に順次可
変させていくと、静電集束レンズ系18(図示し
ない)の集束効果だけでは螢光面19上で電子ビ
ーム11を最良の状態に集束できないので、集束
コイル20に所定の電流を供給してそのコイル2
0による電磁集束レンズ系21(図示しない)の
集束効果を付勢させ、最良フオーカス状態になる
よう調整することによつて螢光面19上のスポツ
ト直径を第8図に示したようにほぼ1.5〜0.95(任
意単位)の範囲内に順次小さくすることができ
る。次に、電圧比RPを更に増してゆき1.0とする
と、集束電極16とアノード電極17は同電位と
なるから静電集束レンズ系18の効果は全くなく
なつて、集束コイル20による電磁集束レンズ系
21の集束効果、つまり、純電磁集束効果のみと
なり、第8図のb点に示したようにスポツト直径
が1.0(任意単位)となる。したがつて、第8図の
データからも明らかなように、螢光面19上の電
子ビーム11は、純静電集束動作から純電磁集束
動作の方向に行くにしたがつてそのスポツト直径
は純静電集束動作時より改善されて小さくなる。
すなわち、フオーカス特性が良くなり、特に電圧
比RPが0.8近傍では最良の状態となるデータが得
られた。
In the projection type cathode ray tube configured as described above, first, the focusing coil 20 is not supplied with current and the electromagnetic focusing lens system 21 (not shown) is not operated, that is, the projection type is operated only by pure electrostatic focusing operation. The cathode ray tube is operated to emit the electron beam 11 from the electron gun 15, and the focusing electrode 16
and a cathode according to the present invention designed so that the beam 11 becomes the smallest spot on the fluorescent surface 19 when a voltage such that the voltage ratio of the focusing electrode voltage to the anode electrode voltage R O =0.2 is applied to the anode electrode 17 and the anode electrode 17, respectively. In the tube measurement example, the fluorescent surface 19 at this time
The spot diameter of the upper electron beam 11 is approximately 1.5 (arbitrary unit) as shown at point a in FIG.
Next, when the ratio of the focusing electrode voltage to the anode electrode voltage, that is, R P , is successively varied within the range of 0.2 or more and less than 1.0, it becomes clear that the focusing effect of the electrostatic focusing lens system 18 (not shown) alone cannot produce a fluorescent surface. Since the electron beam 11 cannot be focused in the best condition on the focusing coil 20, a predetermined current is supplied to the focusing coil 20.
By energizing the focusing effect of the electromagnetic focusing lens system 21 (not shown) by 0 and adjusting it to obtain the best focus condition, the spot diameter on the fluorescent surface 19 can be adjusted to approximately 1.5 as shown in FIG. It can be decreased sequentially within the range of ~0.95 (arbitrary unit). Next, when the voltage ratio R P is further increased to 1.0, the focusing electrode 16 and the anode electrode 17 have the same potential, so the effect of the electrostatic focusing lens system 18 is completely eliminated, and the electromagnetic focusing lens system by the focusing coil 20 There is only a focusing effect of the system 21, that is, a purely electromagnetic focusing effect, and the spot diameter becomes 1.0 (arbitrary unit) as shown at point b in FIG. Therefore, as is clear from the data in FIG. 8, the spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 becomes pure as it moves from pure electrostatic focusing to pure electromagnetic focusing. This is improved and becomes smaller than during electrostatic focusing operation.
In other words, data was obtained in which the focus characteristics were improved and the best condition was obtained especially when the voltage ratio R P was around 0.8.

次に、アノード電極の電圧が変動した場合の電
子ビーム11の螢光面19上でのスポツト直径の
変化を第9図に示す。同図において、これは集束
電極電圧/アノード電極電圧比(RP)をパラメ
ータとし、集束コイル20の電流を、上記電圧比
(RP)毎にアノード電極電圧の変動が零の場合の
値に固定したまゝアノード電極電圧および集束電
極電圧のみを±10%変動させた場合のビームスポ
ツト直径の変化を比率で示したものである。ここ
で、特性は純静電集束の場合で電圧比(RP)=
0.2、特性はRP=0.4、特性はRP=0.6、特性
はRP=0.8、特性は純電磁集束の場合でRP
1.0である。したがつて、第9図からもわかるよ
うにアノード電極19の電圧変動に対して電子ビ
ーム11のスポツトの変化は、集束電極電圧/ア
ノード電極電圧比(RP)が0.2から1.0、すなわち
純静電集束動作から純電磁集束動作に向つてゆく
にしたがつて悪くなつていることが確認できた。
Next, FIG. 9 shows changes in the spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 when the voltage of the anode electrode changes. In the same figure, this uses the focusing electrode voltage/anode electrode voltage ratio (R P ) as a parameter, and the current of the focusing coil 20 is set to the value when the fluctuation of the anode electrode voltage is zero for each voltage ratio (R P ). The figure shows the change in beam spot diameter as a ratio when only the anode electrode voltage and focusing electrode voltage are varied by ±10% while being fixed. Here, the characteristics are for pure electrostatic focusing, voltage ratio (R P ) =
0.2, characteristics are R P = 0.4, characteristics are R P = 0.6, characteristics are R P = 0.8, characteristics are R P = for pure electromagnetic focusing.
It is 1.0. Therefore, as can be seen from FIG. 9, the change in the spot of the electron beam 11 with respect to the voltage fluctuation of the anode electrode 19 is due to the focusing electrode voltage/anode electrode voltage ratio (R P ) being 0.2 to 1.0, that is, the pure static It was confirmed that the condition worsened as one went from electric focusing operation to pure electromagnetic focusing operation.

したがつて、第8図および第9図の実験結果よ
り、集束電極電圧/アノード電極電圧比RPを0.4
〜0.6に設定することによつて螢光面19上のフ
オーカスのスポツト直径を十分小さくすることが
出来、かつアノード電圧の変動にともなう螢光面
19上の電子ビームスポツト直径の変化も許容範
囲内に抑えることができ、安定したフオーカス特
性が得られる。また、ここで上記電圧比(RP
の動作条件の設定については、ビームスポツト直
径の絶対値を重要視するか、あるいはアノード電
極電圧の変動による電子ビームのスポツト直径の
変動を重視するかによつて電圧比(RP)を適宜
選定することができる。ここで、第8図および第
9図より得られる第10図の特性曲線は、所定
のアノード電圧印加時の螢光面19上における電
子ビーム11のスポツト直径を、特性曲線は集
束コイル20に流れる電流を固定した状態でアノ
ード電圧が所定の値より10%変動した場合の上記
スポツト直径の最大値を示す。同図において、
RP=0.25の場合は、集束コイル20によるレンズ
作用を併用しないRP=0.2の場合に比し最小スポ
ツト直径およびアノード電圧が10%変動した場合
のスポツト直径ともにほぼ10%程度改善され、か
つスポツト直径がアノード電圧変動の影響を受け
ない。したがつて、ビーム電流の変化によつて生
ずるアノード電圧の変動によるビームスポツト直
径の変動が好ましくない用途においては、RP
0.25程度になる様にアノード電圧、集束電圧を設
定することが有効である。本測定例における陰極
線管は純静電動作時の集束電極電圧/アノード電
極電圧比ROを前述の如く0.2に設定した場合、螢
光面19上の電子ビーム11のスポツト直径が最
小に集束されるように設計されておるから上記条
件のRPはRP=1.25ROに相当する。更に、上記比
RPを増してゆくと所定アノード電圧印加時のス
ポツト直径およびアノード電圧10%変動時のスポ
ツト直径ともに減少してゆくが、両者の差は増加
する傾向にある併しビーム電流の変化量が少ない
かあるいはビーム電流の変化する頻度の少ない用
途あるいは微小スポツトを要求する用途、ビーム
スポツト直径の変動があまり問題とならない用途
等には、電圧比RPをスポツト直径が極小になる
0.8に近い値に設定することが有効であり、この
電圧比は一般にほゞRP=0.8〜0.9の範囲に存在す
る。したがつて、所定のアノード電圧印加時のス
ポツト直径、アノード電圧変動時のスポツト直径
がその用途を満足する様に上記電圧比RP
1.25RO<RP<0.9の範囲内で選定することが本発
明の主旨を達成することになる。以上の説明では
RO=0.2の場合を例にとり説明したが、集束電極
16およびアノード電極17から成るバイポテン
シヤルレンズ(bipotential lens)では一般に同
じ傾向を示し、上記条件が適用できる。すなわ
ち、静電集束レンズ系と電磁集束レンズ系とを併
用するレンズ系において、アノード電極電圧に対
する集束電極電圧の電圧比ROは、電磁集束レン
ズを動作させず静電集束レンズ系のみで蛍光面上
にビームスポツトを最良にフオーカスさせた場合
の、アノード電極電圧に対する集束電極電圧の電
圧比であるが、この比ROは、主に各電極の長さ、
直径、電極間ギヤツプなどが定まればほぼ一義的
に決定されるもので、本発明は、静電集束レンズ
系と電磁集束レンズ系とを併用する為、静電集束
レンズ系の方を故意にある量デフオーカス
(defocus)動作にしておいて、これに電磁集束レ
ンズを併用することによりこのデフオーカス量を
解消して蛍光面上で微小なビームスポツトが得ら
れるばかりでなく、アノード電圧変動に対しても
安定なフオーカス特性が得られる陰極管構成であ
り、従つて上記1.25RO<RP<0.9は、静電集束レ
ンズ系の方に要求されるデフオーカスの量を規定
するものであり、このデフオーカス量を静電集束
レンズのみを動作させたときに最良フオーカスが
得られる集束電極電圧Efppからのずれ量ΔEfppで規
定するもので、前記1.25RO<RP<0.9の意味する
ところは、静電集束レンズ系に要求されるデフオ
ーカス量Δrfppは集束電極電圧換算で25%以上の
アンダーフオーカス、すなわちEfpp+ΔEfpp
RP・Eb=(RO+ΔRO)Eb、但しRO+ΔRO
1.25RO、さらにアノード電圧変動によるビームス
ポツト直径の変動を抑えるための静電集束レンズ
系の作用を確保する為には、アノード電極電圧に
対する集束電極電圧の電圧比ROを0.9未満にする
必要があるということである。
Therefore, from the experimental results shown in Figures 8 and 9, the focusing electrode voltage/anode electrode voltage ratio R P is 0.4.
By setting the value to ~0.6, the diameter of the focus spot on the fluorescent surface 19 can be made sufficiently small, and the change in the diameter of the electron beam spot on the fluorescent surface 19 due to fluctuations in the anode voltage is also within the allowable range. This allows stable focus characteristics to be obtained. Also, here the above voltage ratio (R P )
Regarding the setting of operating conditions, the voltage ratio (R P ) is selected appropriately depending on whether emphasis is placed on the absolute value of the beam spot diameter or on the fluctuation of the electron beam spot diameter due to fluctuations in the anode electrode voltage. can do. Here, the characteristic curve in FIG. 10 obtained from FIGS. 8 and 9 represents the spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 when a predetermined anode voltage is applied. The maximum value of the above spot diameter is shown when the anode voltage fluctuates by 10% from a predetermined value while the current is fixed. In the same figure,
In the case of R P =0.25, both the minimum spot diameter and the spot diameter when the anode voltage fluctuates by 10% are improved by about 10% compared to the case of R P =0.2 without the lens action of the focusing coil 20. Spot diameter is not affected by anode voltage fluctuations. Therefore, in applications where variations in beam spot diameter due to variations in anode voltage caused by changes in beam current are undesirable, R P =
It is effective to set the anode voltage and focusing voltage so that the voltage is about 0.25. In the cathode ray tube in this measurement example, when the focusing electrode voltage/anode electrode voltage ratio R O during pure electrostatic operation is set to 0.2 as described above, the spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 is focused to the minimum. Therefore, R P under the above conditions corresponds to R P =1.25R O. Furthermore, the above ratio
As R P increases, both the spot diameter when a given anode voltage is applied and the spot diameter when the anode voltage fluctuates by 10% decrease, but the difference between the two tends to increase, but the amount of change in beam current is small. Alternatively, for applications in which the beam current changes infrequently, applications that require a minute spot, or applications in which fluctuations in beam spot diameter are not a major problem, the voltage ratio R P can be set to a position where the spot diameter is extremely small.
It is effective to set it to a value close to 0.8, and this voltage ratio generally exists approximately in the range R P =0.8 to 0.9. Therefore, the above voltage ratio R P should be adjusted so that the spot diameter when a predetermined anode voltage is applied and the spot diameter when the anode voltage is varied satisfy the application.
The gist of the present invention can be achieved by selecting within the range of 1.25R O <R P <0.9. In the above explanation
Although the case of R O =0.2 has been explained as an example, a bipotential lens consisting of the focusing electrode 16 and the anode electrode 17 generally shows the same tendency and the above conditions can be applied. In other words, in a lens system that uses both an electrostatic focusing lens system and an electromagnetic focusing lens system, the voltage ratio R O of the focusing electrode voltage to the anode electrode voltage is as follows: This is the voltage ratio of the focusing electrode voltage to the anode electrode voltage when the beam spot is best focused on the top. This ratio R O is mainly dependent on the length of each electrode,
Once the diameter, gap between electrodes, etc. are determined, they are determined almost uniquely.Since the present invention uses both an electrostatic focusing lens system and an electromagnetic focusing lens system, the electrostatic focusing lens system is intentionally selected. By setting a certain amount of defocus operation and using an electromagnetic focusing lens in conjunction with this, it is possible to eliminate this amount of defocus and obtain a minute beam spot on the phosphor screen. is also a cathode tube configuration that can obtain stable focus characteristics. Therefore, the above 1.25R O < R P < 0.9 defines the amount of defocus required for the electrostatic focusing lens system. The amount is defined as the amount of deviation ΔE fpp from the focusing electrode voltage E fpp at which the best focus is obtained when only the electrostatic focusing lens is operated, and the above 1.25 R O < R P < 0.9 means: The amount of defocus Δr fpp required for an electrostatic focusing lens system is an underfocus of 25% or more in terms of the focusing electrode voltage, that is, E fpp + ΔE fpp =
R P・E b = (R O + ΔR O ) E b , where R O + ΔR O >
1.25R O In addition, in order to ensure the effectiveness of the electrostatic focusing lens system to suppress fluctuations in the beam spot diameter due to anode voltage fluctuations, the voltage ratio R O of the focusing electrode voltage to the anode electrode voltage must be less than 0.9. This means that there is.

従つて、例えば集束電極電圧換算で25%以上と
いうアンダーフオーカス量は、ROの絶対値には
無関係に、このROからのずれ量として、このRO
の値に対する比率で規定できることは明らかであ
る。
Therefore, for example, an underfocus amount of 25% or more in terms of the focusing electrode voltage is expressed as the amount of deviation from this R O , regardless of the absolute value of R O.
It is clear that it can be defined by the ratio to the value of .

要するに、本発明においては、安定したフオー
カス特性および微小なビームスポツトを得る為
に、静電集束レンズ系と電磁集束レンズ系とを併
用する際、静電集束レンズ系の集束電極電圧を、
この静電集束レンズ系のみで最良フオーカスとな
る集束電極電圧より、この集束電極電圧換算で25
%以上アンダーフオーカス状態になるよう設定
し、この集束電極電圧換算で25%以上のアンダー
フオーカス分を電磁集束レンズ系で解消すること
により、微小スポツトが得られることは勿論アノ
ード電圧の変動に対しても安定したフオーカス特
性が得られるのである。
In short, in the present invention, in order to obtain stable focus characteristics and a minute beam spot, when an electrostatic focusing lens system and an electromagnetic focusing lens system are used together, the focusing electrode voltage of the electrostatic focusing lens system is
From the focusing electrode voltage that gives the best focus with this electrostatic focusing lens system alone, the focusing electrode voltage is calculated as 25
% or more, and by using an electromagnetic focusing lens system to eliminate the underfocus of 25% or more in terms of the focusing electrode voltage, not only can a minute spot be obtained, but also the fluctuation of the anode voltage can be suppressed. Stable focus characteristics can be obtained even for

なお、上記実施例においては、静電集束レンズ
系と電磁集束レンズ系とをネツク部10a上に場
所的に一致させた場合について説明したが、本発
明はこれに限定されるものではなく、第12図に
その要面断面図を示したように集束コイル20を
ネツク部10a上の位置AあるいはBに例えば集
束コイル20aあるいは20bに配置した場合に
おいても前述と全く同様の効果が得られる。ま
た、上記実施例においては、集束電極16および
アノード電極17からなるバイポテンシヤルレン
ズ(bipotential lens)を例にとつて説明したが、
第13図にその要部断面図を示したようにアノー
ド電極17間に集束電極23を設けたユニポテン
シヤルレンズ(unipotential lens)あるいはその
他如何なる静電集束レンズ系を用いた陰極線管に
おいても前述と全く同様の効果が得られることは
明らかである。また、電磁集束レンズ系として集
束コイル20を用いた場合について説明したが、
本発明はこれに限定されるものではなく、パーマ
ネントマグネツトを利用した電磁集束レンズ系を
用いた場合においても前述と同様の効果が得られ
ることは言うまでもない。ここで、ユニポテンシ
ヤルレンズを用いた場合、その特性曲線を第11
図に示す。同図において、特性曲線は、所定の
アノード電圧印加時の螢光面19上における電子
ビーム11のスポツト直径を、特性曲線は集束
コイル20に流れる電流は所定のアノード電圧印
加時に最小スポツトになるよう調整された値に固
定したまゝ、アノード電圧が所定の値より10%変
動した場合の上記スポツト直径の最大値を示す。
本測定例における陰極線管は第13図の例に相当
するものであり、純静電動作時の集束電極電圧/
アノード電極電圧比ROを0.002に設定した場合、
螢光面19上の電子ビーム11のスポツト直径が
最小に集束されるように設計されたものを使用し
ている。集束コイル20によるレンズ作用を併用
せず純静電動作時の集束電極/アノード電極電圧
比RO=0.002の場合の所定のアノード電圧印加時
のスポツト直径およびアノード電圧が所定の値よ
り10%変動した場合のスポツト直径に対し集束電
極/アノード電極電圧比RPがRP=2RO=0.004を
越えると上記両条件のスポツト直径は10%以上改
善され、集束電極/アノード電極電圧比RP=0.6
〜0.8付近で上記スポツト直径は極値を持つてい
る。併し所定のアノード電圧印加時のスポツト直
径とアノード電圧が所定の値より10%変動した場
合のスポツト直径の差は上記電圧比RPが増すに
つれて増加するので、ユニポテンシヤルレンズを
使用した陰極線管に本発明の主旨を適用するにあ
たつてはバイポテンシヤルレンズを使用した陰極
線管を例にとつて説明した項で述べた如く、その
用途に応じて上記電圧比RPを2RO<RP<0.8(RO
純静電動作時の集束電極電圧/アノード電圧比)
を満足する範囲から選定すれば本発明の主旨が効
果的に生かされる。ここで、ユニポテンシヤル静
電集束レンズ系においてもバイポテンシヤル静電
集束レンズ系におけると全く同様の議論があては
まる。すなわちユニポテンシヤル静電集束レンズ
系の場合は、アノード電極電圧に対する集束電極
電圧の比が、バイポテンシヤル静電集束レンズの
場合に比し小さく、かつ集束電極電圧の変化が、
バイポテンシヤル静電集束レンズ系の場合程敏感
にビームスポツト直径を変化させないので、静電
集束レンズ系に要求されるデフオーカス量は集束
電極電圧換算値で100%以上で、かつアノード電
圧変動に対するビームスポツト直径変動を許容範
囲内に抑えるための静電集束レンズ系の作用を確
保するためにアノード電極電圧に対する集束電極
電圧の電圧比ROを0.8未満とする必要があること
を不等式2RO<RP<0.8が規定している。このよ
うにして静電集束レンズ系に生じているデフオー
カス量を、電磁集束レンズ系で解消することによ
り微小スポツトが得られる勿論アノード電極電圧
の変動に対しても十分安定したフオーカス特性が
得られる。
In the above embodiment, the case where the electrostatic focusing lens system and the electromagnetic focusing lens system are aligned on the neck portion 10a has been described, but the present invention is not limited to this. Even when the focusing coil 20 is disposed at position A or B on the neck portion 10a, for example, at the focusing coil 20a or 20b, as shown in a cross-sectional view of the principal plane in FIG. 12, exactly the same effect as described above can be obtained. Further, in the above embodiment, a bipotential lens consisting of a focusing electrode 16 and an anode electrode 17 was explained as an example.
As shown in FIG. 13, which is a cross-sectional view of the main part, a cathode ray tube using a unipotential lens in which a focusing electrode 23 is provided between an anode electrode 17 or any other electrostatic focusing lens system is completely different from the above. It is clear that similar effects can be obtained. In addition, although the case where the focusing coil 20 is used as the electromagnetic focusing lens system has been explained,
It goes without saying that the present invention is not limited to this, and the same effects as described above can be obtained even when an electromagnetic focusing lens system using a permanent magnet is used. Here, when a unipotential lens is used, its characteristic curve is
As shown in the figure. In the figure, the characteristic curve represents the spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 when a predetermined anode voltage is applied, and the characteristic curve represents the spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 when a predetermined anode voltage is applied. The maximum value of the above spot diameter is shown when the anode voltage varies by 10% from the predetermined value while remaining fixed at the adjusted value.
The cathode ray tube in this measurement example corresponds to the example in Figure 13, and the focusing electrode voltage /
When the anode electrode voltage ratio R O is set to 0.002,
The spot diameter of the electron beam 11 on the fluorescent surface 19 is designed to be focused to a minimum. Spot diameter and anode voltage fluctuate by 10% from the predetermined values when a predetermined anode voltage is applied when the focusing electrode/anode electrode voltage ratio R O =0.002 during pure electrostatic operation without using the lens action of the focusing coil 20. For the spot diameter when 0.6
The above spot diameter has an extreme value around ~0.8. However, the difference between the spot diameter when a predetermined anode voltage is applied and the spot diameter when the anode voltage varies by 10% from the predetermined value increases as the voltage ratio R P increases, so the cathode ray tube using a unipotential lens When applying the gist of the present invention to a cathode ray tube using a bipotential lens, the above voltage ratio R P should be adjusted to 2R O < R P depending on the application, as described in the section that explains the cathode ray tube using a bipotential lens as an example. <0.8 (R O is the focusing electrode voltage/anode voltage ratio during pure electrostatic operation)
If the selection is made within a range that satisfies the above, the gist of the present invention can be effectively utilized. Here, the same discussion applies to the unipotential electrostatic focusing lens system as to the bipotential electrostatic focusing lens system. In other words, in the case of a unipotential electrostatic focusing lens system, the ratio of the focusing electrode voltage to the anode electrode voltage is smaller than in the case of a bipotential electrostatic focusing lens, and the change in the focusing electrode voltage is
Since the beam spot diameter does not change as sensitively as in the case of a bipotential electrostatic focusing lens system, the amount of defocus required for an electrostatic focusing lens system is 100% or more in terms of the focusing electrode voltage, and the beam spot diameter does not change as sensitively as in the case of a bipotential electrostatic focusing lens system. The inequality 2R O < R P shows that the voltage ratio R O of the focusing electrode voltage to the anode electrode voltage must be less than 0.8 in order to ensure the action of the electrostatic focusing lens system to suppress the diameter variation within an acceptable range. <0.8 is specified. In this way, by eliminating the amount of defocus occurring in the electrostatic focusing lens system with the electromagnetic focusing lens system, not only a minute spot can be obtained, but also a focus characteristic that is sufficiently stable against fluctuations in the anode electrode voltage can be obtained.

このユニポテンシヤル静電集束レンズにおいて
も、前述したバイポテンシヤル静電集束レンズ系
におけると同様に、集束電極電圧換算で100%以
上のデフオーカス量を、ROの絶対値には無関係
に、このROからのずれ量として、このROの値に
対する比率で規定できることは明らかである。
In this unipotential electrostatic focusing lens, as in the bipotential electrostatic focusing lens system described above, a defocus amount of 100% or more in terms of the focusing electrode voltage can be achieved regardless of the absolute value of R O. It is clear that the amount of deviation from R O can be defined as a ratio to the value of R O .

この様に、本発明においては、RPを本発明規
定の不等式を満足する様に設定することにより、
純静電動作の場合に比しビームスポツト直径を縮
少出来、かつアノード電圧変動があつてもビーム
スポツト直径の増大を実用上問題ない範囲に抑え
ることが出来る。
In this way, in the present invention, by setting R P to satisfy the inequality defined in the present invention,
The beam spot diameter can be reduced compared to the case of pure electrostatic operation, and even if there is an anode voltage fluctuation, the increase in the beam spot diameter can be suppressed to a range that does not pose a practical problem.

以上説明したように、本発明による投写型陰極
線管によれば、安定したフオーカス特性および微
小なビームスポツト径が極めて容易に得られるた
め、螢光面上の発光輝度および画質が大幅に向上
し、その品質、性能等を著しく向上させることが
できるなどの優れた効果を有する。
As explained above, according to the projection type cathode ray tube according to the present invention, stable focus characteristics and a small beam spot diameter can be obtained extremely easily, so that the luminance of light emitted from the fluorescent surface and the image quality are greatly improved. It has excellent effects such as being able to significantly improve its quality, performance, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図、第2図は投写型陰極線管を用いた映像
投写装置の一例を示す要部側面図、第3図は従来
の静電集束タイプの投写型陰極線管の一例を示す
要部断面図、第4図はビーム電流に対するスポツ
ト直径比を示す特性図、第5図は従来の電磁集束
タイプの投写型陰極線管の一例を示す要部断面
図、第6図はビーム電流に対するアノード電圧の
変動特性図、第7図は本発明による投写型陰極線
管の一実施例を示す要部断面図、第8図は電圧比
(RP)に対するスポツト直径比を示す特性図、第
9図はアノード電圧の変動率に対するスポツト直
径比を示す特性図、第10図はバイポテンシヤル
レンズの電圧比(RP)に対するスポツト直径比
を示す特性曲線、第11図はユニポテンシヤルレ
ンズの電圧比(RP)に対するスポツト直径比を
示す特性曲線、第12図は本発明による投写型陰
極線管の他の実施例を示す要部断面図、第13図
は本発明による投写型陰極線管のさらに他の実施
例を示す要部断面図である。 1……投写型陰極線管、2……映写スクリー
ン、3……投写レンズ系、4,5,6……陰極線
管、7,8,9……投写レンズ系、10……ガラ
スバルブ、10a……ネツク部、10b……フア
ンネル部、10c……パネル部、11……電子ビ
ーム、12……カソード、13……制御電極、1
4……加速電極、15……電子銃、16……集束
電極、17……アノード電極、18……静電集束
レンズ系、19……螢光面、20,20a,20
b……集束コイル、21……電磁集束レンズ系、
22……複合レンズ、23……集束電極。
Figures 1 and 2 are side views of essential parts showing an example of an image projection device using a projection cathode ray tube, and Figure 3 is a sectional view of essential parts showing an example of a conventional electrostatic focusing type projection cathode ray tube. , Fig. 4 is a characteristic diagram showing the spot diameter ratio with respect to beam current, Fig. 5 is a cross-sectional view of a main part showing an example of a conventional electromagnetic focusing type projection cathode ray tube, and Fig. 6 is a variation of anode voltage with respect to beam current. FIG. 7 is a sectional view of a main part showing an embodiment of a projection type cathode ray tube according to the present invention, FIG. 8 is a characteristic diagram showing the spot diameter ratio with respect to the voltage ratio (R P ), and FIG. 9 is an anode voltage Figure 10 is a characteristic curve showing the spot diameter ratio versus voltage ratio (R P ) of a bipotential lens, and Figure 11 is a characteristic curve showing the spot diameter ratio versus voltage ratio (R P ) of a unipotential lens. A characteristic curve showing the spot diameter ratio, FIG. 12 is a sectional view of a main part showing another embodiment of the projection cathode ray tube according to the invention, and FIG. 13 shows still another embodiment of the projection cathode ray tube according to the invention. It is a sectional view of the main part. 1... Projection type cathode ray tube, 2... Projection screen, 3... Projection lens system, 4, 5, 6... Cathode ray tube, 7, 8, 9... Projection lens system, 10... Glass bulb, 10a... ...Network part, 10b...Funnel part, 10c...Panel part, 11...Electron beam, 12...Cathode, 13...Control electrode, 1
4... Accelerating electrode, 15... Electron gun, 16... Focusing electrode, 17... Anode electrode, 18... Electrostatic focusing lens system, 19... Fluorescent surface, 20, 20a, 20
b... Focusing coil, 21... Electromagnetic focusing lens system,
22... Compound lens, 23... Focusing electrode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 パネル部、フアンネル部およびネツク部から
なるガラスバルブと、前記パネル部内面に形成さ
れた蛍光面と、前記フアンネル部内面に形成され
たアノード電極と、前記ネツク部内に収納されて
前記蛍光面に電子ビームを放射する電子銃と、前
記ネツク部内に配設された集束電極、前記アノー
ド電極の一部からなる静電集束レンズ系と、前記
ネツク部外周に配設された電磁集束レンズ系とを
備え、前記電子ビームを前記静電集束レンズ系の
みによつて前記蛍光面上に最良のフオーカスに集
束させる前記集束電極電圧/アノード電極電圧比
をROとし、前記電磁集束レンズ系の効果を重畳
したときの前記集束電極電圧/アノード電極電圧
比をRPとすると、バイポテンシヤル静電集束レ
ンズでは1.25RO<RP<0.9、ユニポテンシヤル静
電集束レンズでは2RO<RP<0.8の関係を満たす
ように前記静電集束レンズ系および前記電磁集束
レンズ系を調整することによつて前記電子ビーム
を前記蛍光面上に集束させたことを特徴とする投
写型陰極線管。
1 A glass bulb consisting of a panel part, a funnel part and a neck part, a phosphor screen formed on the inner surface of the panel part, an anode electrode formed on the inner surface of the funnel part, and a glass bulb housed in the neck part and connected to the phosphor screen. An electron gun that emits an electron beam, a focusing electrode disposed within the network, an electrostatic focusing lens system consisting of a part of the anode electrode, and an electromagnetic focusing lens system disposed around the outer periphery of the network. The focusing electrode voltage/anode electrode voltage ratio for focusing the electron beam onto the fluorescent screen using only the electrostatic focusing lens system is set to R O , and the effect of the electromagnetic focusing lens system is superimposed. When the focusing electrode voltage/anode electrode voltage ratio is R P , the relationship is 1.25R O <R P <0.9 for a bipotential electrostatic focusing lens, and 2R O <R P <0.8 for a unipotential electrostatic focusing lens. A projection type cathode ray tube, characterized in that the electron beam is focused on the phosphor screen by adjusting the electrostatic focusing lens system and the electromagnetic focusing lens system so as to satisfy the following conditions.
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JPS58658B2 (en) * 1974-12-21 1983-01-07 株式会社東芝 Ink Yokusen Kansouchi

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JPS54561A (en) 1979-01-05

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