JPH0255303A - 中空光導波路及びその製造方法 - Google Patents
中空光導波路及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0255303A JPH0255303A JP63206432A JP20643288A JPH0255303A JP H0255303 A JPH0255303 A JP H0255303A JP 63206432 A JP63206432 A JP 63206432A JP 20643288 A JP20643288 A JP 20643288A JP H0255303 A JPH0255303 A JP H0255303A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- optical waveguide
- material pipe
- hollow optical
- hollow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 49
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 12
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 101100243951 Caenorhabditis elegans pie-1 gene Proteins 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000005372 isotope separation Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はC02レーザなどの光パワーを伝送する中空導
波路とその製造方法に関わるものである。
波路とその製造方法に関わるものである。
[従来の技術]
高い効率で大出力を得ることのできるChレーザは加工
用、医療用に主とし、て利用され始め、また同位体分離
や気体濃度計測等にも応用範囲が広がろうとし、ている
。しかし低損失で可撓性をもった石英系光ファイバを利
用できるYAGレーザに比べ、波長10,6μIのCO
2レーザの場合、低損失可撓性導波路が入手できないた
め、応用上の大きな障害となっており、その実現が待た
れて久しい。現在その候補として最も有望視されている
のが金属パイプ内面に、10,6μlの波長帯で低損失
なGe、 2nSe等の誘電体材料をコーティングする
ことで金属パイプ内面の反射率を高め、中空パイプ内部
にレーザエネルギを閉じ込めて伝送する誘電体内装金属
中空導波路である。
用、医療用に主とし、て利用され始め、また同位体分離
や気体濃度計測等にも応用範囲が広がろうとし、ている
。しかし低損失で可撓性をもった石英系光ファイバを利
用できるYAGレーザに比べ、波長10,6μIのCO
2レーザの場合、低損失可撓性導波路が入手できないた
め、応用上の大きな障害となっており、その実現が待た
れて久しい。現在その候補として最も有望視されている
のが金属パイプ内面に、10,6μlの波長帯で低損失
なGe、 2nSe等の誘電体材料をコーティングする
ことで金属パイプ内面の反射率を高め、中空パイプ内部
にレーザエネルギを閉じ込めて伝送する誘電体内装金属
中空導波路である。
以下その導波路の製造方法を説明する。
母材パイプは軸方向に一様な外径を有しており、その材
料はA2またはポリイミドが使用される。 AQの場合
その外表面を例えばダイヤモンドベースト等を用いて鏡
面化する必要がある。この母材パイプの外表面に約0.
5μmの厚さのGeあるいは約0.8μ厖厚さのZn5
eを高周波マグネトロンスパッタリング法により形成す
る。この誘電体薄膜の外表面にAg、Cu、Au等の金
属薄膜を形成する。その厚さは波長10.6μlにおけ
るスキンデプス以上であり、約300Å以上であれば充
分である0次にこの金属薄膜表面に例えばワット浴また
はスルファミン酸浴の光沢めっきによってNi層を形成
する。その厚さはa械的強度から定められるが約100
μmから200μm程度である。最後に母材パイプをエ
ツチング除去して誘電体内装金属中空導波路が製造され
る9エツチング液にはMの場合約10%程度のN a
OH溶液を、またポリイミドの場合にはヒドラジンとエ
チレンジアミンの混合液を使用する。
料はA2またはポリイミドが使用される。 AQの場合
その外表面を例えばダイヤモンドベースト等を用いて鏡
面化する必要がある。この母材パイプの外表面に約0.
5μmの厚さのGeあるいは約0.8μ厖厚さのZn5
eを高周波マグネトロンスパッタリング法により形成す
る。この誘電体薄膜の外表面にAg、Cu、Au等の金
属薄膜を形成する。その厚さは波長10.6μlにおけ
るスキンデプス以上であり、約300Å以上であれば充
分である0次にこの金属薄膜表面に例えばワット浴また
はスルファミン酸浴の光沢めっきによってNi層を形成
する。その厚さはa械的強度から定められるが約100
μmから200μm程度である。最後に母材パイプをエ
ツチング除去して誘電体内装金属中空導波路が製造され
る9エツチング液にはMの場合約10%程度のN a
OH溶液を、またポリイミドの場合にはヒドラジンとエ
チレンジアミンの混合液を使用する。
二のように、従来、誘電体内装金属円形中空導波路の作
製には母材パイプの回りに誘電体および金属層を形成し
、て、I&後に母材パイプをエツチング等で除去する「
外づけ法」が用いられていた。
製には母材パイプの回りに誘電体および金属層を形成し
、て、I&後に母材パイプをエツチング等で除去する「
外づけ法」が用いられていた。
そして、母材パイプは軸方向に一様な外形をしており、
従って!!!遺した中空導波路の内形も軸方向。
従って!!!遺した中空導波路の内形も軸方向。
に−様であった。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、従来の「外づけ法」で作製した中空導波路は、
導波路の内形が伝送方向に一様であるため、レーザビー
ムと結合した時、導波路入射端ではモード閉込め(1o
de conf 1nenent )が空気中と異なる
ために結合損失が発生し、入射端付近の集中的な発熱温
度上昇をひき起こしていた。特に大パワーの伝送におい
ては結合損失により入射端のみが破壊してしまう危険が
あった。
導波路の内形が伝送方向に一様であるため、レーザビー
ムと結合した時、導波路入射端ではモード閉込め(1o
de conf 1nenent )が空気中と異なる
ために結合損失が発生し、入射端付近の集中的な発熱温
度上昇をひき起こしていた。特に大パワーの伝送におい
ては結合損失により入射端のみが破壊してしまう危険が
あった。
本発明の目的は前記した従来技術の問題点を解決し、入
射端における結合損失による導波路の局部的な破壊をな
くし、大パワー伝送可能な、光パワー伝送装置の構造と
その製造方法を提供することにある。
射端における結合損失による導波路の局部的な破壊をな
くし、大パワー伝送可能な、光パワー伝送装置の構造と
その製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明の中空光導波路は、外部金属層の内側に誘電体薄
膜を形成し、てなる中空導波路において、少なくとも前
記中空光導波路の片端部が広がり角2θ=2λ、/Ka
r(0,4≦K≦O,f35)但し、2a・・・中空光
導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ状開口を有してなるものである9その製造方法
としては、少なくとも外部金属層の内側に誘電体薄膜を
形成してなる中空光導波路の製造方法において、少なく
とも片端部外周に広がり角 2 θ = 2 λ 、/Kar(0,4≦K ≦0.
65)但し、2a・・・中空光導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ面を形成し、てなる成型母材パイプの外側に誘
電体薄膜を設け、さらにその外側に外部金属層を形成し
た後、上記母材パイプをエツチング除去することによる
。
膜を形成し、てなる中空導波路において、少なくとも前
記中空光導波路の片端部が広がり角2θ=2λ、/Ka
r(0,4≦K≦O,f35)但し、2a・・・中空光
導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ状開口を有してなるものである9その製造方法
としては、少なくとも外部金属層の内側に誘電体薄膜を
形成してなる中空光導波路の製造方法において、少なく
とも片端部外周に広がり角 2 θ = 2 λ 、/Kar(0,4≦K ≦0.
65)但し、2a・・・中空光導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ面を形成し、てなる成型母材パイプの外側に誘
電体薄膜を設け、さらにその外側に外部金属層を形成し
た後、上記母材パイプをエツチング除去することによる
。
その成形母材パイプ自体は、前記広がり角2θのテーパ
面を有する円錐体を、加熱した母材パイプ端部に押しあ
てて成型してもよいし、母材パイプの端部をめっき浴に
浸漬し引上げるに際し、その引上げ速度を徐々に遅くす
ることにより、前記広がり角2θのテーパ面を有するめ
っき層を形成したものであってもよい、更には、母材パ
イプの端部をめっき浴に浸漬し引上げる動作を繰返すに
際し、その浸漬領域を徐々に先@部に制限することによ
り、前記広がり角2θのテーパ面を有するめっき層を形
成したものであってもよい。
面を有する円錐体を、加熱した母材パイプ端部に押しあ
てて成型してもよいし、母材パイプの端部をめっき浴に
浸漬し引上げるに際し、その引上げ速度を徐々に遅くす
ることにより、前記広がり角2θのテーパ面を有するめ
っき層を形成したものであってもよい、更には、母材パ
イプの端部をめっき浴に浸漬し引上げる動作を繰返すに
際し、その浸漬領域を徐々に先@部に制限することによ
り、前記広がり角2θのテーパ面を有するめっき層を形
成したものであってもよい。
[作用]
本発明の要点は、「外づけ法」による中空導波路作製に
おいて、母材パイプの片端を前述した広がり角2θ=2
λ、/ K aπの円錐形状に加工したことにあり、こ
の母材パイプを用いて製造した導波路入射端においては
、K=0.4〜0.65とすることで入射レーザビーム
との結合損失をほぼ最小にできるため、結合部のモード
閉込め(nodeconf inement )が空気
中の状態からきわめてゆるやかに変化し、中空導波路入
射端での結合損失の集中を防ぎ、局部的な破壊を無<
L、て、大パワー伝送を可能にしたものである。
おいて、母材パイプの片端を前述した広がり角2θ=2
λ、/ K aπの円錐形状に加工したことにあり、こ
の母材パイプを用いて製造した導波路入射端においては
、K=0.4〜0.65とすることで入射レーザビーム
との結合損失をほぼ最小にできるため、結合部のモード
閉込め(nodeconf inement )が空気
中の状態からきわめてゆるやかに変化し、中空導波路入
射端での結合損失の集中を防ぎ、局部的な破壊を無<
L、て、大パワー伝送を可能にしたものである。
母材パイプとし、ては、^Q、 C++、 Niおよび
ポリイミド、ガラス等を用いる5これに対し、成型のた
めの円錐体の材料としては、母材を加熱しながらでも円
錐体の変形を生じる恐れの無いように、母材よりも融点
の高いものが望まし、い1例えば母材に72パイプ(融
点660℃)を用いた時は、円jif4cにはC1」(
融点1080℃)、AU(融点960℃) 、 Ni(
融点1455℃)等を用いることができる。
ポリイミド、ガラス等を用いる5これに対し、成型のた
めの円錐体の材料としては、母材を加熱しながらでも円
錐体の変形を生じる恐れの無いように、母材よりも融点
の高いものが望まし、い1例えば母材に72パイプ(融
点660℃)を用いた時は、円jif4cにはC1」(
融点1080℃)、AU(融点960℃) 、 Ni(
融点1455℃)等を用いることができる。
誘電体薄膜にはGe、 1nse、 ZnS等を用い金
属層にはNi、へg、Ct+等を用いる。誘電体薄膜は
スパッタリングやめつき或いはCVD法によって形成す
ることができる。
属層にはNi、へg、Ct+等を用いる。誘電体薄膜は
スパッタリングやめつき或いはCVD法によって形成す
ることができる。
[実施例コ
以下、図示の実施例について説明する。
実施例1
母材パイプに八2を用いてGe/Ni中空導波路を作製
する場合、第1図に示した様な円錐体l及び支持部2を
有するCLIの円錐針3を用いて、これを第2図に示す
様に回転させながら、バーナ5で加熱したAQHk材パ
イプ4の片端に円錐針先端を押付け、当該片端部を円錐
状に成形し、てテーパ状開口とする。
する場合、第1図に示した様な円錐体l及び支持部2を
有するCLIの円錐針3を用いて、これを第2図に示す
様に回転させながら、バーナ5で加熱したAQHk材パ
イプ4の片端に円錐針先端を押付け、当該片端部を円錐
状に成形し、てテーパ状開口とする。
ここで用いられる円錐針3の円錐体1の部分の形状は、
成型された母材パイプ4の片端部内錐形状が、広がり角 2θ=2λ、/Kar(0,4≦K≦0.65)但し、
2a・・・中空光導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ状開口となるようにする。即ち、これと同じ2
θのテーパ面を持つ円錐形とする。
成型された母材パイプ4の片端部内錐形状が、広がり角 2θ=2λ、/Kar(0,4≦K≦0.65)但し、
2a・・・中空光導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ状開口となるようにする。即ち、これと同じ2
θのテーパ面を持つ円錐形とする。
次いで、このようにし、て得られた成型母材パイプ4を
用い、その外側に高周波スパッタリングによりGe誘電
体膜を形成し1、さらに、旧めっきを行なって金属層を
形成する。次に、このAQ 、/ Ge、/ N iパ
イプを苛性ソーダに浸漬して^之のみをエツチングする
。こうし、てできたGe/Ni導波路は第3図に示す様
に片端に円錐形状を有し、レーザビームとの結合におい
て、結合損失が入射端近傍に集中することがなく、大パ
ワー伝送が可能となる9一般に、円形の中空導波路に励
振される夫々のモードの励振効率は、導波路半径aと導
波路入射端のレーザビームのスポットサイズWとの比w
7/aによって大きく異なる。第5図には横方向に軸ず
れがなくガウスビームを入射した時の円形の中空導波路
に励振されるHE、、モードの励振効率が示されている
。同図から明らかなように、般に円形の中空導波路のH
E、、モードのうち鼓も低損失なモードはIIE、、モ
ードであり、このモードはw、/a=0.64のとき最
大効率で励振される。
用い、その外側に高周波スパッタリングによりGe誘電
体膜を形成し1、さらに、旧めっきを行なって金属層を
形成する。次に、このAQ 、/ Ge、/ N iパ
イプを苛性ソーダに浸漬して^之のみをエツチングする
。こうし、てできたGe/Ni導波路は第3図に示す様
に片端に円錐形状を有し、レーザビームとの結合におい
て、結合損失が入射端近傍に集中することがなく、大パ
ワー伝送が可能となる9一般に、円形の中空導波路に励
振される夫々のモードの励振効率は、導波路半径aと導
波路入射端のレーザビームのスポットサイズWとの比w
7/aによって大きく異なる。第5図には横方向に軸ず
れがなくガウスビームを入射した時の円形の中空導波路
に励振されるHE、、モードの励振効率が示されている
。同図から明らかなように、般に円形の中空導波路のH
E、、モードのうち鼓も低損失なモードはIIE、、モ
ードであり、このモードはw、/a=0.64のとき最
大効率で励振される。
従って出射ビームをガウス分布にしたい時、或いは充分
長い導波路でHE、、モード以外のモードは減衰してし
まうような導波路では、w 、/ a = 0.64を
満足するように入射すればよい。しかしながら大電力伝
送を目的とした導波路のように、比較的短尺な導波路或
いは高次モードでも低損失である導波路では、w、/a
=0.64よりも小さいビーム径で入射させた方が中空
領域外にはみ出すパワーが少なくなるので、全パワーの
伝送容量が大きくなる9 二のように導波路の寸法、損失によって入射ビームのビ
ーム径はw7/ a = 0.64以下概し、て0.4
〜0.65の範囲でf&適となるようにしなければなら
ない。更に、励振効率を最大にするにはレンズ通過後の
光ビームのビームウェスト、即ちスポットサイズが最小
値となる部分の位置に、導波路入射端がくるようにしな
ければならない。
長い導波路でHE、、モード以外のモードは減衰してし
まうような導波路では、w 、/ a = 0.64を
満足するように入射すればよい。しかしながら大電力伝
送を目的とした導波路のように、比較的短尺な導波路或
いは高次モードでも低損失である導波路では、w、/a
=0.64よりも小さいビーム径で入射させた方が中空
領域外にはみ出すパワーが少なくなるので、全パワーの
伝送容量が大きくなる9 二のように導波路の寸法、損失によって入射ビームのビ
ーム径はw7/ a = 0.64以下概し、て0.4
〜0.65の範囲でf&適となるようにしなければなら
ない。更に、励振効率を最大にするにはレンズ通過後の
光ビームのビームウェスト、即ちスポットサイズが最小
値となる部分の位置に、導波路入射端がくるようにしな
ければならない。
上記実施例ではパイプを加熱したが、母材パイプを成形
する際に、パイプを加熱せず円錐針を加熱し、ても同様
な導波路を得ることができる。
する際に、パイプを加熱せず円錐針を加熱し、ても同様
な導波路を得ることができる。
母材パイプの円錐形状の作成方法とし、ては、前述した
以外にもめつき、鋳造、溶射、切削等がある9 実施例2 第4図はめっきによる例であり、10はC,r電極、1
1は浴槽、12は電解液を示す。実施例1の円錐針を用
いずにAQの線材パイプ14の片端をシール材13で閉
塞して浴槽11内の電解液(めっき浴)12に浸漬り1
、母材パイプ14を連結具15を介し、て、試料上下動
用の滑車9により引き上げながら、かつ引上げ速度を徐
々に遅くして片端に20の円錐形にC,rめっきし、円
錐部8を形成する9その際に、母材パイ1片端の浸漬と
引き上げを繰返し1.かつ浸漬領域を徐々に端部に制限
することにより円錐形状にする。以下、これを成型母材
パイプとし、て同様に加工すれば実施例1と同様な特性
の中空導波路を得ることができる9上記実施例1及び2
では母材パイプの片端のみを成型したが、片端のみでな
く両端を円錐形にすれば入射ビームをどちらから結合し
ても結合損失の小さな(双方向低結合損失)中空導波路
を得ることができる。
以外にもめつき、鋳造、溶射、切削等がある9 実施例2 第4図はめっきによる例であり、10はC,r電極、1
1は浴槽、12は電解液を示す。実施例1の円錐針を用
いずにAQの線材パイプ14の片端をシール材13で閉
塞して浴槽11内の電解液(めっき浴)12に浸漬り1
、母材パイプ14を連結具15を介し、て、試料上下動
用の滑車9により引き上げながら、かつ引上げ速度を徐
々に遅くして片端に20の円錐形にC,rめっきし、円
錐部8を形成する9その際に、母材パイ1片端の浸漬と
引き上げを繰返し1.かつ浸漬領域を徐々に端部に制限
することにより円錐形状にする。以下、これを成型母材
パイプとし、て同様に加工すれば実施例1と同様な特性
の中空導波路を得ることができる9上記実施例1及び2
では母材パイプの片端のみを成型したが、片端のみでな
く両端を円錐形にすれば入射ビームをどちらから結合し
ても結合損失の小さな(双方向低結合損失)中空導波路
を得ることができる。
第6図は、入射ビームのビーム径をW、/a=0.4〜
0.65の範囲で最適化させる装置例を示したもので、
便宜上、光導波路の端部のテーパ状態は省略しである。
0.65の範囲で最適化させる装置例を示したもので、
便宜上、光導波路の端部のテーパ状態は省略しである。
中空導波路21にレーザ光源22から出射したレーザビ
ームを入射させる少なくともレンズを使用したレーザビ
ーム入射光学系で、レンズL3は、その焦点距M f
3だけ中空導波路入射端よりレーザ光源2側に固定され
ている9レンスL3よりレーザ光源21!IIIに配置
したl/ンズL2とこのレンズL2より更にレーザ光源
2側に配置したレンズL1とはパルスモータ3の移動台
によって位置を可変し得る5レンズL+ L2をレン
ズL1に入射するレーザビームのビームウェストとレン
ズL1との距745.9 +の変化に応じ1、Q+−f
l (EJ L、A I2はL/7ズL+ 、12間の距離
1、Q 23はレンズL2 、L3との距離、f+
I2 faはレンズL+ 、L2 。
ームを入射させる少なくともレンズを使用したレーザビ
ーム入射光学系で、レンズL3は、その焦点距M f
3だけ中空導波路入射端よりレーザ光源2側に固定され
ている9レンスL3よりレーザ光源21!IIIに配置
したl/ンズL2とこのレンズL2より更にレーザ光源
2側に配置したレンズL1とはパルスモータ3の移動台
によって位置を可変し得る5レンズL+ L2をレン
ズL1に入射するレーザビームのビームウェストとレン
ズL1との距745.9 +の変化に応じ1、Q+−f
l (EJ L、A I2はL/7ズL+ 、12間の距離
1、Q 23はレンズL2 、L3との距離、f+
I2 faはレンズL+ 、L2 。
L3の焦点距離、
の関係を保つように光軸方向に自動的に移動するように
する。即ち、入射ビームのビーム径が最適ビーム径より
ずれている場合には距、Jt J + を変化させる。
する。即ち、入射ビームのビーム径が最適ビーム径より
ずれている場合には距、Jt J + を変化させる。
これはレーザ光源22を移動するか、或いは中空導波路
21及び入射光学系全体を移動させるか、或いはレンズ
L1のレーザ光源22側に適当なレンズを新たに挿入し
、レンズL1に入射するレーザビームウェストの位置を
変化させてもよい、しかしこの時も常に上式を満足しな
ければならず、Jll+の変化に応じてパルスモータ3
を駆動し7、レンズL+ 、L2の位置を変化さぜる9
そして中空導波路1の入射端の17−ザビームのスポッ
トサイズが中空導波路1の導波路半径の0.4〜0.6
5倍になるように、ビーム径を可変する。
21及び入射光学系全体を移動させるか、或いはレンズ
L1のレーザ光源22側に適当なレンズを新たに挿入し
、レンズL1に入射するレーザビームウェストの位置を
変化させてもよい、しかしこの時も常に上式を満足しな
ければならず、Jll+の変化に応じてパルスモータ3
を駆動し7、レンズL+ 、L2の位置を変化さぜる9
そして中空導波路1の入射端の17−ザビームのスポッ
トサイズが中空導波路1の導波路半径の0.4〜0.6
5倍になるように、ビーム径を可変する。
二のようにすることにより入射ビームのスポットサイズ
を広範囲にわたって任意に変換できる9二のため中空導
波路21に入射するビームのスポットサイズをi″1N
化し7、効率のよい励振が可能となり、特に大電力伝送
用導波路においても入射端の熱的損傷を抑えることがで
きる。
を広範囲にわたって任意に変換できる9二のため中空導
波路21に入射するビームのスポットサイズをi″1N
化し7、効率のよい励振が可能となり、特に大電力伝送
用導波路においても入射端の熱的損傷を抑えることがで
きる。
[発明の効果]
以上述べたように本発明によれば、中空導波路で光パワ
ーを伝送する際の、結合部での局部的な温度上昇とそれ
に伴う導波路の破損を防ぎ、大パワーを安定に伝送する
ことが可能となる。即ち、母材パイプの入射端を前述し
た様な入射ビームに対し、てゆるやかにモード コンフ
ァインメントが変化する円錐形の導波路とすることによ
って、結合損失の集中が避けられ、損失が導。
ーを伝送する際の、結合部での局部的な温度上昇とそれ
に伴う導波路の破損を防ぎ、大パワーを安定に伝送する
ことが可能となる。即ち、母材パイプの入射端を前述し
た様な入射ビームに対し、てゆるやかにモード コンフ
ァインメントが変化する円錐形の導波路とすることによ
って、結合損失の集中が避けられ、損失が導。
波路全体に分散するため、従来の構造で問題となった結
合損失の熱による大パワー伝送時の入射端の破損が抑制
される。
合損失の熱による大パワー伝送時の入射端の破損が抑制
される。
第1図は母材パイプ端部の成型に用いる円錐針の側面図
、第2図は円錐針を用いて母材パイプ端部を成形する工
程の断面図、第3図は本発明により製造した中空光導波
路を一部WI面にて示した斜視図、第4図は母材端部に
めっきを施して円錐形状に形成する場合の概略図、第5
図は中空導波路に入射するHE、、モードの励振効率を
示す図、第6図はレーザビーム入射光学系を例示した図
である。 図中、1はCL1円錐体、2は支持部、3は円錐針、4
は母材^ρパイプ、5はバーナ、6は旧金属層、7はQ
6誘電体層、8はC「めっきにより形成した円錐部、9
は試料上下動用かつ車、10はCr電極、11は浴槽、
12は電解液、13はシール材。 14は母材^党パイプ、15は連結具である9特許出願
人 日立電線株式会社 代理人弁理士 絹 谷 信 雄 第2図 第3 図 第4図
、第2図は円錐針を用いて母材パイプ端部を成形する工
程の断面図、第3図は本発明により製造した中空光導波
路を一部WI面にて示した斜視図、第4図は母材端部に
めっきを施して円錐形状に形成する場合の概略図、第5
図は中空導波路に入射するHE、、モードの励振効率を
示す図、第6図はレーザビーム入射光学系を例示した図
である。 図中、1はCL1円錐体、2は支持部、3は円錐針、4
は母材^ρパイプ、5はバーナ、6は旧金属層、7はQ
6誘電体層、8はC「めっきにより形成した円錐部、9
は試料上下動用かつ車、10はCr電極、11は浴槽、
12は電解液、13はシール材。 14は母材^党パイプ、15は連結具である9特許出願
人 日立電線株式会社 代理人弁理士 絹 谷 信 雄 第2図 第3 図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、外部金属層の内側に誘電体薄膜を形成してなる中空
導波路において、少なくとも前記中空光導波路の片端部
が広がり角 2θ=2λ/Kaπ(0.4≦K≦0.65)但し、2
a・・・中空光導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ状開口を有してなることを特徴とする中空光導
波路。 2、外部金属層の内側に誘電体薄膜を形成してなる中空
光導波路の製造方法において、少なくとも片端部外周に
広がり角 2θ=2λ/Kaπ(0.4≦K≦0.65)但し、2
a・・・中空光導波路の内径 λ・・・レーザビームの波長 のテーパ面を形成してなる成型母材パイプの外側に誘電
体薄膜を設け、さらにその外側に外部金属層を形成した
後、上記母材パイプをエッチング除去することを特徴と
する中空光導波路の製造方法。 3、前記成形母材パイプは、前記広がり角2θのテーパ
面を有する円錐体を、加熱した母材パイプ端部に押しあ
てて成型したものである請求項2記載の中空光導波路の
製造方法。 4、前記成型母材パイプは、母材パイプの端部をめつき
浴に浸漬し引上げるに際し、その引上げ速度を徐々に遅
くすることにより、前記広がり角2θのテーパ面を有す
るめつき層を形成したものである請求項2記載の中空光
導波路の製造方法。 5、前記成形母材パイプは、母材パイプの端部をめっき
浴に浸漬し引上げる動作を繰返すに際し、その浸漬領域
を徐々に先端部に制限することにより、前記広がり角2
θのテーパ面を有するめっき層を形成したものである請
求項2記載の中空光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63206432A JPH0255303A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | 中空光導波路及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63206432A JPH0255303A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | 中空光導波路及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0255303A true JPH0255303A (ja) | 1990-02-23 |
Family
ID=16523279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63206432A Pending JPH0255303A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | 中空光導波路及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0255303A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007192701A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Institute Of Physical & Chemical Research | 中空ファイバプローブ |
| US7723640B2 (en) | 2003-12-05 | 2010-05-25 | Branson Ultrasonics Corporation | Optical horned lightpipe or lightguide |
-
1988
- 1988-08-22 JP JP63206432A patent/JPH0255303A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7723640B2 (en) | 2003-12-05 | 2010-05-25 | Branson Ultrasonics Corporation | Optical horned lightpipe or lightguide |
| JP2007192701A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Institute Of Physical & Chemical Research | 中空ファイバプローブ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5729646A (en) | Optical hollow waveguide, method for fabricating the same, and laser transmission apparatus using the same | |
| US8720040B2 (en) | Method of manufacturing a hollow waveguide | |
| KR100348170B1 (ko) | 응집성의신축성중공사도파관및이의제조방법 | |
| US5005944A (en) | Hollow lightpipe and lightpipe tip using a low refractive index inner layer | |
| CA2051473C (en) | Hollow waveguide for ultraviolet wavelength region laser beams | |
| JPH0255303A (ja) | 中空光導波路及びその製造方法 | |
| Hongo et al. | Transmission of 1 kW‐class CO2 laser light through circular hollow waveguides for material processing | |
| Hongo et al. | Excitation dependent losses and temperature increase in various hollow waveguides at 10.6 μm | |
| US6546752B2 (en) | Method of making optical coupling device | |
| JP2006516810A (ja) | サイドポンプファイバレーザ | |
| CN115182046B (zh) | 一种制备倍半氧化物单晶光纤包层的方法 | |
| JP2633866B2 (ja) | 中空光導波路 | |
| JPH04174804A (ja) | 中空光導波路の接続方法 | |
| JPH08234026A (ja) | 中空導波路及びその製造方法並びにレーザ伝送装置 | |
| JP2001269355A (ja) | 医療用レーザ伝送装置 | |
| Shi et al. | New cyclic olefin polymer-coated silver hollow glass waveguides for the near-infrared to mid-infrared | |
| Shi et al. | Pilot beams for polymer-coated silver hollow glass fibers | |
| JPH0273311A (ja) | エネルギーガイド製造方法 | |
| JPH05188225A (ja) | 紫外レーザ光用中空導波管 | |
| Kobayashi et al. | Microstructured tube-leaky glass waveguide for delivery of high-powered Er: YAG laser | |
| Shi et al. | Polymer-coated hollow fibers for medical infrared lasers: fabrication, transmission, and end sealing | |
| JPH02162302A (ja) | 中空光導波路体とその製造方法 | |
| JP2599715B2 (ja) | 中空光導波路及びその製造方法 | |
| JPH0222482A (ja) | 中空導波路の製造方法 | |
| JP2827365B2 (ja) | 誘電体内装金属中空光導波路を用いたレーザ加工装置 |