JPH0257668B2 - - Google Patents
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- JPH0257668B2 JPH0257668B2 JP57038195A JP3819582A JPH0257668B2 JP H0257668 B2 JPH0257668 B2 JP H0257668B2 JP 57038195 A JP57038195 A JP 57038195A JP 3819582 A JP3819582 A JP 3819582A JP H0257668 B2 JPH0257668 B2 JP H0257668B2
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- JP
- Japan
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- needle
- circumferential groove
- needle assembly
- housing
- outlet opening
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/04—Preparation or injection of sample to be analysed
- G01N30/16—Injection
- G01N30/18—Injection using a septum or microsyringe
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/2226—Sampling from a closed space, e.g. food package, head space
- G01N2001/2229—Headspace sampling, i.e. vapour over liquid
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ハウジングが、前端部に側面出口開
口部を有する装置固定ニードルに対して可動性で
あり、かつニードルがその定位置にある時、制限
された掃気流がニードル及びハウジングの制限出
口を通つて流れる、特にガスクロマトグラフにお
いてヘツドスペース法により作動するサンプラー
用の、セルフシールダイヤフラムによりシーされ
たサンプル容器中へキヤリヤーガスを供給するた
めのニードルアセンブリに関する。
口部を有する装置固定ニードルに対して可動性で
あり、かつニードルがその定位置にある時、制限
された掃気流がニードル及びハウジングの制限出
口を通つて流れる、特にガスクロマトグラフにお
いてヘツドスペース法により作動するサンプラー
用の、セルフシールダイヤフラムによりシーされ
たサンプル容器中へキヤリヤーガスを供給するた
めのニードルアセンブリに関する。
平衡状態はダイヤフラムによりシールされたサ
ンプル容器中でサンプル液体上のヘツドスペース
中において得られ、この平衡状態においてヘツド
スペース中のサンプル成分の分圧は明らかにサン
プルの組成により決まる。ヘツドスペース法によ
り作動するサンプラーにおいて、ガスクロマトグ
ラフの分離カラムに与えられるサンプルはこのヘ
ツドスペースから取り出される。この目的のため
に、ニードルはセルフシールダイヤフラムを通し
て突き通される。このニードルはガスクロマトグ
ラフの注入ブロツクの入口に連結している。更
に、注入ブロツクはキヤリヤーガス導管に連結し
ている。遮断弁はこのキヤリヤーガス導管中に配
置されている。この遮断弁を開く時、最初にキヤ
リヤーガスはニードルを通つてシールされたサン
プル容器のヘツドスペースに流れ、キヤリヤーガ
ス圧はサンプル容器内に加わる。これはヘツドス
ペース中のサンプル成分の分圧に作用しない。そ
の後、遮断弁を閉じると注入ブロツク中のキヤリ
ヤーガス圧はなくなる。次いでガスサンプルはサ
ンプル容器中の上昇した圧力によりヘツドスペー
スから注入ブロツク中に圧縮される。はつきり定
義された時間後、遮断弁を再び開け、これにより
投与は終了し、注入ブロツクに達したガスサンプ
ルはキヤリヤーガス流によりガスクロマトグラフ
の分離カラムを通して搬送される。
ンプル容器中でサンプル液体上のヘツドスペース
中において得られ、この平衡状態においてヘツド
スペース中のサンプル成分の分圧は明らかにサン
プルの組成により決まる。ヘツドスペース法によ
り作動するサンプラーにおいて、ガスクロマトグ
ラフの分離カラムに与えられるサンプルはこのヘ
ツドスペースから取り出される。この目的のため
に、ニードルはセルフシールダイヤフラムを通し
て突き通される。このニードルはガスクロマトグ
ラフの注入ブロツクの入口に連結している。更
に、注入ブロツクはキヤリヤーガス導管に連結し
ている。遮断弁はこのキヤリヤーガス導管中に配
置されている。この遮断弁を開く時、最初にキヤ
リヤーガスはニードルを通つてシールされたサン
プル容器のヘツドスペースに流れ、キヤリヤーガ
ス圧はサンプル容器内に加わる。これはヘツドス
ペース中のサンプル成分の分圧に作用しない。そ
の後、遮断弁を閉じると注入ブロツク中のキヤリ
ヤーガス圧はなくなる。次いでガスサンプルはサ
ンプル容器中の上昇した圧力によりヘツドスペー
スから注入ブロツク中に圧縮される。はつきり定
義された時間後、遮断弁を再び開け、これにより
投与は終了し、注入ブロツクに達したガスサンプ
ルはキヤリヤーガス流によりガスクロマトグラフ
の分離カラムを通して搬送される。
サンプル容器からニードルを引き抜く時、ニー
ドルからキヤリヤーガスが更に制限されず流出す
るのを防止するために、ニードルはシリンダー中
で密閉して可動性であるピストン中に配置されて
いることは公知である（西ドイツ国特許出願第
1284660号明細書）。このシリンダーは制限出口を
包有し、サンプル容器に面している末端面でもう
１つのセルフシールダイヤフラムによりシールさ
れている。このピストンはこのピストンをこのセ
ルフシールダイヤフラムから遠ざかるように移動
させ、ニードルをシリンダーの内部に引き込むよ
うにする圧縮ばねによつて負荷されている。
ドルからキヤリヤーガスが更に制限されず流出す
るのを防止するために、ニードルはシリンダー中
で密閉して可動性であるピストン中に配置されて
いることは公知である（西ドイツ国特許出願第
1284660号明細書）。このシリンダーは制限出口を
包有し、サンプル容器に面している末端面でもう
１つのセルフシールダイヤフラムによりシールさ
れている。このピストンはこのピストンをこのセ
ルフシールダイヤフラムから遠ざかるように移動
させ、ニードルをシリンダーの内部に引き込むよ
うにする圧縮ばねによつて負荷されている。
公知装置において、ニードルは常に注入ブロツ
ク及びキヤリヤーガス導管に連結している。この
シリンダーはこの固定ニードルに関して縦方向の
移動に案内される。サンプル容器はそのセルフシ
ールダイヤフラムとシリンダーのもう１つのセル
フシールダイヤフラムによりシールされた末端面
で接合し、このサンプル容器は上に押し上げら
れ、この際シリンダーは押し戻され、ニードルは
両方のセルフシールダイヤフラムを通してサンプ
ル容器中に貫通する。その定位置において、掃気
流はニードルを通つて流れ、その強さはシリンダ
ーの出口の制限により決定されている。この掃気
流はニードル中で１つのサンプルから他のサンプ
ルに蒸気の汚染が起こらないことを確実にする。
ク及びキヤリヤーガス導管に連結している。この
シリンダーはこの固定ニードルに関して縦方向の
移動に案内される。サンプル容器はそのセルフシ
ールダイヤフラムとシリンダーのもう１つのセル
フシールダイヤフラムによりシールされた末端面
で接合し、このサンプル容器は上に押し上げら
れ、この際シリンダーは押し戻され、ニードルは
両方のセルフシールダイヤフラムを通してサンプ
ル容器中に貫通する。その定位置において、掃気
流はニードルを通つて流れ、その強さはシリンダ
ーの出口の制限により決定されている。この掃気
流はニードル中で１つのサンプルから他のサンプ
ルに蒸気の汚染が起こらないことを確実にする。
この公知装置において、シリンダーをシールす
るセルフシールダイヤフラムは各サンプル投与の
際に貫通されなければならない。一定回数のサン
プル投与の後、セルフシールダイヤフラムは破壊
されるので、このダイヤフラムを時々かえなけれ
ばならない。このセルフシールダイヤフラムの交
換の必要性は煩わしく、特にサンプル投与の自動
化を妨げる。
るセルフシールダイヤフラムは各サンプル投与の
際に貫通されなければならない。一定回数のサン
プル投与の後、セルフシールダイヤフラムは破壊
されるので、このダイヤフラムを時々かえなけれ
ばならない。このセルフシールダイヤフラムの交
換の必要性は煩わしく、特にサンプル投与の自動
化を妨げる。
公知のニードルアセンブリにおいて、セルフシ
ールダイヤフラムの破壊は横方向の孔によつて形
成された側面出口開口部の角によつてさらに助長
されている。
ールダイヤフラムの破壊は横方向の孔によつて形
成された側面出口開口部の角によつてさらに助長
されている。
公知のニードルアセンブリにおいて、このニー
ドルはセルフシールダイヤフラムによりシールさ
れたシリンダーと共にシンダー室を形成するピス
トン中に装置されており、該シリンダー室は制限
出口によつてのみ大気と連結している。この室中
に生じたガスクツシヨンはシリンダーを上に引き
あげるのに逆らう。従つて、実際には電磁弁によ
り制限される他の出口を備えており、この出口は
シリンダーを引き上げる際に開く。
ドルはセルフシールダイヤフラムによりシールさ
れたシリンダーと共にシンダー室を形成するピス
トン中に装置されており、該シリンダー室は制限
出口によつてのみ大気と連結している。この室中
に生じたガスクツシヨンはシリンダーを上に引き
あげるのに逆らう。従つて、実際には電磁弁によ
り制限される他の出口を備えており、この出口は
シリンダーを引き上げる際に開く。
西ドイツ国特許公開第2815023号公報によれば、
ニードルが固定したハウジング内で縦方向に案内
されるニードルアセンブリは公知である。このニ
ードルはその先端から離れたニードル部分に側面
入口開口部を有し、この開口部はグラフアイトシ
ールを貫通して移動し、非制限キヤリヤーガス導
管と、又は制限キヤリヤーガス流が掃気流として
導入されている室と連結している。この公知のニ
ードルアセンブリにおいては、“掃気流”への交
換はこのようにニードルの出口側ではなく入口側
で行なわれている。この公知のニードルアセンブ
リは可動性のニードルを必要とし、これは多くの
場合に不利である。更に、制限ガス導管、及びそ
れと別の非制限ガス導管を必要とするので、これ
は構造を複雑にする。
ニードルが固定したハウジング内で縦方向に案内
されるニードルアセンブリは公知である。このニ
ードルはその先端から離れたニードル部分に側面
入口開口部を有し、この開口部はグラフアイトシ
ールを貫通して移動し、非制限キヤリヤーガス導
管と、又は制限キヤリヤーガス流が掃気流として
導入されている室と連結している。この公知のニ
ードルアセンブリにおいては、“掃気流”への交
換はこのようにニードルの出口側ではなく入口側
で行なわれている。この公知のニードルアセンブ
リは可動性のニードルを必要とし、これは多くの
場合に不利である。更に、制限ガス導管、及びそ
れと別の非制限ガス導管を必要とするので、これ
は構造を複雑にする。
従つて、本発明の課題はハウジングのセルフシ
ールダイヤフラムも、ハウジングを引き上げる際
に開く電磁弁も取り除くことのできる、前記種類
のニードルアセンブリを形成することである。
ールダイヤフラムも、ハウジングを引き上げる際
に開く電磁弁も取り除くことのできる、前記種類
のニードルアセンブリを形成することである。
この課題は、ニードルがハウジング孔中に案内
されており、かつ側面出口通路がハウジング孔か
ら分岐しており、この出口通路は定位置において
ニードルの側面出口と連結しており、かつこの出
口通路はレストリクターを介して大気と連結して
いるということにより達せられる。
されており、かつ側面出口通路がハウジング孔か
ら分岐しており、この出口通路は定位置において
ニードルの側面出口と連結しており、かつこの出
口通路はレストリクターを介して大気と連結して
いるということにより達せられる。
定位置において、このニードルはハウジング孔
中に存在し、出口通路に連結しており、かつレス
トリクターを介して大気と連結している。配置し
た、セルフシールダイヤフラムによりシールされ
たサンプル容器によりハウジングを押し上げる
際、ニードルはダイヤフラムを貫通し、側面出口
開口部はハウジング孔から出て、ダイヤフラムが
そこを通つて押し上げられた後、サンプル容器の
内側に開口する。
中に存在し、出口通路に連結しており、かつレス
トリクターを介して大気と連結している。配置し
た、セルフシールダイヤフラムによりシールされ
たサンプル容器によりハウジングを押し上げる
際、ニードルはダイヤフラムを貫通し、側面出口
開口部はハウジング孔から出て、ダイヤフラムが
そこを通つて押し上げられた後、サンプル容器の
内側に開口する。
更に、本発明のその他の実施態様は次のように
なつている。前記ニードルアセンブリにおいて、
相互に間隔を開けて配置された２個のシール環が
ニードルの周囲に設けられており、これらシール
環はニードルとハウジング孔の間をシールし、か
つこれらシール環の間で出口通路が分岐してお
り、及び／又はこれらシール環がＯ−環により形
成されており、及び／又はレストリクターが調整
ニードル弁であり、及び／又はニードルが円周溝
を有し、かつ側面出口開口部が円周溝の底にあ
り、円周溝の側壁は円周溝が外に向かつて広くな
るように面取りされており、及び／又は円周溝の
角が丸められ、みがかれている。
なつている。前記ニードルアセンブリにおいて、
相互に間隔を開けて配置された２個のシール環が
ニードルの周囲に設けられており、これらシール
環はニードルとハウジング孔の間をシールし、か
つこれらシール環の間で出口通路が分岐してお
り、及び／又はこれらシール環がＯ−環により形
成されており、及び／又はレストリクターが調整
ニードル弁であり、及び／又はニードルが円周溝
を有し、かつ側面出口開口部が円周溝の底にあ
り、円周溝の側壁は円周溝が外に向かつて広くな
るように面取りされており、及び／又は円周溝の
角が丸められ、みがかれている。
本発明の実施例を添付図面に関し、詳細に説明
する。
する。
第１図はニードルアセンブリの断面図を示し、
第２図は第１図の“Ｘ”の部分の詳細を拡大尺度
で示している。
第２図は第１図の“Ｘ”の部分の詳細を拡大尺度
で示している。
第１図中には１０としてニードルを図示し、こ
のニードルはガスクロマトグラフの注入ブロツク
１２中に固定して保持されている。ニードル１０
は縦方向の通路１４を通し、これを通してキヤリ
ヤーガス通路１６と注入ブロツク１２中で連結し
ている。縦方向通路１４はニードル１０の横方向
の孔に連結している。この横方向の孔は側面出口
開口部１８を形成する。先端部２０はニードルの
末端部に位置する。この先端部２０は末端部材２
２上に存在し、この部材２２は縦方向の孔１４の
拡張部中に押し込まれており、縦方向の孔１４は
その末端面で閉じられている。こうして、キヤリ
ヤーガスはキヤリヤーガス通路１６から縦方向の
孔１４を通り、出口開口部１８を側面方向に流出
する。
のニードルはガスクロマトグラフの注入ブロツク
１２中に固定して保持されている。ニードル１０
は縦方向の通路１４を通し、これを通してキヤリ
ヤーガス通路１６と注入ブロツク１２中で連結し
ている。縦方向通路１４はニードル１０の横方向
の孔に連結している。この横方向の孔は側面出口
開口部１８を形成する。先端部２０はニードルの
末端部に位置する。この先端部２０は末端部材２
２上に存在し、この部材２２は縦方向の孔１４の
拡張部中に押し込まれており、縦方向の孔１４は
その末端面で閉じられている。こうして、キヤリ
ヤーガスはキヤリヤーガス通路１６から縦方向の
孔１４を通り、出口開口部１８を側面方向に流出
する。
従来公知の装置に使用されるニードルに比較し
て、ニードル１０はいくらか厚い壁を有してい
る。公知の装置において外径１mmを有するニード
ルを使用していたが、ニードル１０は有利に1.5
mmの外径を有する。しかしながら、ニードル１０
は出口開口部１８の範囲に円周溝２４を有する。
側面出口開口部１８は円周溝２４の底にある。円
周溝の側壁２６及び２８は円周溝２４が外側に向
かつて広くなるように面取りされている。円周溝
の角は丸くされ、みがかれている。
て、ニードル１０はいくらか厚い壁を有してい
る。公知の装置において外径１mmを有するニード
ルを使用していたが、ニードル１０は有利に1.5
mmの外径を有する。しかしながら、ニードル１０
は出口開口部１８の範囲に円周溝２４を有する。
側面出口開口部１８は円周溝２４の底にある。円
周溝の側壁２６及び２８は円周溝２４が外側に向
かつて広くなるように面取りされている。円周溝
の角は丸くされ、みがかれている。
ハウジング３０はハウジング孔３２を有する。
ハウジング孔３２は相互に間隔を有する２つの環
状溝３４，３６により取り巻かれており、この中
にはシール環３８及び４０がそれぞれＯ−環の形
で保持されている。側面出口通路４２はシール環
３８及び４０の間でハウジング孔３２から分岐し
ている。出口通路４２はレストリクター４４を通
つて大気と連結している。この目的のために、出
口通路４２はハウジング孔３２に平行な盲孔４６
に終わる。ニードル弁の形の調整レストリクター
４４はこの盲孔４６中に設置されている。
ハウジング孔３２は相互に間隔を有する２つの環
状溝３４，３６により取り巻かれており、この中
にはシール環３８及び４０がそれぞれＯ−環の形
で保持されている。側面出口通路４２はシール環
３８及び４０の間でハウジング孔３２から分岐し
ている。出口通路４２はレストリクター４４を通
つて大気と連結している。この目的のために、出
口通路４２はハウジング孔３２に平行な盲孔４６
に終わる。ニードル弁の形の調整レストリクター
４４はこの盲孔４６中に設置されている。
ニードル１０はハウジング孔３２を通してのび
ている。シール環３８はニードル１０の外表面と
密に接しており、これによりニードル１０及びハ
ウジング孔３２間はシールされている。ハウジン
グ３０は、二重矢印４８により示されているよう
に、ニードル１０に平行に可動性に案内されてい
る。第１図に示した定位置において、出口開口部
１０はシール環３８及び４０の間に位置してい
る。この開口部は円周溝２４を通して出口通路４
２に連結する。
ている。シール環３８はニードル１０の外表面と
密に接しており、これによりニードル１０及びハ
ウジング孔３２間はシールされている。ハウジン
グ３０は、二重矢印４８により示されているよう
に、ニードル１０に平行に可動性に案内されてい
る。第１図に示した定位置において、出口開口部
１０はシール環３８及び４０の間に位置してい
る。この開口部は円周溝２４を通して出口通路４
２に連結する。
セルフシールダイヤフラムによりシールされた
サンプル容器４３を第１図中、下からハウジング
３０に対し押すと、ハウジング３０は固定したニ
ードル１０に対して上方に移動する。ニードル１
０はその先端２０でサンプル容器のダイヤフラム
を貫通する。シール環３６はニードル１０の出口
開口部１８上を通過し移動する。出口開口部はダ
イヤフラムを通過し、サンプル容器中に入る。キ
ヤリヤーガス通路１６は縦方向通路１４及び出口
開口部１８を介してサンプル容器のヘツドスペー
スと制限されずに結合する。
サンプル容器４３を第１図中、下からハウジング
３０に対し押すと、ハウジング３０は固定したニ
ードル１０に対して上方に移動する。ニードル１
０はその先端２０でサンプル容器のダイヤフラム
を貫通する。シール環３６はニードル１０の出口
開口部１８上を通過し移動する。出口開口部はダ
イヤフラムを通過し、サンプル容器中に入る。キ
ヤリヤーガス通路１６は縦方向通路１４及び出口
開口部１８を介してサンプル容器のヘツドスペー
スと制限されずに結合する。
このニードルアセンブリは特にサンプル装入の
自動化に好適である。このニードルアセンブリに
は連続操作において負荷され、消耗部分を形成す
るセルフシールダイヤフラムはない。セルフシー
ルダイヤフラムはサンプル容器上にのみ存在す
る。しかしながら、ここでは各サンプル投与にお
いて、常にダイヤフラムが貫通される。
自動化に好適である。このニードルアセンブリに
は連続操作において負荷され、消耗部分を形成す
るセルフシールダイヤフラムはない。セルフシー
ルダイヤフラムはサンプル容器上にのみ存在す
る。しかしながら、ここでは各サンプル投与にお
いて、常にダイヤフラムが貫通される。
その側壁２６及び２８が面取りされており、そ
の角は丸められ、みがかれている円周溝２４の底
に側面出口開口部１８を配置することにより、出
口開口部１８によるシール環３６の損傷又は消耗
は回避される。サンプル容器のセルフシールダイ
ヤフラムも痛めない。
の角は丸められ、みがかれている円周溝２４の底
に側面出口開口部１８を配置することにより、出
口開口部１８によるシール環３６の損傷又は消耗
は回避される。サンプル容器のセルフシールダイ
ヤフラムも痛めない。
ニードル１０のハウジング孔３２に沿つた動き
により、封入されたガス容積は圧縮されない。従
つて、出口通路４２は、例えば公知装置における
シリンダー室のように付加的な電磁弁により通気
する必要はない。
により、封入されたガス容積は圧縮されない。従
つて、出口通路４２は、例えば公知装置における
シリンダー室のように付加的な電磁弁により通気
する必要はない。
比較的短かいニードルを備える単純でコンパク
トな装置が得られる。これにより、このニードル
は公知の装置におけるように分離したヒーターに
より加熱する必要はなく、注入ブロツク１２の熱
伝導により加熱される。これにより構造は単純化
し、ニードルの交換は容易になつた。
トな装置が得られる。これにより、このニードル
は公知の装置におけるように分離したヒーターに
より加熱する必要はなく、注入ブロツク１２の熱
伝導により加熱される。これにより構造は単純化
し、ニードルの交換は容易になつた。
第１図はニードルアセンブリの断面図を示し、
第２図は第１図の“Ｘ”の部分の詳細を拡大して
示している。 １０……ニードル、１２……注入ブロツク、１
４……縦方向通路、１６……キヤリヤーガス通
路、１８……側面出口開口部、２０……先端部、
２２……末端部材、２４……円周溝、３０……ハ
ウジング、３２……ハウジング孔、３４，３６…
…環状溝、３８，４０……シール環、４２……出
口通路、４３……サンプル容器、４４……レスト
リクター、４６……盲孔、４８……二重矢印。
第２図は第１図の“Ｘ”の部分の詳細を拡大して
示している。 １０……ニードル、１２……注入ブロツク、１
４……縦方向通路、１６……キヤリヤーガス通
路、１８……側面出口開口部、２０……先端部、
２２……末端部材、２４……円周溝、３０……ハ
ウジング、３２……ハウジング孔、３４，３６…
…環状溝、３８，４０……シール環、４２……出
口通路、４３……サンプル容器、４４……レスト
リクター、４６……盲孔、４８……二重矢印。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ハウジング３０が、前端部に側面出口開口部
１８を有する装置固定ニードル１０に対して可動
性であり、かつニードル１０がその定位置にある
時、制限された掃気流がニードル及びハウジング
３０の制限出口を通つて流れる、セルフシールダ
イヤフラムによりシールされたサンプル容器中に
キアリヤーガスを供給するためのニードルアセン
ブリにおいて、 (a) ニードル１０がハウジング孔３２中に案内さ
れており、かつ (b) ハウジング孔３２から側面出口通路４２が分
岐しており、（b1）この出口通路は定位置にお
いてニードル１０の側面出口開口部１８と連結
しており、かつ（b2）この出口通路はレストリ
クター４４を介して大気と連結していることを
特徴とするセルフシールダイヤフラムによりシ
ールされたサンプル容器中へキヤリヤーガスを
供給するためのニードルアセンブリ。 ２ レストリクター４４が調整ニードル弁である
特許請求の範囲第１項記載のニードルアセンブ
リ。 ３ (a) ニードル１０が円周溝２４を有し、かつ (b) 側面出口開口部１８が円周溝２４の底にある
特許請求の範囲第１項又は第２項記載のニード
ルアセンブリ。 ４ 円周溝２４の側壁２６，２８は円周溝２４が
外に向かつて広くなるように面取りされている特
許請求の範囲第３項記載のニードルアセンブリ。 ５ 円周溝２４の角が丸められ、みがかれている
特許請求の範囲第３項又は第４項に記載のニード
ルアセンブリ。 ６ ハウジング３０が、前端部に側面出口開口部
１８を有する装置固定ニードル１０に対して可動
性であり、かつニードル１０がその定位置にある
時、制限された掃気流がニードル及びハウジング
３０の制限出口を通つて流れる、セルフシールダ
イヤフラムによりシールされたサンプル容器中に
キヤリヤーガスを供給するためのニードルアセン
ブリにおいて、 (a) ニードル１０がハウジング孔３２中に案内さ
れており、かつ (b) ハウジング孔３２から側面出口通路４２が分
岐しており、（b1）この出口通路は定位置にお
いてニードル１０の側面出口開口部１８と連結
しており、かつ（b2）この出口通路はレストリ
クター４４を介して大気と連結しており、相互
に間隔を開けて配置された２個のシール環３
８，４０がニードル１０の周囲に設けられてお
り、これらシール環はニードル１０とハウジン
グ孔３２の間をシールし、かつこれらシール環
の間で出口通路４２が分岐していることを特徴
とするセルフシールダイヤフラムによりシール
されたサンプル容器中へキヤリヤーガスを供給
するためのニードルアセンブリ。 ７ シール環３８，４０がＯ−環により形成され
ている特許請求の範囲第６項記載のニードルアセ
ンブリ。 ８ レストリクター４４が調整ニードル弁である
特許請求の範囲第６項又は第７項記載のニードル
アセンブリ。 ９ (a) ニードル１０が円周溝２４を有し、かつ (b) 側面出口開口部１８が円周溝２４の底にある
特許請求の範囲第６項〜第８項のいずれか１項
に記載のニードルアセンブリ。 １０ 円周溝２４の側壁２６，２８は円周溝２４
が外に向かつて広くなるように面取りされている
特許請求の範囲第９項記載のニードルアセンブ
リ。 １１ 円周溝２４の角が丸められ、みがかれてい
る特許請求の範囲第９項又は第１０項記載のニー
ドルアセンブリ。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3109616A DE3109616C2 (de) | 1981-03-13 | 1981-03-13 | Stechkanülenanordnung insbesondere für einen nach der Dampfraummethode arbeitenden Probengeber in der Gaschromatographie |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57211063A JPS57211063A (en) | 1982-12-24 |
| JPH0257668B2 true JPH0257668B2 (ja) | 1990-12-05 |
Family
ID=6127120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57038195A Granted JPS57211063A (en) | 1981-03-13 | 1982-03-12 | Needle assembly for supplying carrier gas into sample vessel sealed by self-sealing diaphragm |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4484483A (ja) |
| JP (1) | JPS57211063A (ja) |
| DE (1) | DE3109616C2 (ja) |
| GB (1) | GB2094659B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| CN107702949A (zh) * | 2017-08-15 | 2018-02-16 | 杭州臻盛科技有限公司 | 顶空取样针以及取样方法 |
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| DE2815023A1 (de) * | 1978-04-07 | 1979-10-25 | Bodenseewerk Perkin Elmer Co | Stechkanuelenanordnung insbesondere fuer einen nach der dampfraummethode arbeitenden probengeber in der gaschromatographie |
-
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- 1981-03-13 DE DE3109616A patent/DE3109616C2/de not_active Expired
-
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- 1982-03-03 US US06/354,409 patent/US4484483A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-03-12 JP JP57038195A patent/JPS57211063A/ja active Granted
Also Published As
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