JPH0257717A - 直動ステージガイドバー減衰機構 - Google Patents

直動ステージガイドバー減衰機構

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JPH0257717A
JPH0257717A JP63207384A JP20738488A JPH0257717A JP H0257717 A JPH0257717 A JP H0257717A JP 63207384 A JP63207384 A JP 63207384A JP 20738488 A JP20738488 A JP 20738488A JP H0257717 A JPH0257717 A JP H0257717A
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JP
Japan
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guide bar
stage guide
damping mechanism
vibration
direct
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Pending
Application number
JP63207384A
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English (en)
Inventor
Kaname Furukawa
古川 要
Shinkichi Okawa
大河 真吉
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH0257717A publication Critical patent/JPH0257717A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

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  • Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は半導体焼付装置等振動の除去または防止を必要
とする精密機器に用いられる直動ステージのガイドバー
に関するものである。
[従来の技術] 従来直動ステージのガイドバーとして例えば特開昭62
−63218号に記載されているように円柱の棒(中実
丸棒)が使用されていた。
[発明が解決しようとする問題点コ しかしながら従来の円柱棒のガイドバーの場合、振動に
対する減衰性がきわめて悪く、精密機器に使用する際の
大きな欠点になっていた。
[問題点を解決するための手段および作用]本発明はガ
イドバーとして中空のパイプ状の物を使用し、内部に砂
、防振ゴム等減衰性の高い物質を封入することにより、
減衰効果を高めたものである。
[実施例] 第1図は本発明に係る直動ステージガイドバー減衰機構
の断面図である。
第1図において1は円柱状の中空パイプ、2は蓋、3は
パイプ内に封入した物質をシールするための0リング等
シール部材、4は砂等防振効果のある物質からなる振動
減衰材料である。
振動減衰材料としては砂の他にゴム、プラスチックその
他の適当な材料を用いることができる。
中空パイプ1は第2図に示すように円形断面であるが、
これに限らず三角形、四角形等の角形断面であってもよ
い。
[発明の効果] 以上説明したように、直動ステージのガイドバーとして
、中空のパイプを用い内部に砂等の防振効果のある物質
を封入することにより、ステージの減衰性を高めること
ができる。したがって、半導体露光装置等の精密機器に
用いれば高精度の移動位置決め制御が円滑かつ迅速に達
成される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る直動ステージガイドバー減衰機構
の断面図、第2図は第1図のA−A断面図である。 1:中空パイプ、 2:蓋、 3:0リング、 4:振動減衰材料。 特許出願人   キャノン株式会社 代理人 弁理士   伊 東 哲 也 代理人 弁理士   伊 東 辰 雄

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)中空パイプと該中空パイプ内に封入した振動減衰
    材料からなることを特徴とする直動ステージガイドバー
    減衰機構。
  2. (2)前記中空パイプは円形断面であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の直動ステージガイドバー
    減衰機構。
  3. (3)前記中空パイプは角形断面であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の直動ステージガイドバー
    減衰機構。
  4. (4)前記振動減衰材料は砂からなることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の直動ステージガイドバー減
    衰機構。
  5. (5)前記振動減衰材料はゴムからなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の直動ステージガイドバー
    減衰機構。
  6. (6)前記中空パイプ端部はシール手段を介して蓋によ
    り封止されたことを特徴とする特許請求の範囲第1項か
    ら第5項までのいずれか1項記載の直動ステージガイド
    バー減衰機構。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0628402U (ja) * 1992-09-16 1994-04-15 エヌティエヌ株式会社 送りねじ装置
JP2005064474A (ja) * 2003-07-31 2005-03-10 Canon Inc 位置決め機構、露光装置及びデバイスの製造方法
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JP2013050722A (ja) * 2005-07-14 2013-03-14 Carl Zeiss Smt Gmbh 光学素子
US8705185B2 (en) 2005-07-14 2014-04-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element

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