JPH0258724A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0258724A JPH0258724A JP63210233A JP21023388A JPH0258724A JP H0258724 A JPH0258724 A JP H0258724A JP 63210233 A JP63210233 A JP 63210233A JP 21023388 A JP21023388 A JP 21023388A JP H0258724 A JPH0258724 A JP H0258724A
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- JP
- Japan
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- recording medium
- magnetic
- film
- magnetic recording
- thin film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気記録媒体、特に磁気記録層が薄膜であるよ
うな磁気記録媒体に関するものである。
うな磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
近年、磁気記録媒体はＡＶ関連分野の記録媒体のほとん
どを占め、また情報処理によるメモリー関連分野におい
ても、半導体とならんで主流を占めている。しかもこれ
らの分野は最近とみに発展が著しく、高い記録密度、高
い信転性、低いコスト等さまざまな優れた特性が求めら
れている。
どを占め、また情報処理によるメモリー関連分野におい
ても、半導体とならんで主流を占めている。しかもこれ
らの分野は最近とみに発展が著しく、高い記録密度、高
い信転性、低いコスト等さまざまな優れた特性が求めら
れている。
従来、多種の磁性材料がテープ・ディスク・カード等、
多様な形態で使用されている。そして磁気記録媒体とし
ては磁性酸化鉄粉の塗布膜が主流を占め、記録密度の点
でもかなり向上してきている。しかし上記媒体は、樹脂
の中に酸化鉄を分散させた不連続膜であるため、記録密
度や信号品質（Ｓ／Ｎ特性）の面で本質的に不利である
。そのためコバルト・鉄・クロム等を成分とする金属薄
膜が、メタルビデオテープあるいはスパッタ型／Ｓ−ド
ディスク等の形で、かなり利用されてきている。
多様な形態で使用されている。そして磁気記録媒体とし
ては磁性酸化鉄粉の塗布膜が主流を占め、記録密度の点
でもかなり向上してきている。しかし上記媒体は、樹脂
の中に酸化鉄を分散させた不連続膜であるため、記録密
度や信号品質（Ｓ／Ｎ特性）の面で本質的に不利である
。そのためコバルト・鉄・クロム等を成分とする金属薄
膜が、メタルビデオテープあるいはスパッタ型／Ｓ−ド
ディスク等の形で、かなり利用されてきている。
上記の記録媒体として用いられる金属薄膜媒体において
は、磁気特性の面で酸化物系材料より優れているが、大
気中では水分や酸素の作用により徐々に腐蝕され劣化し
てゆくという欠点を持っている。そのため実用に供すた
めには、表面に有機物や非磁性酸化物等の層をコーティ
ングする等の方法により、耐蝕性を向上させる方法を講
じなければならない（例えば特開昭５８−１８９８２７
号公報・特開昭６２−２９３５０９号公報）。これは工
程を増やし、コストの面で不利となるなどの問題点があ
る。
は、磁気特性の面で酸化物系材料より優れているが、大
気中では水分や酸素の作用により徐々に腐蝕され劣化し
てゆくという欠点を持っている。そのため実用に供すた
めには、表面に有機物や非磁性酸化物等の層をコーティ
ングする等の方法により、耐蝕性を向上させる方法を講
じなければならない（例えば特開昭５８−１８９８２７
号公報・特開昭６２−２９３５０９号公報）。これは工
程を増やし、コストの面で不利となるなどの問題点があ
る。
一方窒化鉄や炭化鉄は化学的に安定である上に磁気特性
も金属系材料に比肩するものが報告されている。これら
は軟磁性的であり、共に高い飽和磁化を有しており、ヘ
ッド材料などの分野では盛んに研究されている。（例え
ば特開昭６０２５０１２号公報・特開昭６２−２９７４
３７号公報） 発明が解決しようとする課題 しかしながら酸化鉄を除く、炭化鉄や窒化鉄等の鉄の化
合物の磁気記録媒体としての研究は、比較的少なく、記
録媒体として実用に耐えるほど高保磁力の炭化鉄はまだ
報告されていない。
も金属系材料に比肩するものが報告されている。これら
は軟磁性的であり、共に高い飽和磁化を有しており、ヘ
ッド材料などの分野では盛んに研究されている。（例え
ば特開昭６０２５０１２号公報・特開昭６２−２９７４
３７号公報） 発明が解決しようとする課題 しかしながら酸化鉄を除く、炭化鉄や窒化鉄等の鉄の化
合物の磁気記録媒体としての研究は、比較的少なく、記
録媒体として実用に耐えるほど高保磁力の炭化鉄はまだ
報告されていない。
本発明は、本来は低保磁力な物質である炭化鉄を高保磁
力化させることにより（１）連続膜である薄膜型であり
（２）金属系材料と同等以上の磁気的特性をもち（３）
酸化鉄と同等以上の化学的な安定性を備えもつ、という
３つの条件を兼ね備えた磁気記録媒体を提供することを
目的としている。
力化させることにより（１）連続膜である薄膜型であり
（２）金属系材料と同等以上の磁気的特性をもち（３）
酸化鉄と同等以上の化学的な安定性を備えもつ、という
３つの条件を兼ね備えた磁気記録媒体を提供することを
目的としている。
課題を解決するための手段
上記の目的を達成するために本発明の磁気記録媒体にお
いては、主なる成分としてＦｅ５Ｃ又はＦｅ５Ｃ２又は
Ｆｅ２Ｃ又はそれらのうちの複数を含有した薄膜に微小
な粒界を形成することによって、本来は低保磁力な物質
である炭化鉄を高保磁力化させる。
いては、主なる成分としてＦｅ５Ｃ又はＦｅ５Ｃ２又は
Ｆｅ２Ｃ又はそれらのうちの複数を含有した薄膜に微小
な粒界を形成することによって、本来は低保磁力な物質
である炭化鉄を高保磁力化させる。
作用
上記のように構成された磁気記録媒体は、本来高飽和磁
束・低保磁力で空気中で安定な物質である炭化鉄を、柱
状あるいは塊状の構造を持った薄膜とすることにより構
造的に磁気特性を改良し、高保磁力の薄膜となる。これ
は記録密度・信号品質の他に、信幀性をも備えた磁気記
録媒体を実現することとなる。
束・低保磁力で空気中で安定な物質である炭化鉄を、柱
状あるいは塊状の構造を持った薄膜とすることにより構
造的に磁気特性を改良し、高保磁力の薄膜となる。これ
は記録密度・信号品質の他に、信幀性をも備えた磁気記
録媒体を実現することとなる。
実施例
以下本発明の第一の実施例の磁気記録媒体について、図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の磁気記録媒体の製造装置の一例を示す
ものである。第１図において、マイクロ波発生装置１か
ら２．４５ＧＨｚのマイクロ波が導波管２によりＥＣＲ
プラズマ室３に供給される。窒素元素を含むプラズマ発
生用ガスは、ガス供給管４によりプラズマ室３に送られ
る。電磁石コイル５によりプラズマ室のあたりで８７５
Ｇａｕｓｓ程度の強さを持ち、反応室６の方に開いた
発散磁界が形成される。この磁場と高周波電界が電子サ
イクロトロン共鳴（ＥＣＲ）を起し、効率良く発生した
プラズマが発散磁界により反応室６に輸送される。
ものである。第１図において、マイクロ波発生装置１か
ら２．４５ＧＨｚのマイクロ波が導波管２によりＥＣＲ
プラズマ室３に供給される。窒素元素を含むプラズマ発
生用ガスは、ガス供給管４によりプラズマ室３に送られ
る。電磁石コイル５によりプラズマ室のあたりで８７５
Ｇａｕｓｓ程度の強さを持ち、反応室６の方に開いた
発散磁界が形成される。この磁場と高周波電界が電子サ
イクロトロン共鳴（ＥＣＲ）を起し、効率良く発生した
プラズマが発散磁界により反応室６に輸送される。
原料であるフェロセンは気化器７内で所定の蒸気圧の温
度に保たれ、キャリアガス管８より注入されるアルゴン
ガス等のキャリアガスによって、ノズル９より反応室６
に供給される。フェロセン蒸気の量は、気化器の温度と
キャリアガス管を流れるキャリアガスの量によって調節
される。また気化器７からノズル９までの経路は、途中
でフェロセンが再結晶するのを防ぐため、シーズヒータ
ー１０により、気化器よりも二側程度高い温度に保たれ
ている。ノズル９より供給されたフェロセンは発散磁界
によって輸送されてきたＥＣＲプラズマによって分解・
励起され、基板１１上に炭化鉄となって堆積する。
度に保たれ、キャリアガス管８より注入されるアルゴン
ガス等のキャリアガスによって、ノズル９より反応室６
に供給される。フェロセン蒸気の量は、気化器の温度と
キャリアガス管を流れるキャリアガスの量によって調節
される。また気化器７からノズル９までの経路は、途中
でフェロセンが再結晶するのを防ぐため、シーズヒータ
ー１０により、気化器よりも二側程度高い温度に保たれ
ている。ノズル９より供給されたフェロセンは発散磁界
によって輸送されてきたＥＣＲプラズマによって分解・
励起され、基板１１上に炭化鉄となって堆積する。
１２は真空排気の為の装置、１３は例えばアルゴンガス
ポンベ、１４は電磁石のコイルを冷却するための冷却水
の配管である。
ポンベ、１４は電磁石のコイルを冷却するための冷却水
の配管である。
第２図、第３図は高保磁力を有した炭化鉄薄膜が持つ、
二つの特徴的な膜構造を示したものであり、第２図に示
した磁性層２１が塊状構造・第３図に示した磁性層２２
が柱状構造、２３はアルミニウム等の基板である。上記
の二つの微細構造により炭化鉄薄膜が構造磁気異方性を
持つことによって、高い保磁力を持った磁性薄膜かえら
れるとかんかえられる。
二つの特徴的な膜構造を示したものであり、第２図に示
した磁性層２１が塊状構造・第３図に示した磁性層２２
が柱状構造、２３はアルミニウム等の基板である。上記
の二つの微細構造により炭化鉄薄膜が構造磁気異方性を
持つことによって、高い保磁力を持った磁性薄膜かえら
れるとかんかえられる。
第１図の製造装置を用いて、反応室の圧力を変化させた
場合の生成膜の諸特性を、第１表にしめした。
場合の生成膜の諸特性を、第１表にしめした。
（以 下 余 白）
第１表は、第１図の製造装置を用いて反応室の圧力を変
化させた場合の、生成膜の諸特性を示した表である。
化させた場合の、生成膜の諸特性を示した表である。
第１表において、膜厚・コラム径・保磁力・飽和磁化・
抵抗率等に試料間でばらつきが有ったため、５つの試料
の平均を有効数字２桁で記載しである。磁性層中の生成
物の解析は、銅のにα線を用いたＸ線回折法および鉄同
位体（Ｆｅ５７）核を用いたメスバウアー法により、膜
中の鉄と炭素の存在比（ａｔ％）は、Ｘ線マイクロアナ
ライザー法により、膜厚は段差針により、膜構造および
コラム径は走査型電子顕微鏡観察により、保磁力および
飽和磁化は振動試料型磁気特性測定装置によって、それ
ぞれ測定した。膜中の鉄と炭素の存在比の合計が１００
％になっていないのは酸素や窒素等の不純物が膜中に含
まれているためである。
抵抗率等に試料間でばらつきが有ったため、５つの試料
の平均を有効数字２桁で記載しである。磁性層中の生成
物の解析は、銅のにα線を用いたＸ線回折法および鉄同
位体（Ｆｅ５７）核を用いたメスバウアー法により、膜
中の鉄と炭素の存在比（ａｔ％）は、Ｘ線マイクロアナ
ライザー法により、膜厚は段差針により、膜構造および
コラム径は走査型電子顕微鏡観察により、保磁力および
飽和磁化は振動試料型磁気特性測定装置によって、それ
ぞれ測定した。膜中の鉄と炭素の存在比の合計が１００
％になっていないのは酸素や窒素等の不純物が膜中に含
まれているためである。
第１表から顕らかなように、磁性膜中の主な成分として
Ｆｅ５Ｃ又はＦ ｅ ｓ Ｃ２又はＦｅ２Ｃを含んでい
る場合に、記録媒体として良好な磁気特性が得られるこ
とが判る。また薄膜が、第２図に示したような塊状、ま
たは第３図に示したような柱状の構造を持ち、そのコラ
ム径が２０００Å以下の場合に記録媒体として良好な磁
気特性が得られることが分る。
Ｆｅ５Ｃ又はＦ ｅ ｓ Ｃ２又はＦｅ２Ｃを含んでい
る場合に、記録媒体として良好な磁気特性が得られるこ
とが判る。また薄膜が、第２図に示したような塊状、ま
たは第３図に示したような柱状の構造を持ち、そのコラ
ム径が２０００Å以下の場合に記録媒体として良好な磁
気特性が得られることが分る。
以下本発明の第二の実施例の磁気記録媒体について、図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
第一の実施例で示した第１図の製造装置を用いて、プラ
ズマ室に印加する高周波電力を変化させた場合の生成膜
の諸特性を第２表に示した。
ズマ室に印加する高周波電力を変化させた場合の生成膜
の諸特性を第２表に示した。
（以 下 余 白）
第２表は、第１図の製造装置を用いて高周波電力を変化
させた場合の生成膜の諸特性を示した表である。
させた場合の生成膜の諸特性を示した表である。
第２表において、膜厚・コラム径・保磁力・飽和磁化・
抵抗率等に試料間でばらつきが有ったため、５つの試料
の平均を有効数字２桁で記載しである。磁性層中の生成
物の解析は、銅のにα線を用いたＸ線回折法および鉄同
位体（Ｆｅ５７）核を用いたメスバウアー法により、膜
中の鉄と炭素の存在比（ａｔ％）は、Ｘ線マイクロアナ
ライザー法により、膜厚は段差針により、膜構造および
コラム径は走査型電子顕微鏡観察により、保磁力および
飽和磁化は振動試料型磁気特性測定装置によって、それ
ぞれ測定した。膜中の鉄と炭素の存在比の合計が１００
％になっていないのは酸素や窒素等の不純物が膜中に含
まれているためである。
抵抗率等に試料間でばらつきが有ったため、５つの試料
の平均を有効数字２桁で記載しである。磁性層中の生成
物の解析は、銅のにα線を用いたＸ線回折法および鉄同
位体（Ｆｅ５７）核を用いたメスバウアー法により、膜
中の鉄と炭素の存在比（ａｔ％）は、Ｘ線マイクロアナ
ライザー法により、膜厚は段差針により、膜構造および
コラム径は走査型電子顕微鏡観察により、保磁力および
飽和磁化は振動試料型磁気特性測定装置によって、それ
ぞれ測定した。膜中の鉄と炭素の存在比の合計が１００
％になっていないのは酸素や窒素等の不純物が膜中に含
まれているためである。
第２表から顕らかなように、磁性膜中の主な成分として
Ｆｅ３Ｃ又はＦｅ５Ｃ２又はＦｅ２Ｃを含んでいる場合
に、記録媒体として良好な磁気特性が得られることが判
る。また薄膜が、第２図に示したような塊状、または第
３図に示したような柱状の構造を持つ場合に、記録媒体
として良好な磁気特性が得られることが判る。
Ｆｅ３Ｃ又はＦｅ５Ｃ２又はＦｅ２Ｃを含んでいる場合
に、記録媒体として良好な磁気特性が得られることが判
る。また薄膜が、第２図に示したような塊状、または第
３図に示したような柱状の構造を持つ場合に、記録媒体
として良好な磁気特性が得られることが判る。
以下本発明の第３の実施例の磁気記録媒体について、図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
第１の実施例で示した第１図の製造装置を用いて、プラ
ズマ室に供給するガスの成分を変化 せた場合の生成膜
の諸特性を第３表に示した。
ズマ室に供給するガスの成分を変化 せた場合の生成膜
の諸特性を第３表に示した。
（以 下 余 白）
第３表は、第１図の製造装置を用いてプラズマガスの成
分を変化させた場合の、生成膜の諸特性を示した表であ
る。
分を変化させた場合の、生成膜の諸特性を示した表であ
る。
第３表において、膜厚・コラム径・保磁力・飽和磁化・
抵抗率等に試料間でばらつきが有ったため、５つの試料
の平均を有効数字２桁で記載しである。磁性層中の生成
物の解析は、銅のにα線を用いたＸ線回折法および鉄同
位体（Ｆｅ５７）核を用いたメスバウアー法により、膜
中の鉄と炭素の存在比（ａｔ％）は、Ｘ線マイクロアナ
ライザー法により、膜厚は段差針により、膜構造および
コラム径は走査型電子顕微鏡観察により、保磁力および
飽和磁化は振動試料型磁気特性測定装置によって、それ
ぞれ測定した。膜中の鉄と炭素の存在比の合計が１００
％になっていないのは酸素や窒素等の不純物が膜中に含
まれているためである。
抵抗率等に試料間でばらつきが有ったため、５つの試料
の平均を有効数字２桁で記載しである。磁性層中の生成
物の解析は、銅のにα線を用いたＸ線回折法および鉄同
位体（Ｆｅ５７）核を用いたメスバウアー法により、膜
中の鉄と炭素の存在比（ａｔ％）は、Ｘ線マイクロアナ
ライザー法により、膜厚は段差針により、膜構造および
コラム径は走査型電子顕微鏡観察により、保磁力および
飽和磁化は振動試料型磁気特性測定装置によって、それ
ぞれ測定した。膜中の鉄と炭素の存在比の合計が１００
％になっていないのは酸素や窒素等の不純物が膜中に含
まれているためである。
第３表から顕らかなように、磁性膜中の主な成分として
Ｆｅ５Ｃ又はＦｃ５Ｃ２を含んでいる場合に、記録媒体
として良好な磁気特性が得られることが判る。また薄膜
が、第２図に示したような塊状、または第３図に示した
ような柱状の構造を持ち、そのコラム径が２０００Å以
下の場合に、記録媒体として良好な磁気特性が得られる
ことが判る。
Ｆｅ５Ｃ又はＦｃ５Ｃ２を含んでいる場合に、記録媒体
として良好な磁気特性が得られることが判る。また薄膜
が、第２図に示したような塊状、または第３図に示した
ような柱状の構造を持ち、そのコラム径が２０００Å以
下の場合に、記録媒体として良好な磁気特性が得られる
ことが判る。
なお以上の実施例において、第１表の成膜時の圧力以外
の条件は、高周波の入力電圧が４４０Ｗ・プラズマ室に
供給するガスの成分は、体積比でアンモニア１２％・水
素８８％、キャリアーガスはアルゴンでプラズマ室に供
給するガスとの体積比はｌ／２０、第２表の成膜時の高
周波電力以外の条件は、反応室圧力が３．４ Ｘ １０
（Ｔｏｒｒ・プラズマ室に供給するガスの成分は、体積
比でアンモニア１２％・水素８８％、キャリアーガスは
アルゴンでプラズマ室に供給するガスとの体積比は１／
２０、第３表の成膜時のプラズマ室に供給するガス成分
以外の条件は、反応室圧力が３．４×１０°４Ｔｏｒｒ
・高周波の入力電圧が４４０Ｗ、キャリアーガスはアル
ゴンでプラズマ室に供給するガスとの体積比は１／２０
であったが、勿論諸条件はこれらに限定されるものでは
ない。
の条件は、高周波の入力電圧が４４０Ｗ・プラズマ室に
供給するガスの成分は、体積比でアンモニア１２％・水
素８８％、キャリアーガスはアルゴンでプラズマ室に供
給するガスとの体積比はｌ／２０、第２表の成膜時の高
周波電力以外の条件は、反応室圧力が３．４ Ｘ １０
（Ｔｏｒｒ・プラズマ室に供給するガスの成分は、体積
比でアンモニア１２％・水素８８％、キャリアーガスは
アルゴンでプラズマ室に供給するガスとの体積比は１／
２０、第３表の成膜時のプラズマ室に供給するガス成分
以外の条件は、反応室圧力が３．４×１０°４Ｔｏｒｒ
・高周波の入力電圧が４４０Ｗ、キャリアーガスはアル
ゴンでプラズマ室に供給するガスとの体積比は１／２０
であったが、勿論諸条件はこれらに限定されるものでは
ない。
また本発明の実施例の製造方法には、ＥＣＲプラズマを
利用した化学的気相成長（ＣＶＤ）法しかあげなかった
が、製造方法としては他にラジオ波によるプラズマＣＶ
Ｄ法やイオンブレーティング法やマグネトロンプラズマ
ＣＶＤ法等を使用しても良く、実施例に上げた製造方法
においても、そこで触れなかったパラメーターについて
は、目的とする磁気記録媒体が作成しうるかぎりにおい
て、任意に変化させてもよい。
利用した化学的気相成長（ＣＶＤ）法しかあげなかった
が、製造方法としては他にラジオ波によるプラズマＣＶ
Ｄ法やイオンブレーティング法やマグネトロンプラズマ
ＣＶＤ法等を使用しても良く、実施例に上げた製造方法
においても、そこで触れなかったパラメーターについて
は、目的とする磁気記録媒体が作成しうるかぎりにおい
て、任意に変化させてもよい。
発明の効果
以上のように本発明は、記録媒体の主なる成分としてＦ
ｅ５Ｃ又はＦｅ５Ｃ２又はＦｅ２Ｃ又はそれらのうちの
複数を含有した薄膜に微小な粒界を形成することによっ
て、本来は低保磁力な物質である炭化鉄を高保磁力化さ
せることができ、その結果（１）連続膜である薄膜型で
あり（２）金属系材料と同等以上の磁気的特性をもち（
３）酸化鉄と同等以上の化学的な安定性を備えもつ、と
いう３つの条件を兼ね備えた磁気記録媒体を実現するこ
とができる。
ｅ５Ｃ又はＦｅ５Ｃ２又はＦｅ２Ｃ又はそれらのうちの
複数を含有した薄膜に微小な粒界を形成することによっ
て、本来は低保磁力な物質である炭化鉄を高保磁力化さ
せることができ、その結果（１）連続膜である薄膜型で
あり（２）金属系材料と同等以上の磁気的特性をもち（
３）酸化鉄と同等以上の化学的な安定性を備えもつ、と
いう３つの条件を兼ね備えた磁気記録媒体を実現するこ
とができる。
第１図は本発明の磁気記録媒体の製造装置の一例の概観
図、第２図は典型的な塊状構造を持つ薄膜の破断面を示
した説明図、第３図は典型的な柱状構造を持つ薄膜の破
断面を示した説明図である。 １・・・・・・マイクロ波発生装置、２・・・・・・導
波管、３・・・・・・ＥＣＲプラズマ室、４・・・・・
・プラズマガス供給管、５・・・・・・電磁石コイル、
６・・・・・・反応室、７・・・・・・気化器、８・・
・・・・キャリアガス管、９・・・・・・リング状ノズ
ル、ｌＯ・・・・・・シーズヒーター、１１・旧・・基
板、１２・・・・・・真空径排気装置、１３・・・・・
・アルゴンガスボンベ、１４・・・・・・電磁石コイル
冷却用の冷却水管、２１・・・・・・磁性層、２２・・
・・・・磁性層、２３・・・・・・基板。
図、第２図は典型的な塊状構造を持つ薄膜の破断面を示
した説明図、第３図は典型的な柱状構造を持つ薄膜の破
断面を示した説明図である。 １・・・・・・マイクロ波発生装置、２・・・・・・導
波管、３・・・・・・ＥＣＲプラズマ室、４・・・・・
・プラズマガス供給管、５・・・・・・電磁石コイル、
６・・・・・・反応室、７・・・・・・気化器、８・・
・・・・キャリアガス管、９・・・・・・リング状ノズ
ル、ｌＯ・・・・・・シーズヒーター、１１・旧・・基
板、１２・・・・・・真空径排気装置、１３・・・・・
・アルゴンガスボンベ、１４・・・・・・電磁石コイル
冷却用の冷却水管、２１・・・・・・磁性層、２２・・
・・・・磁性層、２３・・・・・・基板。
Claims (3)
- （１）主成分として、Ｆｅ＿３Ｃ、Ｆｅ＿５Ｃ＿２、Ｆ
ｅ＿２Ｃまたはそれらのうちの複数の含有した強磁性薄
膜のうち、４００Ｏｅ以上の保磁力を持つことを特徴と
する磁気記録媒体。 - （２）記録層となる強磁性薄膜に、Ｃが１７ａｔ％〜４
０ａｔ％、Ｏ・Ｎ等の不純物が０ａｔ％〜２０ａｔ％含
有され残りがＦｅで、Ｆｅ＿３ＣまたはＦｅ＿５Ｃ＿２
を含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - （３）記録層となる強磁性薄膜に、Ｃが１７ａｔ％〜４
０ａｔ％、Ｏ・Ｎ等の不純物が０ａｔ％〜２０ａｔ％含
有され、残りがＦｅで、コラム径が２０００Å以下の柱
状または塊状の構造を持つことを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63210233A JPH0258724A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63210233A JPH0258724A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0258724A true JPH0258724A (ja) | 1990-02-27 |
Family
ID=16585991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63210233A Pending JPH0258724A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0258724A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62114118A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 磁気記録材料およびその製造方法 |
| JPH01154315A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-08-24 JP JP63210233A patent/JPH0258724A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62114118A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 磁気記録材料およびその製造方法 |
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