JPH0259031A - 気体分離膜 - Google Patents
気体分離膜Info
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、気体分離膜に関する。さらに詳しくは、置換
ポリアセチレンを成膜して得られる気体分離膜に関する
ものである。
ポリアセチレンを成膜して得られる気体分離膜に関する
ものである。
[従来の技術]
従来、置換ポリアセチレンを成膜して得られる気体分離
膜としては、ポリ(1−)リメチルシリルプロビン)[
PMSP]からなるものが知られている(特開昭59−
15410G号公報)。
膜としては、ポリ(1−)リメチルシリルプロビン)[
PMSP]からなるものが知られている(特開昭59−
15410G号公報)。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、従来のPMSPは、酸素の透過係数(1
)oz)は10−’aII+3(STP)・cm/ c
m’ ・sec−cmllgと極めて高いが、酸素と窒
素の分離係数(α)は2程度しかなく実用1130%以
上の酸素富化空気を得に(いなどの問題点がある。
)oz)は10−’aII+3(STP)・cm/ c
m’ ・sec−cmllgと極めて高いが、酸素と窒
素の分離係数(α)は2程度しかなく実用1130%以
上の酸素富化空気を得に(いなどの問題点がある。
[問題点を解決するための手段]
木発明者らは、」1記問題点に鑑みて、高いI)02、
をXIF持しつつ高αの気体分離膜を得るべく鋭意検討
した結果、本発明に到達した。
をXIF持しつつ高αの気体分離膜を得るべく鋭意検討
した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明はニ一般式(1)および(2)H2X
一+C=C+。
H3
−(−C=C)、 (
2)口式中、Iは0以上、nは1以上の整数。AはCト
2.のアルキルL C1−2++の置換アルキル基、
シラアルキル基、フェニル基、または置換フェニル基を
示す。Xは一般式 %式% (但し、式中Rfはパーフルオロアルキル基又はパーフ
ルオロアルキレンオキシド重合体の残基、Yは酸素原子
または2価の有機基を示す。)、AおよびXは繰り返し
単位ごとに任意に異なっていてもよい。コで示され、1
/nの比がO/+00から 9575の範囲にあり、分
子量が少なくとも1万以上である二置換アセチレン重合
体から形成される気体分離膜である。
2)口式中、Iは0以上、nは1以上の整数。AはCト
2.のアルキルL C1−2++の置換アルキル基、
シラアルキル基、フェニル基、または置換フェニル基を
示す。Xは一般式 %式% (但し、式中Rfはパーフルオロアルキル基又はパーフ
ルオロアルキレンオキシド重合体の残基、Yは酸素原子
または2価の有機基を示す。)、AおよびXは繰り返し
単位ごとに任意に異なっていてもよい。コで示され、1
/nの比がO/+00から 9575の範囲にあり、分
子量が少なくとも1万以上である二置換アセチレン重合
体から形成される気体分離膜である。
一般式(1)および(2)中、AのCl−211のアル
キル基としては直鎖状のアルキル基たとえばメチル、エ
チル、ブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル
、ヘキサデシル基、および分岐状アルキル基たとえばタ
ーシャリ−ブチル、2−メチルプロピル、2−メチルブ
チル、ネオペンチル、2−メチルペンチル、2−エチル
ヘキシル基があげられる。これらのうち好ましいのはタ
ーシャリ−ブチル基である。
キル基としては直鎖状のアルキル基たとえばメチル、エ
チル、ブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル
、ヘキサデシル基、および分岐状アルキル基たとえばタ
ーシャリ−ブチル、2−メチルプロピル、2−メチルブ
チル、ネオペンチル、2−メチルペンチル、2−エチル
ヘキシル基があげられる。これらのうち好ましいのはタ
ーシャリ−ブチル基である。
Cト2@の置換アルキル基としては、前記Cト2gのア
ルキル基の水素原子が他の原子たとえば塩素、フッ素等
のハロゲン原子、あるいは前記のCI〜2、のアルキル
基等で置換されたものがあげられる。
ルキル基の水素原子が他の原子たとえば塩素、フッ素等
のハロゲン原子、あるいは前記のCI〜2、のアルキル
基等で置換されたものがあげられる。
シラアルキル基としては、トリメチルシリル基、2.2
−ジメチル−2−シラプロピル基、1,1゜3.3−テ
トラメチル−1,3−′)シラブチル基等があげられる
。
−ジメチル−2−シラプロピル基、1,1゜3.3−テ
トラメチル−1,3−′)シラブチル基等があげられる
。
置換フェニル基としては、フェニル基の水素原子が少な
くとも1個塩素、フッ素等のハロゲン原子、あるいは前
記のCl−21のアルキル基、Cl−21の置換アルキ
ル基等でrllllされた基があげられる。
くとも1個塩素、フッ素等のハロゲン原子、あるいは前
記のCl−21のアルキル基、Cl−21の置換アルキ
ル基等でrllllされた基があげられる。
Aのうち好ましいのはトリメチルシリル基である。
一般式(3)、 (4)においてRfで表されるパーフ
ルオロアルキル基としてはパーフルオロヘキシル基、パ
ーフルオロオクチルエチル基等があげられ、パーフルオ
ロアルキレンオキシド重合体の残基としてはパーフルオ
ロエチレンオキシドやパーフルオロプロピレンオキシド
等の重合体の残基があげられる。
ルオロアルキル基としてはパーフルオロヘキシル基、パ
ーフルオロオクチルエチル基等があげられ、パーフルオ
ロアルキレンオキシド重合体の残基としてはパーフルオ
ロエチレンオキシドやパーフルオロプロピレンオキシド
等の重合体の残基があげられる。
一般式(1)および(2)で示される2置換アセチレン
重合体において、その反応率[一般式(1)および(2
)におけるm/nの比コはパーフルオロアルキル化合物
の添加量によって変えることができる。
重合体において、その反応率[一般式(1)および(2
)におけるm/nの比コはパーフルオロアルキル化合物
の添加量によって変えることができる。
m/nの比は通常0/+00から 9575である。9
515より大きいとパーフルオロアルキル基導入の効果
が不十分である。また、分子量は膜強度の点から大きい
ほうが好ましく、通常1万以上、さらに好ましくは10
万以上である。
515より大きいとパーフルオロアルキル基導入の効果
が不十分である。また、分子量は膜強度の点から大きい
ほうが好ましく、通常1万以上、さらに好ましくは10
万以上である。
一般式(1)および(2)で示される2@換アセチレン
重合体は、一般式(2)で示されるポリ2置換アセチレ
ンから例えば以下の方法で製造することができる。
重合体は、一般式(2)で示されるポリ2置換アセチレ
ンから例えば以下の方法で製造することができる。
即ち、該ポリ2置換アセチレンを溶媒に溶解しn−ブチ
ルリチウム等の強塩基と反応させた後、臭化バーフルオ
ロオクチルエチル等のハロゲン化パーフルオロアルキル
、あるいはパーフルオロアルキルアルコールをエピクロ
ルヒドリン等ト反応させて得られるパーフルオロアルキ
ルグリシジルエーテル等を反応させることによって得る
ことができる。本反応に用いる溶媒としては該ポリ2置
換アセチレンおよびパーフルオロ化合物を溶解し、反応
に関与しない溶媒であればいずれのものでもよ<、n−
ヘキサン、n−ペンタン等の脂肪族炭化水素が好ましい
。また、反応は0℃〜−30°Cの温度範囲で1時fl
t+以上行うこ七が好ましい。さらにN、 N、
N’、 N’−テトラメチルエチレンジアミン等を存
在させても良い。
ルリチウム等の強塩基と反応させた後、臭化バーフルオ
ロオクチルエチル等のハロゲン化パーフルオロアルキル
、あるいはパーフルオロアルキルアルコールをエピクロ
ルヒドリン等ト反応させて得られるパーフルオロアルキ
ルグリシジルエーテル等を反応させることによって得る
ことができる。本反応に用いる溶媒としては該ポリ2置
換アセチレンおよびパーフルオロ化合物を溶解し、反応
に関与しない溶媒であればいずれのものでもよ<、n−
ヘキサン、n−ペンタン等の脂肪族炭化水素が好ましい
。また、反応は0℃〜−30°Cの温度範囲で1時fl
t+以上行うこ七が好ましい。さらにN、 N、
N’、 N’−テトラメチルエチレンジアミン等を存
在させても良い。
あるいは同様に該ポリ2置換アセチレンを溶媒に溶解し
、過酸化ベンゾイル等を触媒にN−プロモフハク酸イミ
ド等で臭素化し、ナトリウムパーフルオロアルコキシド
、無水パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロ
アルキルリチウム等を反応させることによって得ること
もできる。本反応に用いる溶媒としては四塩化炭素等が
好ましい。
、過酸化ベンゾイル等を触媒にN−プロモフハク酸イミ
ド等で臭素化し、ナトリウムパーフルオロアルコキシド
、無水パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロ
アルキルリチウム等を反応させることによって得ること
もできる。本反応に用いる溶媒としては四塩化炭素等が
好ましい。
また反応は窒素雰囲気下60°C〜70°Cで4時間以
上行うことが好ましい。
上行うことが好ましい。
以上のように得られた一般式(1)および(2)で示さ
れる2(if換アセチレン重合体は、特に限定される事
なく公知の手段で成膜することができる。
れる2(if換アセチレン重合体は、特に限定される事
なく公知の手段で成膜することができる。
たとえばクロロホルム、テトラヒドロフラン(THF)
、酢酸エチル等の溶媒に溶解した溶液を、ガラス板等の
平板上に流延し溶媒を蒸発させて製膜する方法および同
様に作成した溶液を、例えば特開昭50−41958号
公報、特開昭51−8!1584号公報等に記載されて
いるように水面上に延展させ水面上に超薄膜を作成する
水上延展法等があるが、均一で欠陥のない超薄膜を製膜
できるという点から好ましいのは水上延展法である。
、酢酸エチル等の溶媒に溶解した溶液を、ガラス板等の
平板上に流延し溶媒を蒸発させて製膜する方法および同
様に作成した溶液を、例えば特開昭50−41958号
公報、特開昭51−8!1584号公報等に記載されて
いるように水面上に延展させ水面上に超薄膜を作成する
水上延展法等があるが、均一で欠陥のない超薄膜を製膜
できるという点から好ましいのは水上延展法である。
本発明の膜の厚さは通常0.01〜100μ、好ましく
は0.01〜50μである。膜厚が100 μより厚い
と充分な気体透過ユが得られず、0.01μより薄いと
膜強度が不足し性能を長時間安定に持続することができ
ない。
は0.01〜50μである。膜厚が100 μより厚い
と充分な気体透過ユが得られず、0.01μより薄いと
膜強度が不足し性能を長時間安定に持続することができ
ない。
本発明の膜は、通常多孔性支持体上に積層して用い、好
ましくは、たとえば特開昭81−192322号公報等
に記載されているようにシロキサン化合物と積層して用
いる。
ましくは、たとえば特開昭81−192322号公報等
に記載されているようにシロキサン化合物と積層して用
いる。
多孔性支持体としては、従来から分離膜の製造に通常用
いられている多孔性支持体であればその揮類を問わず使
用できる。たとえばアリールアセチレン系重合体、ポリ
スルホン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアクリロニトリル、ポリテトラフルオロエチレ
ン、セルロースまたはその誘導体(セルロース、再生セ
ルロース、セルロースエステルたとえばアセチルセルロ
ース、ニトロセルロース)、ポリカーボネート、ボリイ
ミr1 ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリウレタンなどの重合体から形成される
多孔性支持体が挙げられる。
いられている多孔性支持体であればその揮類を問わず使
用できる。たとえばアリールアセチレン系重合体、ポリ
スルホン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアクリロニトリル、ポリテトラフルオロエチレ
ン、セルロースまたはその誘導体(セルロース、再生セ
ルロース、セルロースエステルたとえばアセチルセルロ
ース、ニトロセルロース)、ポリカーボネート、ボリイ
ミr1 ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリウレタンなどの重合体から形成される
多孔性支持体が挙げられる。
多孔性支持体の形杖は平膜、筒状膜、中空糸膜等何れで
もよく、また、不織布等の支持体上に多孔性支持体を製
膜したものでもよい。
もよく、また、不織布等の支持体上に多孔性支持体を製
膜したものでもよい。
多孔性支持体の空気透過速度は通常1〜2゜O/ II
II−hr−0,1気圧(25°C)、好ましくは5〜
100 /♂・hr−0,1気圧(25μンである。空
気透過速度が1 /♂・hr・0.1気圧(25°C)
未満ではそれを使って得られる複合膜の気体透過性が低
くなりすぎ、200 / I ・hr・0.1気圧(
25°C)を越えるとそれを使って得られる腹合膜の耐
久性が低下する。
II−hr−0,1気圧(25°C)、好ましくは5〜
100 /♂・hr−0,1気圧(25μンである。空
気透過速度が1 /♂・hr・0.1気圧(25°C)
未満ではそれを使って得られる複合膜の気体透過性が低
くなりすぎ、200 / I ・hr・0.1気圧(
25°C)を越えるとそれを使って得られる腹合膜の耐
久性が低下する。
多孔性支持体層の厚さは、通常0.001〜10an、
好ましくは0.01−1+nである。多孔性支持体層の
厚さがo、ooi■謹未清では支持体の耐久性が不充分
になり、101−を越えると空気透過・率が不充分とな
る。
好ましくは0.01−1+nである。多孔性支持体層の
厚さがo、ooi■謹未清では支持体の耐久性が不充分
になり、101−を越えると空気透過・率が不充分とな
る。
[実施例コ
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。以下において、部およ
び%はそれぞれ重量部および重量%を示す。
これに限定されるものではない。以下において、部およ
び%はそれぞれ重量部および重量%を示す。
なお、透過係数(p)はcm” (STP) ・crr
r/cta2−sea −cnlllgという単位であ
られし、分離係数はαであられす。
r/cta2−sea −cnlllgという単位であ
られし、分離係数はαであられす。
実施例1〜3
通常の方法で合成したPMSP(重量平均分子量約10
0万 ) I g (0,01壬バ一1ニフトモル)
を脱水したTHFloomlに溶解し、窒素雰囲気下−
30℃に冷却した。
0万 ) I g (0,01壬バ一1ニフトモル)
を脱水したTHFloomlに溶解し、窒素雰囲気下−
30℃に冷却した。
n−ブチルリチウムo、ou*、N、 N、 N’
N−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)
0.015モルを滴下し、PMSPをリチウム化した後
、表−1に示スパーフルオロアルキル化合物のTHF溶
液を0.0Itル滴下し、4時間撹拌した。
N−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)
0.015モルを滴下し、PMSPをリチウム化した後
、表−1に示スパーフルオロアルキル化合物のTHF溶
液を0.0Itル滴下し、4時間撹拌した。
上記反応液を、3倍量のメタノールに滴下し得られた黄
白色糊41A状ポリマーを大量のメタノールで洗った後
50°Cで8時間威圧乾燥した。
白色糊41A状ポリマーを大量のメタノールで洗った後
50°Cで8時間威圧乾燥した。
上記方法で得られたパーフルオロアルキル化PMSPは
、IRl NMRで(jり造確認し、元素分析でパーフ
ルオロアルキル基の導入率を確認した。
、IRl NMRで(jり造確認し、元素分析でパーフ
ルオロアルキル基の導入率を確認した。
表−1
使用したパーフルオロアルキル化合物
得られた重合体を1%酢酸エチル溶液にし、ガラス板上
に流延し、窒素雰囲気下、酢酸エチルを蒸発除去し膜厚
100μの透明均質膜を得た。この膜を気体透過装置に
装着し、酸素、窒素の気体透過係数を測定した。結果を
表−2に示す。
に流延し、窒素雰囲気下、酢酸エチルを蒸発除去し膜厚
100μの透明均質膜を得た。この膜を気体透過装置に
装着し、酸素、窒素の気体透過係数を測定した。結果を
表−2に示す。
比較例I
PMSPを1%トルエン溶液にし、実施例と同様に膜厚
100μの透明均質膜を得た。この膜を気体透過装置に
装着し、酸素、窒素の気体透過係数を測定した。結果を
表−2に示す。
100μの透明均質膜を得た。この膜を気体透過装置に
装着し、酸素、窒素の気体透過係数を測定した。結果を
表−2に示す。
[発明の効果コ
本発明の気体分離膜は良好な気体透過性[たとえば酸素
の透過係数(Po2)が1 x 10−7cm3(ST
P)・Cll1/cm2・sec−cmHgコと、良好
な気体分離性[たとえば酸素と窒素の分離係数(α)が
4.8コを有するものである。
の透過係数(Po2)が1 x 10−7cm3(ST
P)・Cll1/cm2・sec−cmHgコと、良好
な気体分離性[たとえば酸素と窒素の分離係数(α)が
4.8コを有するものである。
本発明は側鎖にパーフルオロアルキル基を有する2置換
のポリアセチレンを成膜することによって上記のすぐれ
た効果が発揮できるものである。
のポリアセチレンを成膜することによって上記のすぐれ
た効果が発揮できるものである。
上記効果を奏することから本発明の気体分離膜は、酸素
富化膜として好ましく使用できるが、水−有機液体の混
合物のパーベーパレーション用としても優れた性能を示
し、充分実用化しうるちのである。
富化膜として好ましく使用できるが、水−有機液体の混
合物のパーベーパレーション用としても優れた性能を示
し、充分実用化しうるちのである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(1)および(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) [式中、mは0以上、nは1以上の整数。AはC_1_
−_2_0のアルキル基、C_1_−_2_0の置換ア
ルキル基、シラアルキル基、フェニル基、または置換フ
ェニル基を示す。Xは一般式 −Rf(3) または −Y−Rf(4) (但し、式中、Rfはパーフルオロアルキル基又はパー
フルオロアルキレンオキシドの重合体の残基、Yは酸素
原子または2価の有機基を示す。)、AおよびXは繰り
返し単位ごとに任意に異なっていてもよい。]で示され
、m/nの比が0/100から95/5の範囲にあり、
分子量が少なくとも1万以上である二置換アセチレン重
合体から形成される気体分離膜。 2、一般式(1)中のAがトリメチルシリル基である請
求項1記載の分離膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21117688A JPH0259031A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 気体分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21117688A JPH0259031A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 気体分離膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0259031A true JPH0259031A (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=16601669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21117688A Pending JPH0259031A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 気体分離膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0259031A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010104045A1 (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | 住友化学株式会社 | 重合体 |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP21117688A patent/JPH0259031A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010104045A1 (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | 住友化学株式会社 | 重合体 |
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