JPH0261611A - 合波用レーザ光源装置 - Google Patents
合波用レーザ光源装置Info
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- JPH0261611A JPH0261611A JP21223588A JP21223588A JPH0261611A JP H0261611 A JPH0261611 A JP H0261611A JP 21223588 A JP21223588 A JP 21223588A JP 21223588 A JP21223588 A JP 21223588A JP H0261611 A JPH0261611 A JP H0261611A
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Landscapes
- Lasers (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の分野)
本発明は半導体レーザ等のレーザ光源から発せられる低
出力のレーザビームを合波して高出力のレーザビームを
得ることを可能にする全波用レーザ光源装置に関し、特
に詳細には組立作業の容易な白波用レーザ光源装置に関
するものである。
出力のレーザビームを合波して高出力のレーザビームを
得ることを可能にする全波用レーザ光源装置に関し、特
に詳細には組立作業の容易な白波用レーザ光源装置に関
するものである。
(従来の技術)
周知のように、レーザビームを光偏向器により偏向して
走査する光走査装置は、例えば各種走査記録装置、走査
読取装置等において広く実用に供されており、このよう
な光走査装置においては、例えば読取りや記録のスピー
ドアップを図るために複数のレーザビームを合波して走
査光として用いることが検討されている。このレーザビ
ームの合波は、レーザ光源が半導体レーザである場合等
に特に求められる。すなわち半導体レーザは、ガスレー
ザ等に比べれば小型、安価で消費電力も少なく、また駆
動電流を変えることによって直接変調が可能である等、
数々の長所を有している反面、連続発振させる場合には
現状では出力がたかだか20〜30771 wと小さく
、したがって高エネルギーの走査光を必要とする光ビー
ム走査装置、例えば感度の低い記録材料(金属膜5アモ
ルファス膜等のDRAM材料等)に記録する走査記録装
置等に用いるのは極めて困難である。
走査する光走査装置は、例えば各種走査記録装置、走査
読取装置等において広く実用に供されており、このよう
な光走査装置においては、例えば読取りや記録のスピー
ドアップを図るために複数のレーザビームを合波して走
査光として用いることが検討されている。このレーザビ
ームの合波は、レーザ光源が半導体レーザである場合等
に特に求められる。すなわち半導体レーザは、ガスレー
ザ等に比べれば小型、安価で消費電力も少なく、また駆
動電流を変えることによって直接変調が可能である等、
数々の長所を有している反面、連続発振させる場合には
現状では出力がたかだか20〜30771 wと小さく
、したがって高エネルギーの走査光を必要とする光ビー
ム走査装置、例えば感度の低い記録材料(金属膜5アモ
ルファス膜等のDRAM材料等)に記録する走査記録装
置等に用いるのは極めて困難である。
また、ある種の蛍光体に放射線(X線、α線。
β線、γ線、電子線、紫外線等)を照射すると、この放
射線エネルギーの一部が蛍光体中に蓄積され、この蛍光
体に可視光等の励起光を照射すると、蓄積されたエネル
ギーに応じて蛍光体が輝尽発光を示すことが知られてお
り、このような蓄積性蛍光体を利用して、人体等の被写
体の放射線画像情報を一旦蓄積性蛍光体からなる層を有
する蓄積性蛍光体シートに記録し、この蓄積性蛍光体シ
ートをレーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜ
しめ、得られた輝尽発光光を光電的に読み取って画像信
号を得、この画像信号に基づき被写体の放射線画像を写
真感光材料等の記録材料、CRT等に可視像として出力
させる放射線画像情報記録再生システムが本出願人によ
り既に提案されている(特開昭55−12429号、同
55−118340号、同55−183472号、同5
6−11395号、同5B−104845号など)。
射線エネルギーの一部が蛍光体中に蓄積され、この蛍光
体に可視光等の励起光を照射すると、蓄積されたエネル
ギーに応じて蛍光体が輝尽発光を示すことが知られてお
り、このような蓄積性蛍光体を利用して、人体等の被写
体の放射線画像情報を一旦蓄積性蛍光体からなる層を有
する蓄積性蛍光体シートに記録し、この蓄積性蛍光体シ
ートをレーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜ
しめ、得られた輝尽発光光を光電的に読み取って画像信
号を得、この画像信号に基づき被写体の放射線画像を写
真感光材料等の記録材料、CRT等に可視像として出力
させる放射線画像情報記録再生システムが本出願人によ
り既に提案されている(特開昭55−12429号、同
55−118340号、同55−183472号、同5
6−11395号、同5B−104845号など)。
このシステムにおいて放射線画像情報が蓄積記録された
蓄積性蛍光体シートを走査して画像情報の読取りを行な
うのに、半導体レーザを用いた光走査装置の使用が考え
られているが、蓄積性蛍光体シートを高速に読み取るた
めには、十分に高エネルギーの励起光を該蛍光体に照射
する必要があり、したがって前記半導体レーザを用いた
光走査装置を、この放射線画像情報記録再生システムに
おいて画像情報読取りのために使用することも極めて難
しい。
蓄積性蛍光体シートを走査して画像情報の読取りを行な
うのに、半導体レーザを用いた光走査装置の使用が考え
られているが、蓄積性蛍光体シートを高速に読み取るた
めには、十分に高エネルギーの励起光を該蛍光体に照射
する必要があり、したがって前記半導体レーザを用いた
光走査装置を、この放射線画像情報記録再生システムに
おいて画像情報読取りのために使用することも極めて難
しい。
そこで上記の通り光出力が低い半導体レーザ等から十分
高エネルギーの走査ビームを得るためには複数のレーザ
光源を使用し、これらのレーザ光源から射出されたレー
ザビームを1本に合波することが望ましい。
高エネルギーの走査ビームを得るためには複数のレーザ
光源を使用し、これらのレーザ光源から射出されたレー
ザビームを1本に合波することが望ましい。
複数のレーザ光源から発せられたレーザビームを上記の
ように1本のレーザビームに合波するためには、通常各
レーザ光源から発せられたレーザビームをそれぞれコリ
メータレンズにより平行ビームにするとともに互いに近
接して平行な光路に導き、これらのレーザビームを集束
レンズにより同一の集束位置に集束させるようになって
いる。
ように1本のレーザビームに合波するためには、通常各
レーザ光源から発せられたレーザビームをそれぞれコリ
メータレンズにより平行ビームにするとともに互いに近
接して平行な光路に導き、これらのレーザビームを集束
レンズにより同一の集束位置に集束させるようになって
いる。
また、本出願人は、上記レーザビームの合波を効率よく
行なうことを可能とする、複数のレーザ光源を備えた全
波用レーザ光源装置を既に提案した(特願昭83−35
836号等)。かかる光源装置は、上記複数のレーザ光
源とともに、レーザ光源から射出される各レーザビーム
の光路上に配設され、各レーザビームを平行ビームにす
るコリメータ光学系と、上記レーザビームの光路上に配
設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光路に
射出させる光路調整素子とが保持部材により一体的に保
持されてなるものであり、このような光源装置を用いれ
ば、該光源装置から射出させたレーザビームを集束レン
ズに入射させるだけで、所望の位置において複数のレー
ザビームを一点に集束させることができる。なお、各レ
ーザビームに対する前記コリメータ光学系は、それぞれ
複数のレンズから構成されている。
行なうことを可能とする、複数のレーザ光源を備えた全
波用レーザ光源装置を既に提案した(特願昭83−35
836号等)。かかる光源装置は、上記複数のレーザ光
源とともに、レーザ光源から射出される各レーザビーム
の光路上に配設され、各レーザビームを平行ビームにす
るコリメータ光学系と、上記レーザビームの光路上に配
設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光路に
射出させる光路調整素子とが保持部材により一体的に保
持されてなるものであり、このような光源装置を用いれ
ば、該光源装置から射出させたレーザビームを集束レン
ズに入射させるだけで、所望の位置において複数のレー
ザビームを一点に集束させることができる。なお、各レ
ーザビームに対する前記コリメータ光学系は、それぞれ
複数のレンズから構成されている。
(発明が解決しようとする課題)
ところで上記光源装置を用いてレーザビームの合波を精
度よく行なうためには、光源装置から射出されるレーザ
ビームが互いに平行な所定の光路をとるとともにそれぞ
れが平行ビームとなるように、光源装置内のコリメータ
光学系の各レンズをレーザ光源に対して正しく位置調整
する必要がある。しかしながら、光源装置を組立てる際
に上記各レンズをそれぞれ保持部材に対して移動させて
調整を行なうのは、作業が非常に面倒であり、装置の組
立に要する時間および手間を大幅に増大させてしまうと
いう不都合がある。またこのように組立時に位置調整さ
れたレンズは、環境温度が変化した際等に位置ずれが生
じ易く、経時安定性に欠けるという問題がある。
度よく行なうためには、光源装置から射出されるレーザ
ビームが互いに平行な所定の光路をとるとともにそれぞ
れが平行ビームとなるように、光源装置内のコリメータ
光学系の各レンズをレーザ光源に対して正しく位置調整
する必要がある。しかしながら、光源装置を組立てる際
に上記各レンズをそれぞれ保持部材に対して移動させて
調整を行なうのは、作業が非常に面倒であり、装置の組
立に要する時間および手間を大幅に増大させてしまうと
いう不都合がある。またこのように組立時に位置調整さ
れたレンズは、環境温度が変化した際等に位置ずれが生
じ易く、経時安定性に欠けるという問題がある。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、組
立てが容易で経時安定性も高い全波用レーザ光源装置を
提供することを目的とするものである。
立てが容易で経時安定性も高い全波用レーザ光源装置を
提供することを目的とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明の全波用レーザ光源装置は、複数のレーザ光源、
該複数のレーザ光源から射出される各レーザビームの光
路上に配設された第1のレンズ部と第2のレンズ部から
なるコリメータ光学系、前記レーザビームの光路上に配
設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光路に
射出させる光路調整素子、および前記レーザ光源、前記
コリメータ光学系、前記光路調整素子を一体的に支持す
る保持部材からなり、前記・各レーザ光源と、該レーザ
光源に対応する前記各第1のレンズ部が互いに位置調整
がなされて一体化されることにより光源ユニットとして
前記保持部材に取り付けられており、前記第2のレンズ
部が前記保持部材に前記光源ユニットに対して該ユニッ
トの光軸と垂直な平面内において位置調整がなされて取
り付けられていることを特徴とするものである。
該複数のレーザ光源から射出される各レーザビームの光
路上に配設された第1のレンズ部と第2のレンズ部から
なるコリメータ光学系、前記レーザビームの光路上に配
設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光路に
射出させる光路調整素子、および前記レーザ光源、前記
コリメータ光学系、前記光路調整素子を一体的に支持す
る保持部材からなり、前記・各レーザ光源と、該レーザ
光源に対応する前記各第1のレンズ部が互いに位置調整
がなされて一体化されることにより光源ユニットとして
前記保持部材に取り付けられており、前記第2のレンズ
部が前記保持部材に前記光源ユニットに対して該ユニッ
トの光軸と垂直な平面内において位置調整がなされて取
り付けられていることを特徴とするものである。
(作 用)
上記のようにコリメータ光学系を第1のレンズ部と第2
のレンズ部に分け、第1のレンズ部はレーザ光源に対し
て予め位置決めして光源ユニットとして一体化すれば、
第1のレンズ部については装置を組み立てる際に位置調
整を行なうことなく保持部材内に組み込むことができる
。従ってレーザ光源に対する位置調整は第2のレンズ部
についてのみ行なえばよく、作業性が大きく向上する。
のレンズ部に分け、第1のレンズ部はレーザ光源に対し
て予め位置決めして光源ユニットとして一体化すれば、
第1のレンズ部については装置を組み立てる際に位置調
整を行なうことなく保持部材内に組み込むことができる
。従ってレーザ光源に対する位置調整は第2のレンズ部
についてのみ行なえばよく、作業性が大きく向上する。
なお、上記のように第2のレンズ部は少なくともその先
軸と垂直な面内を移動するものとなっており、第1のレ
ンズ部(すなわち光源ユニット)と第2のレンズ部の光
軸方向の位置精度が保持手段の形状のみによっては十分
に得られない場合には、これらを光軸方向にも調整可能
としてもよい。その場合には、第2のレンズ部を移動さ
せると該レンズ部を3次元方向に移動させなくてはなら
なくなり、移動手段が高価になるため好ましくなく、光
源ユニットをその光軸方向に移動させるようにするのが
望ましい。
軸と垂直な面内を移動するものとなっており、第1のレ
ンズ部(すなわち光源ユニット)と第2のレンズ部の光
軸方向の位置精度が保持手段の形状のみによっては十分
に得られない場合には、これらを光軸方向にも調整可能
としてもよい。その場合には、第2のレンズ部を移動さ
せると該レンズ部を3次元方向に移動させなくてはなら
なくなり、移動手段が高価になるため好ましくなく、光
源ユニットをその光軸方向に移動させるようにするのが
望ましい。
また、本装置においては、予め光源ユニットに組み込ま
れてなる第1のレンズ部については経時的な位置ずれが
生じにくいので、レーザビームの射出状態の経時安定性
を高めることができる。
れてなる第1のレンズ部については経時的な位置ずれが
生じにくいので、レーザビームの射出状態の経時安定性
を高めることができる。
(実 施 例)
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例による全波用レーザ光源装置
の斜視図である。
の斜視図である。
図示の全波用レーザ光源装置において、保持部材2の上
板2Aには、それぞれ半導体レーザ3A。
板2Aには、それぞれ半導体レーザ3A。
3B、3C,3D、3E、3F、3G、3H,3L3J
と、第1のレンズ部である凸レンズ6A。
と、第1のレンズ部である凸レンズ6A。
6B、6C,6D、6E、6F、6G、6H,61,6
Jをそれぞれ鏡筒内に保持してなる光源ユニットIOA
、IOB、IOc、IOD、IOE、IOF、10GS
IOH1101SIOJが2列に並んで保持されており
、上板2A内の取付は位置において上記半導体レーザ3
A〜3Jはそのレーザ射出軸が互いに平行になっている
。また、上記光源ユニットIOA〜IOJと対向する上
記上板2Aの底面には、第2のレンズ部である凹レンズ
4A、4B、4C,4D、4E、4F、4G、4H,4
1,4Jが固着されている。さらに保持部材2の中央部
分である支柱2Bの前後面には一対のミラー保持板2E
が取り付けられており、このミラー保持板2Eには、そ
れぞれ上記凹レンズ4A〜4Jと対向して反射ミラー5
が取り付けられている。なお、上記光源ユニットIOA
〜10J1凹レンズ4A〜4J、および反射ミラー5は
、それぞれ上記支柱2Bに対して対称となるように配さ
れている。また支持2Bの一側方には第1の側板2Cが
、他側方には後述する偏光ビームスプリッタや1ノ2波
長板等を支持する第2の側板2Dが取り付けられており
、本装置における保持部材2は、上記上板2A、支柱2
B1第1および第2の側板2C,2D、ミラー保持板2
E、および支柱2Bの下端面に取り付けられた底板2F
からなっている。なお、この保持部材2は、線膨張係数
の小さいノビナイト、コバール、インバー、セラミック
等からなるものである。
Jをそれぞれ鏡筒内に保持してなる光源ユニットIOA
、IOB、IOc、IOD、IOE、IOF、10GS
IOH1101SIOJが2列に並んで保持されており
、上板2A内の取付は位置において上記半導体レーザ3
A〜3Jはそのレーザ射出軸が互いに平行になっている
。また、上記光源ユニットIOA〜IOJと対向する上
記上板2Aの底面には、第2のレンズ部である凹レンズ
4A、4B、4C,4D、4E、4F、4G、4H,4
1,4Jが固着されている。さらに保持部材2の中央部
分である支柱2Bの前後面には一対のミラー保持板2E
が取り付けられており、このミラー保持板2Eには、そ
れぞれ上記凹レンズ4A〜4Jと対向して反射ミラー5
が取り付けられている。なお、上記光源ユニットIOA
〜10J1凹レンズ4A〜4J、および反射ミラー5は
、それぞれ上記支柱2Bに対して対称となるように配さ
れている。また支持2Bの一側方には第1の側板2Cが
、他側方には後述する偏光ビームスプリッタや1ノ2波
長板等を支持する第2の側板2Dが取り付けられており
、本装置における保持部材2は、上記上板2A、支柱2
B1第1および第2の側板2C,2D、ミラー保持板2
E、および支柱2Bの下端面に取り付けられた底板2F
からなっている。なお、この保持部材2は、線膨張係数
の小さいノビナイト、コバール、インバー、セラミック
等からなるものである。
上記のように光源ユニットIOA〜IOJの内部には、
各半導体レーザ3A〜3Jに対向して第1のレンズ部と
して凸レンズ6A〜6Jが配設されており、(−例とし
て第1図のX−X線断面図である第2図に半導体レーザ
3Aに対向する凸レンズ6Aを示す)、本装置において
は前記凹レンズ4A〜4Jとこれらの凸レンズ6A〜6
Jとによりコリメータ光学系が構成されている。第2図
に示すように半導体レーザ3Aから発せられたレーザビ
ーム3aはこのコリメータ光学系を通過することにより
、平行ビームとなり、他の半導体レーザ3B〜3Jから
発せられたレーザビーム3b〜3jも同様にそれぞれの
光路上に配設されたコリメータ光学系により平行ビーム
となる。
各半導体レーザ3A〜3Jに対向して第1のレンズ部と
して凸レンズ6A〜6Jが配設されており、(−例とし
て第1図のX−X線断面図である第2図に半導体レーザ
3Aに対向する凸レンズ6Aを示す)、本装置において
は前記凹レンズ4A〜4Jとこれらの凸レンズ6A〜6
Jとによりコリメータ光学系が構成されている。第2図
に示すように半導体レーザ3Aから発せられたレーザビ
ーム3aはこのコリメータ光学系を通過することにより
、平行ビームとなり、他の半導体レーザ3B〜3Jから
発せられたレーザビーム3b〜3jも同様にそれぞれの
光路上に配設されたコリメータ光学系により平行ビーム
となる。
平行ビームとなったレーザビーム3a、 3c、 3e
。
。
3g、 31は、下方にそれぞれ配設された前記反射ミ
ラー5に反射された後、偏光ビームスブリッタフに入射
する。前記光源ユニットIOA、 IOc、 IOE。
ラー5に反射された後、偏光ビームスブリッタフに入射
する。前記光源ユニットIOA、 IOc、 IOE。
LOGS101内の半導体レーザ3A、3C,3E。
3G、31は、上板2A内においてレーザビーム3a、
3c、 3es 3g、 31を同一平面内に射出に
よるように配設されており、またこれらのレーザビーム
の光路上にある各反射ミラー5は、図示のように段差の
あるミラー保持板2Eにより上下方向に徐々にずれて保
持されているので、レーザビーム3as3as Bes
3g、 31の反射ミラー5による反射位置は上下方
向にのみ少しずつずれ、各反射ミラー5により反射され
たレーザビーム38% Bes 3e、 3g、 31
は互いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。ま
た、前記支柱2Bの裏側においては、半導体レーザ3B
、3D、、3F、3H,3Jから発せられたレーザビー
ム3b、 3d、 3f、 3h、 3jが全く同様に
、反射ミラー5に反射されて互い、に上下方向にごく近
接した平行な光路をとる。また、支柱2Bを介して対向
する位置に配された半導体レーザから発せられたレーザ
ビーム(例えばレーザビーム3aと3b、レーザビーム
3cと3d)の反射ミラー5に反射される高さは互いに
等しくなっており、また、すべての光源ユニットl0A
−10Jは、反射ミラー5により反射されたレーザビー
ム3a〜3jにおける偏光方向が一様(第1図において
は矢印a方向)になるように前記上板2Aに固定されて
いる。
3c、 3es 3g、 31を同一平面内に射出に
よるように配設されており、またこれらのレーザビーム
の光路上にある各反射ミラー5は、図示のように段差の
あるミラー保持板2Eにより上下方向に徐々にずれて保
持されているので、レーザビーム3as3as Bes
3g、 31の反射ミラー5による反射位置は上下方
向にのみ少しずつずれ、各反射ミラー5により反射され
たレーザビーム38% Bes 3e、 3g、 31
は互いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。ま
た、前記支柱2Bの裏側においては、半導体レーザ3B
、3D、、3F、3H,3Jから発せられたレーザビー
ム3b、 3d、 3f、 3h、 3jが全く同様に
、反射ミラー5に反射されて互い、に上下方向にごく近
接した平行な光路をとる。また、支柱2Bを介して対向
する位置に配された半導体レーザから発せられたレーザ
ビーム(例えばレーザビーム3aと3b、レーザビーム
3cと3d)の反射ミラー5に反射される高さは互いに
等しくなっており、また、すべての光源ユニットl0A
−10Jは、反射ミラー5により反射されたレーザビー
ム3a〜3jにおける偏光方向が一様(第1図において
は矢印a方向)になるように前記上板2Aに固定されて
いる。
なお、上記第2の側板2Dにはレーザビーム3a〜3j
が側板上の各素子に入射することを許す開口が形成され
ている。
が側板上の各素子に入射することを許す開口が形成され
ている。
前記偏光ビームスプリッタ7は、矢印a方向に偏光する
光を反射する特性を有するものであり、レーザビーム3
a、 3c、 3es 3g、 31はこの偏光ビーム
スプリッタにより反射される。一方、レーザビーム3b
、 3d、 3f’、 3h、 3jはミラー8により
反射されて光路を約90″変更した後、172波長板9
を通過することにより偏光方向を90°変化せしめられ
、矢印す方向に偏光する光となる。前記偏光ビームスプ
リッタ7は矢印す方向に偏光する光に対してはこれを透
過させるものであり、従ってレーザビーム3b、 3d
、 3f、 3h、 8jは偏光ビームスプリッタ7を
通過して、レーザビーム3bはレーザビーム3aと、レ
ーザビーム3dはレーザビーム3cと、レーザビーム3
rはレーザビーム3eと、レーザビーム3hはレーザビ
ーム3gと、レーザビーム3jはレーザビーム31とそ
れぞれ同一光路に射出される。このように互いに近接し
て平行な光路に射出された10本のレーザビーム3a〜
3jのビーム断面は第3図に示すようになる。
光を反射する特性を有するものであり、レーザビーム3
a、 3c、 3es 3g、 31はこの偏光ビーム
スプリッタにより反射される。一方、レーザビーム3b
、 3d、 3f’、 3h、 3jはミラー8により
反射されて光路を約90″変更した後、172波長板9
を通過することにより偏光方向を90°変化せしめられ
、矢印す方向に偏光する光となる。前記偏光ビームスプ
リッタ7は矢印す方向に偏光する光に対してはこれを透
過させるものであり、従ってレーザビーム3b、 3d
、 3f、 3h、 8jは偏光ビームスプリッタ7を
通過して、レーザビーム3bはレーザビーム3aと、レ
ーザビーム3dはレーザビーム3cと、レーザビーム3
rはレーザビーム3eと、レーザビーム3hはレーザビ
ーム3gと、レーザビーム3jはレーザビーム31とそ
れぞれ同一光路に射出される。このように互いに近接し
て平行な光路に射出された10本のレーザビーム3a〜
3jのビーム断面は第3図に示すようになる。
ところで、上記光源装置を組み立てる際には、レーザビ
ームを所定の状態に射出させるために上述したコリメー
タ光学系の各光学素子の位置を正しく決める必要がある
。コリメータ光学系のうち、第1のレンズ部である前記
凸レンズ6A〜6Jは、半導体レーザ3八〜3Jに対し
て所定の位置をとるように調整されて、光源ユニットl
0A−10Jとして半導体レーザと一体化されており、
一方の第2のレンズ部である凹レンズ4A〜4Jは、そ
の取付時において光軸に垂直な平面内において2次元的
に移動可能となっている(第1図に凹レンズ4Aについ
てその移動方向を矢印で示す)。すなわち、光源装置を
組み立てる際には、まず光源ユニットl0A−10Jを
それぞれ保持部材2の上板2Aに形成された孔部2a(
第2図参照)に嵌入させる。続いて凹レンズ4A〜4J
をそれぞれ上板2Aの底面の、光源ユニットIOA〜I
OJに対向する位置に配し、上記底面上において2次元
に移動させつつ位置決めを行ない、各凹レンズ4A〜4
Jがそれぞれ所定の位置に配された後に、該レンズの支
持枠(第2図に凹レンズ4Aの支持枠4aを示す)と上
板2人の底面の間に接着剤を注入する等して、凹レンズ
4A〜4Jを上板2Aに固定する。
ームを所定の状態に射出させるために上述したコリメー
タ光学系の各光学素子の位置を正しく決める必要がある
。コリメータ光学系のうち、第1のレンズ部である前記
凸レンズ6A〜6Jは、半導体レーザ3八〜3Jに対し
て所定の位置をとるように調整されて、光源ユニットl
0A−10Jとして半導体レーザと一体化されており、
一方の第2のレンズ部である凹レンズ4A〜4Jは、そ
の取付時において光軸に垂直な平面内において2次元的
に移動可能となっている(第1図に凹レンズ4Aについ
てその移動方向を矢印で示す)。すなわち、光源装置を
組み立てる際には、まず光源ユニットl0A−10Jを
それぞれ保持部材2の上板2Aに形成された孔部2a(
第2図参照)に嵌入させる。続いて凹レンズ4A〜4J
をそれぞれ上板2Aの底面の、光源ユニットIOA〜I
OJに対向する位置に配し、上記底面上において2次元
に移動させつつ位置決めを行ない、各凹レンズ4A〜4
Jがそれぞれ所定の位置に配された後に、該レンズの支
持枠(第2図に凹レンズ4Aの支持枠4aを示す)と上
板2人の底面の間に接着剤を注入する等して、凹レンズ
4A〜4Jを上板2Aに固定する。
またコリメータ光学系の、レーザビームの光軸方向の位
置調整は、必要に応じて光源ユニットIOA〜IOJの
位置を上下方向に移動させることにより行なわれる。な
お、光源ユニットl0A−10Jと上板2Aの孔部2a
の周面には、光源ユニットの上下動を容易に行なわせる
ようにネジを切っておいてもよい。また上記のような、
凹レンズ4A〜4Jや光源ユニットl0A−10Jを移
動させることによるレーザビーム3a〜3jの光路およ
び焦点の調整は、偏光ビームスプリッタ7を通過して合
波されたレーザビームが図示しない集束レンズを通過し
た後所定の位置に集束するか否かを検出することにより
行なわれてもよいが、上記合波されたレーザビームの光
路上にハーフミラ−を配して該レーザビームの一部をモ
ニター光として取り出し、このモニター光を集束させて
その集束位置および集束スポット径が所定の状態である
か否かを位置センサにより検出することによって行なっ
てもよい。
置調整は、必要に応じて光源ユニットIOA〜IOJの
位置を上下方向に移動させることにより行なわれる。な
お、光源ユニットl0A−10Jと上板2Aの孔部2a
の周面には、光源ユニットの上下動を容易に行なわせる
ようにネジを切っておいてもよい。また上記のような、
凹レンズ4A〜4Jや光源ユニットl0A−10Jを移
動させることによるレーザビーム3a〜3jの光路およ
び焦点の調整は、偏光ビームスプリッタ7を通過して合
波されたレーザビームが図示しない集束レンズを通過し
た後所定の位置に集束するか否かを検出することにより
行なわれてもよいが、上記合波されたレーザビームの光
路上にハーフミラ−を配して該レーザビームの一部をモ
ニター光として取り出し、このモニター光を集束させて
その集束位置および集束スポット径が所定の状態である
か否かを位置センサにより検出することによって行なっ
てもよい。
このように本実施例の光源装置によれば、第1のレンズ
部である凸レンズは、予め半導体レーザとともに光源ユ
ニット内に組み入れられているので、半導体レーザに対
して位置決めを行なう必要がなく、半導体レーザに対す
る光学素子の位置調整は第2のレンズ部である凹レンズ
のみを動かすことにより行なうことができる。従って装
置組立時のコリメータ光学系の位置調整を短時間のうち
に容易に行なうことができるようになる。また周囲の温
度等環境が変化しても、第1のレンズ部と半導体レーザ
との位置関係にはほとんど変化が生じないので、レーザ
ビームの射出状態の安定性を高めることができる。なお
、第2のレンズ部は装置を組み立てる際だけでなく、該
レンズ部の経時的な位置変化等を補正することができる
ように、装置組立後も位置を調整可能にしてもよい。ま
た、第1のレンズ部および第2のレンズ部は、それぞれ
1本のレーザビームの光路について複数のレンズからな
るものであってもよい。さらに、上記光源装置の各光学
素子を支持する保持手段2の上板2A、支柱2B、側板
2C,2D、ミラー保持板2E、底板2Fは、その一部
もしくは全部を一体成形することが望ましく、一体成形
を行なえば、加工、組立てが容易になるとともに、接合
部が経時変化により位置ずれするおそれもなくなるので
、装置全体の合波の精度も高めることができる。
部である凸レンズは、予め半導体レーザとともに光源ユ
ニット内に組み入れられているので、半導体レーザに対
して位置決めを行なう必要がなく、半導体レーザに対す
る光学素子の位置調整は第2のレンズ部である凹レンズ
のみを動かすことにより行なうことができる。従って装
置組立時のコリメータ光学系の位置調整を短時間のうち
に容易に行なうことができるようになる。また周囲の温
度等環境が変化しても、第1のレンズ部と半導体レーザ
との位置関係にはほとんど変化が生じないので、レーザ
ビームの射出状態の安定性を高めることができる。なお
、第2のレンズ部は装置を組み立てる際だけでなく、該
レンズ部の経時的な位置変化等を補正することができる
ように、装置組立後も位置を調整可能にしてもよい。ま
た、第1のレンズ部および第2のレンズ部は、それぞれ
1本のレーザビームの光路について複数のレンズからな
るものであってもよい。さらに、上記光源装置の各光学
素子を支持する保持手段2の上板2A、支柱2B、側板
2C,2D、ミラー保持板2E、底板2Fは、その一部
もしくは全部を一体成形することが望ましく、一体成形
を行なえば、加工、組立てが容易になるとともに、接合
部が経時変化により位置ずれするおそれもなくなるので
、装置全体の合波の精度も高めることができる。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明の全波用レーザ光源装置に
よれば、コリメータ光学系を、光源ユニットとしてレー
ザ光源と予め一体化されている第1のレンズ部と、レー
ザ光源に対して移動可能な第2のレンズ部とからなるよ
うにしたので、コリメータ光学系のすべてのレンズをレ
ーザ光源に対して位置調整する場合に比べ調整が容易に
なるとともに、経時安定性を高めることができる。
よれば、コリメータ光学系を、光源ユニットとしてレー
ザ光源と予め一体化されている第1のレンズ部と、レー
ザ光源に対して移動可能な第2のレンズ部とからなるよ
うにしたので、コリメータ光学系のすべてのレンズをレ
ーザ光源に対して位置調整する場合に比べ調整が容易に
なるとともに、経時安定性を高めることができる。
第1図は本発明の一実施例による全波用レーザ光源装置
の斜視図、 第2図は第1図のX−X線断面図、 第3図は上記光源装置から射出されたレーザビームのビ
ーム断面を示す概略図である。 2・・・保持部材 3A、 3B、 3C,3D、 3E、 3F、 3G
。 3H,31,3J・・・半導体レーザ 3a、 3bs 3cs 3ds 3es 3f’、
3g、 3h、 31.3j・・・レーザビーム 4A、4B、4C,4D、4E、4F、4G。 4H,41,4J・・・凹レンズ 5・・・反射ミラー 6A、6B、6C,6D16E、6F、6G。 6H,6I、6J・・・凸レンズ 7・・・偏光ビームスプリッタ 10ASIOB、10°C,IOD、IOE、IOF、
LOG。
の斜視図、 第2図は第1図のX−X線断面図、 第3図は上記光源装置から射出されたレーザビームのビ
ーム断面を示す概略図である。 2・・・保持部材 3A、 3B、 3C,3D、 3E、 3F、 3G
。 3H,31,3J・・・半導体レーザ 3a、 3bs 3cs 3ds 3es 3f’、
3g、 3h、 31.3j・・・レーザビーム 4A、4B、4C,4D、4E、4F、4G。 4H,41,4J・・・凹レンズ 5・・・反射ミラー 6A、6B、6C,6D16E、6F、6G。 6H,6I、6J・・・凸レンズ 7・・・偏光ビームスプリッタ 10ASIOB、10°C,IOD、IOE、IOF、
LOG。
Claims (1)
- 複数のレーザ光源、該複数のレーザ光源から射出される
各レーザビームの光路上に配設された第1のレンズ部と
第2のレンズ部からなるコリメータ光学系、前記レーザ
ビームの光路上に配設され、各レーザビームを互いに近
接した平行な光路に射出させる光路調整素子、および前
記レーザ光源、前記コリメータ光学系、前記光路調整素
子を一体的に支持する保持部材からなり前記各レーザ光
源と、該レーザ光源に対応する前記各第1のレンズ部が
互いに位置調整がなされて一体化されることにより光源
ユニットとして前記保持部材に取り付けられており、前
記第2のレンズ部が前記保持部材に前記光源ユニットに
対して該ユニットの光軸と垂直な平面内において位置調
整がなされて取り付けられている全波用レーザ光源装置
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63212235A JP2641060B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 合波用レーザ光源装置 |
| US07/401,903 US4986634A (en) | 1988-08-26 | 1989-08-25 | Beam-combining laser beam source device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63212235A JP2641060B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 合波用レーザ光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0261611A true JPH0261611A (ja) | 1990-03-01 |
| JP2641060B2 JP2641060B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=16619201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63212235A Expired - Fee Related JP2641060B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 合波用レーザ光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2641060B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001215443A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Hamamatsu Photonics Kk | 光学装置 |
| JP2015501508A (ja) * | 2011-10-11 | 2015-01-15 | 深▲せん▼市光峰光電技術有限公司Appotronics Corporation Limited | 光源システムおよびレーザ光源 |
| KR102174711B1 (ko) * | 2019-10-01 | 2020-11-05 | 임봉환 | 기밀력이 우수한 레이저 가공기 노즐 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5299251B2 (ja) * | 2009-12-09 | 2013-09-25 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置およびプロジェクター |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59224816A (ja) * | 1983-06-03 | 1984-12-17 | Minolta Camera Co Ltd | 光源装置 |
| JPS61208023A (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レ−ザ光源装置 |
-
1988
- 1988-08-26 JP JP63212235A patent/JP2641060B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59224816A (ja) * | 1983-06-03 | 1984-12-17 | Minolta Camera Co Ltd | 光源装置 |
| JPS61208023A (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レ−ザ光源装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001215443A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Hamamatsu Photonics Kk | 光学装置 |
| JP2015501508A (ja) * | 2011-10-11 | 2015-01-15 | 深▲せん▼市光峰光電技術有限公司Appotronics Corporation Limited | 光源システムおよびレーザ光源 |
| US9819154B2 (en) | 2011-10-11 | 2017-11-14 | Appotronics Corporation Limited | Light source system and laser light source |
| US10530131B2 (en) | 2011-10-11 | 2020-01-07 | Appotronics Corporation Limited | Light source system and laser light source |
| KR102174711B1 (ko) * | 2019-10-01 | 2020-11-05 | 임봉환 | 기밀력이 우수한 레이저 가공기 노즐 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2641060B2 (ja) | 1997-08-13 |
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Legal Events
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