JPH026447Y2 - - Google Patents
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- JPH026447Y2 JPH026447Y2 JP1984118414U JP11841484U JPH026447Y2 JP H026447 Y2 JPH026447 Y2 JP H026447Y2 JP 1984118414 U JP1984118414 U JP 1984118414U JP 11841484 U JP11841484 U JP 11841484U JP H026447 Y2 JPH026447 Y2 JP H026447Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing liquid
- tank
- liquid tank
- processing
- partition wall
- Prior art date
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- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D13/00—Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
- G03D13/02—Containers; Holding-devices
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Photographic Developing Apparatuses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、感光材料処理装置における現像槽、
定着槽、水洗槽などの処理液槽に関するものであ
る。
定着槽、水洗槽などの処理液槽に関するものであ
る。
従来、感光材料の処理液槽においては、処理液
槽の一方より、補充液や水洗水などの処理液を供
給し、かつ同じく他方より、増加分をオーバーフ
ローさせることにより、処理液の疲労や汚染を回
復させるとともに、処理液液位を一定に保つてい
る(このような処理液槽の一例としては、実開昭
56−153944号公報がある)。
槽の一方より、補充液や水洗水などの処理液を供
給し、かつ同じく他方より、増加分をオーバーフ
ローさせることにより、処理液の疲労や汚染を回
復させるとともに、処理液液位を一定に保つてい
る(このような処理液槽の一例としては、実開昭
56−153944号公報がある)。
一般に、処理液槽においては、感光材料の処理
に伴い、処理液中に、銀、ゼラチン、水アカ、ほ
こりなどの不溶物が発生する。
に伴い、処理液中に、銀、ゼラチン、水アカ、ほ
こりなどの不溶物が発生する。
このような不溶物のうち、処理液の液面に浮か
んだものは、オーバーフローにより排出される
が、処理液中に懸吊状態で浮遊する不溶物は、ほ
とんど排出されず、処理液中に蓄積される。処理
液中に蓄積された不溶物は、感光材料に付着し、
感光材料の汚れの原因になるだけでなく、タンク
内面の汚れも発生しやすいという問題がある。
んだものは、オーバーフローにより排出される
が、処理液中に懸吊状態で浮遊する不溶物は、ほ
とんど排出されず、処理液中に蓄積される。処理
液中に蓄積された不溶物は、感光材料に付着し、
感光材料の汚れの原因になるだけでなく、タンク
内面の汚れも発生しやすいという問題がある。
本考案は、上述した問題を解決するための手段
として、処理液のオーバーフロー手段を有する処
理液槽において、複数個のオーバーフロー手段を
設けるとともに、少くともその中の1個に連なる
液面部分を、処理槽の他の液面部分から遮断する
隔壁を、処理槽内に設置し、かつ、該隔壁の液面
より下方に、隔壁の両側の処理液を連通させる開
孔部又はすきまを設けたものである。
として、処理液のオーバーフロー手段を有する処
理液槽において、複数個のオーバーフロー手段を
設けるとともに、少くともその中の1個に連なる
液面部分を、処理槽の他の液面部分から遮断する
隔壁を、処理槽内に設置し、かつ、該隔壁の液面
より下方に、隔壁の両側の処理液を連通させる開
孔部又はすきまを設けたものである。
隔壁によつて、他の液面領域から遮断された液
面に連なるオーバーフロー手段からは、処理液槽
の中央部及び低部の処理液が、隔壁の開孔又はす
きまから流れこんでオーバーフローするため、そ
れに伴つて、処理液中に懸吊状態で浮遊している
不溶物を排出することができる。
面に連なるオーバーフロー手段からは、処理液槽
の中央部及び低部の処理液が、隔壁の開孔又はす
きまから流れこんでオーバーフローするため、そ
れに伴つて、処理液中に懸吊状態で浮遊している
不溶物を排出することができる。
本考案の構成を、添付図面に示す実施例にもと
ずいて説明する。
ずいて説明する。
第1図、第2図、第3図は、いずれも、本考案
を水洗槽に実施した場合の例を示す図であり、第
2図は、水洗槽の平面図、第3図は、そのA−A
断面図、第1図は、複数個のオーバーフロー手段
を示す要部斜視図である。
を水洗槽に実施した場合の例を示す図であり、第
2図は、水洗槽の平面図、第3図は、そのA−A
断面図、第1図は、複数個のオーバーフロー手段
を示す要部斜視図である。
これらの図において、10は、その内部に水位
hまで水洗水を満した水洗槽であり、図示しない
搬送ローラ等により、感光材料を、水洗水中を搬
送することにより、水洗処理をおこなう。
hまで水洗水を満した水洗槽であり、図示しない
搬送ローラ等により、感光材料を、水洗水中を搬
送することにより、水洗処理をおこなう。
12は、水洗水の供給用ノズル、14は、第1
のオーバーフロー用切欠き部、16は、第2のオ
ーバーフロー用切欠き部で、第2図及び第3図に
示すように、ノズル12は、水洗槽10の長手方
向の一端に、また、切欠き部14,16は、長手
方向の逆側端に配置してある。
のオーバーフロー用切欠き部、16は、第2のオ
ーバーフロー用切欠き部で、第2図及び第3図に
示すように、ノズル12は、水洗槽10の長手方
向の一端に、また、切欠き部14,16は、長手
方向の逆側端に配置してある。
第2のオーバーフロー用切欠き部16の周囲に
は、水洗槽10の底部との間に水洗水が通過する
隙き間1を有する隔壁18が設けられている。
は、水洗槽10の底部との間に水洗水が通過する
隙き間1を有する隔壁18が設けられている。
20は、水洗槽10の底部に設けられた沈殿物
回収用の凹部、22は、修理、清掃などに際し
て、水洗槽から水洗水を、すべて排出するための
排出孔である。排出孔22は、通常は閉じられて
いるが、水洗槽10より水洗水を排出して、清掃
をおこなう場合等に開放される。
回収用の凹部、22は、修理、清掃などに際し
て、水洗槽から水洗水を、すべて排出するための
排出孔である。排出孔22は、通常は閉じられて
いるが、水洗槽10より水洗水を排出して、清掃
をおこなう場合等に開放される。
この水洗槽10において、ノズル12より水洗
槽10に供給された水洗水は、矢印aで示すよう
に、開口部23より水洗部24に入り、切欠き部
14,16よりオーバーフローすることで、一定
水位hに保たれる。
槽10に供給された水洗水は、矢印aで示すよう
に、開口部23より水洗部24に入り、切欠き部
14,16よりオーバーフローすることで、一定
水位hに保たれる。
このとき、水洗部24を通過する水洗水のう
ち、水面付近を通過する水洗水は、矢印bで示す
ように、切欠き部14よりオーバーフローする。
また水洗部24の中層又は低部の水洗水は、隔壁
18の作用により、矢印cで示すように、水洗部
24の低部を通過して切欠き部16よりオーバー
フローする。
ち、水面付近を通過する水洗水は、矢印bで示す
ように、切欠き部14よりオーバーフローする。
また水洗部24の中層又は低部の水洗水は、隔壁
18の作用により、矢印cで示すように、水洗部
24の低部を通過して切欠き部16よりオーバー
フローする。
2つの切欠き部14,16よりオーバーフロー
した水洗水は、集液部26底部のドレイン孔28
より排出される。
した水洗水は、集液部26底部のドレイン孔28
より排出される。
次に、この水洗槽10における不溶物の排出動
作について説明する。
作について説明する。
感光材料の水洗に伴い、水洗水中に発生した不
溶物の一部は、水面に浮び、一部は、水洗水中に
懸吊浮遊する。
溶物の一部は、水面に浮び、一部は、水洗水中に
懸吊浮遊する。
ノズル12より水洗水が供給されると、上述し
た水洗水の流れにより、水面に浮んだ不溶物は、
矢印bに示すように切欠き部14より排出され、
水洗水中に懸吊浮遊している不溶物は、矢印cに
示すように、切欠き16より排出される。
た水洗水の流れにより、水面に浮んだ不溶物は、
矢印bに示すように切欠き部14より排出され、
水洗水中に懸吊浮遊している不溶物は、矢印cに
示すように、切欠き16より排出される。
なお、水洗水中に発生した不溶物のうち、比較
的比重の大きい一部のものは、水洗部24の底部
に沈殿する。
的比重の大きい一部のものは、水洗部24の底部
に沈殿する。
しかし、底部に沈殿した不溶物は、開口部23
よりの水流と、隔壁18の作用による水洗部24
低部の水流により、切欠き部14,16側に押し
流され、凹部20に堆積する。凹部に堆積した不
溶物は、水洗槽10の清掃時に、排出孔22より
排出される。
よりの水流と、隔壁18の作用による水洗部24
低部の水流により、切欠き部14,16側に押し
流され、凹部20に堆積する。凹部に堆積した不
溶物は、水洗槽10の清掃時に、排出孔22より
排出される。
上述した比較的比重の大きい不溶物を回収をよ
り容易にするため、水洗部24の底面を、凹部2
0に近ずくにつれて低くなるように、若干傾斜し
た構造としてもよい。
り容易にするため、水洗部24の底面を、凹部2
0に近ずくにつれて低くなるように、若干傾斜し
た構造としてもよい。
なお、上述した実施例においては、切欠き部1
4と16の高さを、同一としているが、水洗水量
が比較的多い場合等においては、切欠き部14と
16の幅方向の寸法比によつて、高さを多少変え
てもよい。
4と16の高さを、同一としているが、水洗水量
が比較的多い場合等においては、切欠き部14と
16の幅方向の寸法比によつて、高さを多少変え
てもよい。
第4図は、本考案を水洗槽に実施した他の実施
例を示す要部斜視図であり、第1図と同一の部分
には、同一の記号を付して説明を省略する。
例を示す要部斜視図であり、第1図と同一の部分
には、同一の記号を付して説明を省略する。
この実施例においては、第1実施例の、水洗槽
10の底部と隔壁18との間隔lの代わりに、隔
壁18の低部に、水洗水が通過する開口部30が
設けられており、第1実施例と同様の効果を奏す
る。
10の底部と隔壁18との間隔lの代わりに、隔
壁18の低部に、水洗水が通過する開口部30が
設けられており、第1実施例と同様の効果を奏す
る。
第4図において、32は、水面と開口部30と
の間に設けられた第2の処理液通過用開口部であ
る。この開口部32は、水洗部24の水面付近と
底部付近との間に懸吊浮遊する不溶物の排出を容
易にするためのものであり、水洗槽10の深さ
(すなわち水位h)が比較的大きい場合、特に有
効である。
の間に設けられた第2の処理液通過用開口部であ
る。この開口部32は、水洗部24の水面付近と
底部付近との間に懸吊浮遊する不溶物の排出を容
易にするためのものであり、水洗槽10の深さ
(すなわち水位h)が比較的大きい場合、特に有
効である。
以上の実施例は、本考案を水洗槽に実施した場
合のものであるが、現像槽、定着槽などの他の処
理槽においても、同様に効果がある。
合のものであるが、現像槽、定着槽などの他の処
理槽においても、同様に効果がある。
また、上述した実施例においては、オーバーフ
ロー手段が、切欠き部14,16より構成される
場合について説明したが、従来のように、オーバ
ーフロー管を利用してもよいことは言うまでもな
い。
ロー手段が、切欠き部14,16より構成される
場合について説明したが、従来のように、オーバ
ーフロー管を利用してもよいことは言うまでもな
い。
本考案に係る処理液槽は、上述したように構成
されているので、処理液液面付近だけではなく、
処理液槽内の処理液全体の不溶物を、容易に排出
させることができ、感光材料への汚れの付着や、
タンク内面の汚れなどを防止することができると
いう効果がある。
されているので、処理液液面付近だけではなく、
処理液槽内の処理液全体の不溶物を、容易に排出
させることができ、感光材料への汚れの付着や、
タンク内面の汚れなどを防止することができると
いう効果がある。
また、それに伴い、本考案に係る構成による
と、隔壁の作用により、処理液全体の循還が十分
におこなわれるとともに、処理槽底部に沈殿した
不溶物も、オーバーフロー側へ集まりやすく、処
理槽の清掃が容易になる。
と、隔壁の作用により、処理液全体の循還が十分
におこなわれるとともに、処理槽底部に沈殿した
不溶物も、オーバーフロー側へ集まりやすく、処
理槽の清掃が容易になる。
さらに、オーバーフロー手段を切欠きとした場
合には、不溶物の排出が広い範囲で速かにおこな
われる。
合には、不溶物の排出が広い範囲で速かにおこな
われる。
図面は、いずれも本考案に係る実施例を示すも
のであり、第1図は、要部斜視図、第2図は、平
面図、第3図は、第2図のA−A断面図、第4図
は、第2実施例を示す要部斜視図である。 10……処理液槽、14……切欠き部(オーバ
ーフロー手段)、16……切欠き部(第2のオー
バーフロー手段)、18……隔壁。
のであり、第1図は、要部斜視図、第2図は、平
面図、第3図は、第2図のA−A断面図、第4図
は、第2実施例を示す要部斜視図である。 10……処理液槽、14……切欠き部(オーバ
ーフロー手段)、16……切欠き部(第2のオー
バーフロー手段)、18……隔壁。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 給液手段により処理液を処理液槽に供給し、
一方、オーバーフロー手段により該処理液槽内
の液位を一定に維持するようにした感光材料処
理装置等の処理液槽において、 処理液槽の長手方向の一端に設置されて、処
理液を供給する処理液供給手段と、処理液槽の
長手方向の他端にて処理液をオーバーフローさ
せる複数個のオーバーフロー手段とを設けると
ともに、該複数個のオーバーフロー手段を、処
理液槽の液面と連続した第1のオーバーフロー
手段と、それに連なる液面部分を処理液槽内に
設置した隔壁により処理液槽の他の液面部分か
ら遮断し、かつ、該隔壁の液面より下方におい
て隔壁内外の処理液を連通させた第2のオーバ
ーフロー手段とより、構成したことを特徴とす
る感光材料処理装置等の処理液槽。 (2) 隔壁下端と処理液槽底とを離間させて、処理
液連通部としてなる実用新案登録請求の範囲第
(1)項に記載の感光材料処理装置等の処理液層。 (3) 隔壁の液面より下方に、処理液連通孔を開設
してなる実用新案登録請求の範囲第(1)項に記載
の感光材料処理装置等の処理液槽。 (4) オーバーフロー手段を設けた部分に近い処理
槽底面を、該底面の他の部分より低く凹入さ
せ、かつ、当該凹入部に、常時は閉塞した排水
弁を設けてなる実用新案登録請求の範囲第(1)項
ないし第(3)項のいずれかに記載の感光材料処理
装置等の処理液槽。 (5) 処理槽底面を、凹入部に向つて漸次低下する
如く傾斜させてなる実用新案登録請求の範囲第
(4)項に記載の感光材料処理装置等の処理液槽。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984118414U JPS6134151U (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 感光材料処理装置等の処理液槽 |
| GB08518939A GB2162444B (en) | 1984-08-02 | 1985-07-26 | Photosensitive material processing tank |
| US06/760,327 US4641941A (en) | 1984-08-02 | 1985-07-29 | Treatment tank in photosensitive material processing system including a plurality of overflow devices |
| DE19853527402 DE3527402A1 (de) | 1984-08-02 | 1985-07-31 | Behandlungsbehaelter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984118414U JPS6134151U (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 感光材料処理装置等の処理液槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134151U JPS6134151U (ja) | 1986-03-01 |
| JPH026447Y2 true JPH026447Y2 (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=14736055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984118414U Granted JPS6134151U (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 感光材料処理装置等の処理液槽 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4641941A (ja) |
| JP (1) | JPS6134151U (ja) |
| DE (1) | DE3527402A1 (ja) |
| GB (1) | GB2162444B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4804990A (en) * | 1988-02-08 | 1989-02-14 | Eastman Kodak Company | Automatic liquid feed and circulation system for a photographic film processor |
| US4995913A (en) * | 1989-02-28 | 1991-02-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Low wash water silver halide film processor |
| US5070351A (en) * | 1989-10-13 | 1991-12-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for processing photosensitive material |
| FR2697645B1 (fr) * | 1992-10-30 | 1995-01-20 | Bio Partners | Procédé et dispositif pour diminuer la consommation d'eau des machines de développement de films photographiques. |
| US5341189A (en) * | 1993-04-27 | 1994-08-23 | Eastman Kodak Company | Photosensitive material processor |
| JP2947439B2 (ja) * | 1993-06-14 | 1999-09-13 | ノーリツ鋼機株式会社 | 写真処理装置のタンクおよびタンク内浮遊物回収方法 |
| US5579076A (en) * | 1995-04-13 | 1996-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for processing photosensitive material |
| US5797057A (en) * | 1996-03-25 | 1998-08-18 | Noritsu Koki Co., Ltd. | Method of water replenishment for an automatic developing apparatus and device therefor |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3626832A (en) * | 1968-09-25 | 1971-12-14 | Agfa Gevaert Nv | Photographic processing apparatus with liquid level control |
| US4252429A (en) * | 1979-01-26 | 1981-02-24 | Hope Henry F | Curvilinear, geared transport roller system |
| US4312586A (en) * | 1980-06-02 | 1982-01-26 | Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. | Method and apparatus for the development of films in a photographic film processor |
| JPS579801U (ja) * | 1980-06-18 | 1982-01-19 | ||
| US4269209A (en) * | 1980-06-30 | 1981-05-26 | Peterson Stephen C | Serial flow photographic washer |
-
1984
- 1984-08-02 JP JP1984118414U patent/JPS6134151U/ja active Granted
-
1985
- 1985-07-26 GB GB08518939A patent/GB2162444B/en not_active Expired
- 1985-07-29 US US06/760,327 patent/US4641941A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-07-31 DE DE19853527402 patent/DE3527402A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2162444A (en) | 1986-02-05 |
| US4641941A (en) | 1987-02-10 |
| DE3527402A1 (de) | 1986-02-06 |
| GB2162444B (en) | 1988-01-13 |
| GB8518939D0 (en) | 1985-09-04 |
| DE3527402C2 (ja) | 1991-09-19 |
| JPS6134151U (ja) | 1986-03-01 |
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