JPH0264907A - Thin film magnetic head and its manufacturing method - Google Patents
Thin film magnetic head and its manufacturing methodInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法特に基板上
に磁気コンタクトホールを介して結合された上部磁性層
および下部磁性層を有する薄膜磁気ヘッドおよびその製
造方法に関するものである。Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a thin film magnetic head and a method for manufacturing the same, particularly a thin film magnetic head having an upper magnetic layer and a lower magnetic layer coupled to each other via magnetic contact holes on a substrate. The present invention relates to a manufacturing method thereof.
[従来の技術]
薄膜磁気ヘッドは基板上に各種の薄膜形成法によって磁
性層、コイルとなる導電層、ギャップ部材その他を形成
することによって成層される。[Prior Art] A thin film magnetic head is formed by forming a magnetic layer, a conductive layer serving as a coil, a gap member, etc. on a substrate using various thin film forming methods.
従って大量生産に向き、また小型軽量化も容易であると
いう利点がある。近年では同一基板上に複数の記録再生
トラックのための磁気ギャップを複数形成したマルチト
ラック型の薄膜磁気ヘッドも製造されている。Therefore, it has the advantage of being suitable for mass production and being easy to reduce in size and weight. In recent years, multi-track thin film magnetic heads have also been manufactured in which a plurality of magnetic gaps for a plurality of recording and reproducing tracks are formed on the same substrate.
第6図は従来の成層方法によって構成された磁気ヘッド
の構造を示している。ここで、第6図を参照して従来の
薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する。FIG. 6 shows the structure of a magnetic head constructed by a conventional layering method. Here, a method of manufacturing a conventional thin film magnetic head will be explained with reference to FIG.
従来では、まずフェライトやガラスなどから成る基板l
の上にパーマロイやセンダストなどから構成される軟磁
性膜を下部磁性層2として所定の厚みに成膜する0次に
5i02などから成る不図示の絶縁層を下部磁性層2の
上に形成し、さらにその上にコイル部分を構成するAI
やCuによる導電層3を成膜し、フォトリソエツチング
工程によって所定のコイルパターンに形成する。このコ
イルパターンはらせん状のパターン3aと、このらせん
パターンの中央部から他方の電極を導出するためのほぼ
直線状のパターン3bから構成される。パターン3a、
3b間には絶縁層(不図示)が配置される。Conventionally, first a substrate made of ferrite, glass, etc.
A soft magnetic film made of permalloy, sendust, etc. is formed thereon to a predetermined thickness as the lower magnetic layer 2. An insulating layer (not shown) made of 0-order 5i02 or the like is formed on the lower magnetic layer 2. Furthermore, on top of that is the AI that makes up the coil part.
A conductive layer 3 made of copper or Cu is formed into a predetermined coil pattern by a photolithography process. This coil pattern is composed of a spiral pattern 3a and a substantially linear pattern 3b for leading out the other electrode from the center of the spiral pattern. pattern 3a,
An insulating layer (not shown) is arranged between 3b.
コイルパターンを形成した後、5to2などの絶縁層(
第7図(B)、(C)の符号I)をコイルパターンの上
に形成し、コイルパターンの中央部に磁気コンタクトホ
ール5を形成する。磁気コンタクトホールは下部磁性層
2と後に形成される上部磁性層6を磁気的に結合するも
のである。最後に、上部磁性層6となるセンダストなど
の軟磁性層をスパッタリングなどによって成膜し、フォ
トリソエツチングによって図示のように磁気コンタクト
ホール5からギャップ部分4の間に伸びるように成形す
る。After forming the coil pattern, an insulating layer such as 5to2 (
7B and 7C is formed on the coil pattern, and a magnetic contact hole 5 is formed in the center of the coil pattern. The magnetic contact hole magnetically couples the lower magnetic layer 2 and the upper magnetic layer 6 to be formed later. Finally, a soft magnetic layer such as Sendust, which will become the upper magnetic layer 6, is formed by sputtering or the like, and formed by photolithography so as to extend between the magnetic contact hole 5 and the gap portion 4 as shown.
ここで磁気コンタクトホール5の形状を示すため、ヘッ
ド部分の上面図を第7図(A)に、また第7図(A)
のx−X断面を第7図(B) に、Y−Y断面を第7図
(C)に示す、磁気コンタクトホール5の従来の形成方
法は、磁気コンタクトホール5となる部分以外の部分に
フォトレジストを行ない、レジストパターン以外の部分
をイオンエツチングするものである。まず、フォトレジ
ストを所定の厚みに塗布した後、プレベーク、露光およ
び現像の後にパターンを固化するためのポストベークを
行なう、この時得られるレジストパターンと下地の各層
のなす角度は一定であるため、イオンエツチングによっ
て形成されるコンタクトホール5と下地のなす角度にも
一定となる。In order to show the shape of the magnetic contact hole 5, a top view of the head portion is shown in FIG. 7(A), and FIG.
The conventional method for forming the magnetic contact hole 5, whose XX cross section is shown in FIG. 7(B) and the Y-Y cross section is shown in FIG. 7(C), is to A photoresist is applied and the areas other than the resist pattern are ion-etched. First, after applying photoresist to a predetermined thickness, post-baking is performed to solidify the pattern after pre-baking, exposure and development.The angle between the resulting resist pattern and each underlying layer is constant. The angle between the contact hole 5 formed by ion etching and the underlying layer is also constant.
この角度Kを磁気コンタクトホールのステップ角という
。This angle K is called the step angle of the magnetic contact hole.
[発明が解決しようとする課題]
ところで、磁気コンタクトホールのステップ角Kが大き
いと、次工程で成膜される上部磁性層6の立上り角度が
大きくなる。特に、上部磁性層6としてセンダストを用
いる場合にはステップ角Kが大きいとステップ部での膜
の連続性が悪化し、磁気抵抗が増加するために記録再生
効率が低下するという問題がある。逆に磁気コンタクト
ホール5のステップ角Kが小さくなると、第7図(C)
に示すコンタクトホールの実効的な幅りが狭くなり、磁
気コンタクトホール5の面積が小さくなってしまう、そ
の結果、前記同様に磁気抵抗が増加するとともに磁気飽
和を発生し、記録再生効率が低下する。[Problems to be Solved by the Invention] Incidentally, when the step angle K of the magnetic contact hole is large, the rising angle of the upper magnetic layer 6 formed in the next step becomes large. In particular, when sendust is used as the upper magnetic layer 6, there is a problem that if the step angle K is large, the continuity of the film at the step portion deteriorates, and the magnetic resistance increases, resulting in a decrease in recording and reproducing efficiency. On the other hand, when the step angle K of the magnetic contact hole 5 becomes smaller, as shown in FIG. 7(C).
The effective width of the contact hole shown in FIG. 1 becomes narrower, and the area of the magnetic contact hole 5 becomes smaller. As a result, the magnetic resistance increases and magnetic saturation occurs, as described above, and the recording and reproducing efficiency decreases. .
また、一方で磁気記録再生の分野では狭トラツク化によ
る記録再生の高密度化が行なわれており、従って磁気ヘ
ッドの各寸法の微細化が進んでいる。しかし、金属膜に
よるコイル部分は発熱やに関する制限が生じる。その結
果、磁気コンタクトホール5の部分の面積がますます小
さくなる傾向がある。この傾向は、同一基板上に複数の
ヘー。On the other hand, in the field of magnetic recording and reproducing, the density of recording and reproducing is increasing by narrowing the tracks, and therefore the dimensions of magnetic heads are becoming smaller. However, the coil portion made of metal film has limitations regarding heat generation. As a result, the area of the magnetic contact hole 5 tends to become smaller and smaller. This tendency allows multiple devices to be placed on the same board.
ド部分を構成するマルチトラックヘッドでは特に顕著で
ある。This is particularly noticeable in the multi-track head that constitutes the board section.
上記のように、従来のコンタクトホール形状では上部磁
性層のステップ部分における連続性と、狭トラツク化あ
るいはマルチトラック化に伴う磁気コンタクトホールの
小面積化という相反する問題点を解決することが困難で
あった。As mentioned above, with conventional contact hole shapes, it is difficult to solve the conflicting problems of continuity in the step portion of the upper magnetic layer and reduction in the area of the magnetic contact hole due to narrower tracks or multi-tracks. there were.
本発明の課題は以上の問題を解決し、記録再生効率を低
下させることなく狭トラツク化あるいはマルチトラック
化が可能な薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供す
ることである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide a thin film magnetic head and a method for manufacturing the same, which allow narrower tracks or multi-tracks without reducing recording and reproducing efficiency.
[課題を解決するための手段1
以上の課題を解決するために、本発明においては、絶縁
層に設けられた磁気コンタクトホールを介して結合され
た上部磁性層および下部磁性層が基板上に設けられる薄
膜磁気ヘッドおよびその製造方法において、磁路方向で
対向する磁気コンタクトホールの縁部の段差部分が前記
基板となす角度が、前記磁路方向にほぼ直交する方向で
対向する磁気コンタクトホールの縁部の段差部分が前記
基板となす角度よりも小さくなるように磁気コンタクト
ホールを構成することにした。[Means for Solving the Problems 1] In order to solve the above problems, in the present invention, an upper magnetic layer and a lower magnetic layer are provided on a substrate and are coupled through a magnetic contact hole provided in an insulating layer. In a thin film magnetic head and a method for manufacturing the same, the angle between the stepped portions of the edges of the magnetic contact holes facing each other in the magnetic path direction and the substrate is such that the edge of the magnetic contact holes facing each other in a direction substantially perpendicular to the magnetic path direction It was decided that the magnetic contact hole would be configured so that the stepped portion of the magnetic contact hole was smaller than the angle formed with the substrate.
[作 用]
以上の構成によれば、磁気コンタクトホールの前記磁路
方向で対向する縁部の段差部分が前記基板となす角度が
小さいため、上部磁性層の連続性を保障でき、また前記
磁路方向にほぼ直交する方向で対向する磁気コンタクト
ホールの縁部の段差部分が前記基板となす角度が大きい
ため、この方向に磁気コンタクトホールを小型化しても
充分な上部および下部磁性層の結合面積を確保できる。[Function] According to the above configuration, since the angle between the step portions of the edges of the magnetic contact hole facing each other in the magnetic path direction and the substrate is small, the continuity of the upper magnetic layer can be ensured, and the Since the stepped portions of the edges of the magnetic contact holes that face each other in a direction substantially perpendicular to the magnetic path direction form a large angle with the substrate, the coupling area between the upper and lower magnetic layers is sufficient even when the magnetic contact holes are downsized in this direction. can be secured.
[実施例]
以下、図面に示す実施例に基づき、本発明の詳細な説明
する。[Example] Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the example shown in the drawings.
第1図(A)は本発明を採用した薄膜磁気ヘッドの要部
の上面を示している。また、第1図(B)、(C)はツ
レツレ第1図(A) (7)X−X断面およびY−Y断
面を示している。すなわち、第1図(A)〜(C)は第
7図(A)〜(C)に相当する。FIG. 1A shows a top view of the essential parts of a thin film magnetic head employing the present invention. Moreover, FIGS. 1(B) and (C) show the XX cross section and YY cross section of FIG. 1(A) (7). That is, FIGS. 1(A) to (C) correspond to FIGS. 7(A) to (C).
本実施例の薄膜磁気ヘッドと従来構造の違いは、磁気コ
ンタクトホール部分にあり、その他の全体構造および全
体的な製造工程は第6図に関連して説明したものとほぼ
同じである。The difference between the thin film magnetic head of this embodiment and the conventional structure is in the magnetic contact hole portion, and the other overall structure and overall manufacturing process are almost the same as those described in connection with FIG.
本実施例における磁気コンタクトホール5は、第1図(
B)に示すように上部磁性層6によって構成される磁路
方向に関してステップ角Klが、第1図(、C) に
示すように上記磁路方向とほぼ直交する方向のステップ
角に2よりも小さくなるように構成されている。好まし
・〈は、ステップ角に1は60°以下、ステップ角に2
は80〜90゜程度とする。The magnetic contact hole 5 in this embodiment is shown in FIG.
As shown in B), the step angle Kl with respect to the magnetic path direction formed by the upper magnetic layer 6 is larger than 2 in the step angle in the direction approximately perpendicular to the magnetic path direction, as shown in FIGS. It is designed to be small. Preferably: 1 is 60° or less for the step angle, 2 is for the step angle
is approximately 80 to 90 degrees.
上記のような構成によれば、ステップ角Klが小さいこ
とで上部磁性層6の立上り角度が第1図(B)に示すよ
うになだらかになり、上部磁性層6の連続性を良好にで
き、磁気抵抗増加による記録再生効率の低下を防止でき
る。According to the above configuration, since the step angle Kl is small, the rising angle of the upper magnetic layer 6 becomes gentle as shown in FIG. 1(B), and the continuity of the upper magnetic layer 6 can be improved. It is possible to prevent a decrease in recording and reproducing efficiency due to an increase in magnetic resistance.
一方、ステップ角に2が大きいため、第1図(C)のよ
うに磁気コンタクトホール5のこの方向の幅りを大きく
とれ、導電膜3のコイル部分の内側の面積が従来と同じ
であっても、充分な面積の磁気コンタクトホール5を形
成でき、磁気抵抗増加あるいは磁気飽和に起因する記録
再生効率の低下が防止される。逆に磁気コンタクトホー
ル全体が占有する面積が従来と同じでよいとすれば、第
1図(C)から明らかなようにコイルを構成する導電I
I!3の面積を磁気コンタクトホール5の方向に拡大す
ることができるため、導電層3の電流密度増大を抑える
ことができ、また第6図のようにマルチトラックヘッド
を構成する場合でも各ヘッドユニットの間隔を狭め、よ
り狭いトラックピッチに対応できるようになる。On the other hand, since the step angle is large, the width of the magnetic contact hole 5 in this direction can be increased as shown in FIG. Also, a magnetic contact hole 5 with a sufficient area can be formed, and a decrease in recording and reproducing efficiency due to an increase in magnetic resistance or magnetic saturation can be prevented. On the other hand, if the area occupied by the entire magnetic contact hole is the same as the conventional one, as is clear from Figure 1(C), the conductive I constituting the coil
I! 3 can be expanded in the direction of the magnetic contact hole 5, an increase in current density in the conductive layer 3 can be suppressed, and even when configuring a multi-track head as shown in FIG. This narrows the spacing and allows for narrower track pitches.
次に、第2図〜第4図を参照して上記の磁気ヘッドを製
造する工程について説明する。Next, the steps for manufacturing the above magnetic head will be explained with reference to FIGS. 2 to 4.
まず、フェライトやガラスなどからなる基板l(第4図
)上にセンダストなどの軟磁性膜による下部磁性層2を
5〜1101L程度スパッタリングし、続いて5io2
から成る第1図の絶縁層(不再度5i02から成る第2
の絶縁層(第1図(B)、(C)の符号工)を堆積し、
磁気ギャップ部分(第6図の符号4)を所定のギャップ
材料から形成した後、フォトリングラフィおよびイオン
エツチング工程によって磁気コンタクトホールを構成す
る。First, a lower magnetic layer 2 made of a soft magnetic film such as Sendust is sputtered on a substrate l (FIG. 4) made of ferrite, glass, etc., about 5 to 1101L, and then 5io2
The insulating layer of FIG.
Depositing an insulating layer (coded in FIGS. 1(B) and (C)),
After forming a magnetic gap portion (numeral 4 in FIG. 6) from a predetermined gap material, a magnetic contact hole is formed by photolithography and ion etching steps.
その第1段階として、第2図(第1図(A)におけるx
−X断面)に示すようにフォトレジスト10を形成して
ステップ角が小さくなるようにイオンビーム20に対す
る角度αが、好ましくは60’以下になるように基板を
配置してイオンビームエツチングを行なう。As the first step,
As shown in the -X section), a photoresist 10 is formed, and ion beam etching is performed by arranging the substrate so that the angle α with respect to the ion beam 20 is preferably 60' or less so that the step angle is small.
次に第2段階では、上記のように形成した磁気コンタク
トホールの磁路方向のステップ部を覆うようにフォトレ
ジストを形成しく不図示)、続いて第3図(第1図(A
)のY−Y断面)に示すように基板に対するイオンビー
ム角αが80〜90’になるように基板を配置してイオ
ンビームエツチングを行なう、この結果、第1図(B)
、(C)および第4図に示されるように、磁路方向とそ
の直交方向でステップ角の異なる磁気コンタクトホール
5を形成することができる。Next, in the second step, a photoresist is formed to cover the step portion in the magnetic path direction of the magnetic contact hole formed as described above (not shown).
), the ion beam etching is performed by arranging the substrate so that the ion beam angle α to the substrate is 80 to 90', as shown in FIG.
, (C) and FIG. 4, it is possible to form magnetic contact holes 5 having different step angles in the magnetic path direction and in the orthogonal direction.
その後センダストなどによる上部磁性層6を従来同様に
形成し、薄膜磁気ヘッドのウェハプロセスを終了する。Thereafter, an upper magnetic layer 6 made of sendust or the like is formed in the conventional manner, and the wafer process of the thin film magnetic head is completed.
上部磁性層6の形成時には、ステップ角Klの設定によ
り前記のように上部磁性層6の連続性が保障され、磁気
抵抗の増大などによる記録再生効率の低下を防止できる
。また、ステップ角に2の設定により充分な上部/下部
磁性層の結合面積を確保でき、同様に記録再生効率の低
下を防止できる。When forming the upper magnetic layer 6, the continuity of the upper magnetic layer 6 is ensured as described above by setting the step angle Kl, and a decrease in recording and reproducing efficiency due to an increase in magnetic resistance can be prevented. Further, by setting the step angle to 2, a sufficient coupling area between the upper and lower magnetic layers can be ensured, and a decrease in recording and reproducing efficiency can also be prevented.
第5図に異なる磁気ヘッドの構造を示す、第5図は第1
図(B)と同様に第1図(A)のX−X断面を示してい
る。第5図では磁路方向のステップ部分を直線状ではな
く符号aで示すように連続した曲面形状に構成している
。このような曲面は第2図の工程においてイオンビーム
20の基板に対する角度を順次変化させることによって
形成できる。このような構成によって上部磁性層6の連
続性がいっそう向上され、磁気記録再生の効率を向上す
ることができる。Figure 5 shows the structure of different magnetic heads.
Similarly to FIG. 1(B), it shows the XX cross section of FIG. 1(A). In FIG. 5, the step portion in the direction of the magnetic path is not formed in a straight line but in a continuous curved shape as indicated by the symbol a. Such a curved surface can be formed by sequentially changing the angle of the ion beam 20 with respect to the substrate in the process shown in FIG. With such a configuration, the continuity of the upper magnetic layer 6 can be further improved, and the efficiency of magnetic recording and reproduction can be improved.
さらに、上記実施例では磁気コンタクトホール5をほぼ
矩形に構成することを考えたが、第1図(A)に符号5
bで示すように、少なくとも上部磁性層6がギャップに
向かう方向のステップ部を円弧状に形成してもよい、こ
のような形状によっても上部磁性層6の連続性を高める
ことができ。Furthermore, in the above embodiment, it was considered that the magnetic contact hole 5 was formed into a substantially rectangular shape, but the reference numeral 5 in FIG.
As shown in b, at least the step portion of the upper magnetic layer 6 in the direction toward the gap may be formed in an arc shape. Such a shape can also improve the continuity of the upper magnetic layer 6.
磁気記録再生効率を向上できる。Magnetic recording and reproducing efficiency can be improved.
〔発明の効果]
以上から明らかなように1本発明によれば、絶縁層に設
けられた磁気コンタクトホールを介して結合された上部
磁性層および下部磁性層が基板上に設けられる薄膜磁気
ヘッドおよびその製造方法において、磁路方向で対向す
る磁気コンタクトホールの縁部の段差部分が前記基板と
なす角度が、前記磁路方向にほぼ直交する方向で対向す
る磁気コンタクトホールの縁部の段差部分が前記基板と
なす角度よりも小さくなるように磁気コンタクトホール
を構成している。従って、磁気コンタクトホールの前記
磁路方向で対向する縁部の段差部分が前記基板となす角
度が小さいため、上部磁性層の連続性を保障でき、また
前記磁路方向にほぼ直交する方向で対向する磁気コンタ
クトホールの縁部の段差部分が前記基板となす角度が大
きいため、この方向に磁気コンタクトホールを小型化し
ても充分な上部および下部磁性層の結合面積を確保でき
、薄膜磁気ヘッドの電磁/磁電変換特性を向上できると
ともに、薄膜磁気ヘッドの小型化、あるいはマルチトラ
ックヘッドにおける狭トラツク化などに特性を損なうこ
となく容易に対応できるという優れた効果がある。[Effects of the Invention] As is clear from the above, the present invention provides a thin film magnetic head in which an upper magnetic layer and a lower magnetic layer are provided on a substrate and are coupled via a magnetic contact hole provided in an insulating layer. In the manufacturing method, the angle formed by the stepped portions of the edges of the magnetic contact holes facing each other in the magnetic path direction with the substrate is such that the stepped portions of the edges of the magnetic contact holes facing each other in the direction substantially perpendicular to the magnetic path direction form an angle with the substrate. The magnetic contact hole is configured to make an angle smaller than the angle formed with the substrate. Therefore, since the angle between the stepped portions of the edges of the magnetic contact holes facing each other in the magnetic path direction is small, the continuity of the upper magnetic layer can be ensured, and the edges facing each other in the magnetic path direction are Since the angle between the stepped portion of the edge of the magnetic contact hole and the substrate is large, even if the magnetic contact hole is made smaller in this direction, a sufficient coupling area between the upper and lower magnetic layers can be secured, and the electromagnetic /It has the excellent effect of not only improving magnetoelectric conversion characteristics but also being able to easily respond to miniaturization of thin film magnetic heads and narrowing of tracks in multi-track heads without impairing characteristics.
第1図(A)は本発明を採用した薄膜磁気ヘッドの要部
の上面図、第1図(B)、(C)はそれぞれ第1図(A
)のx−X線およびY−Y線に沿った断面図、第2図、
第3図はそれぞれ第1図の磁気ヘッドの製造工程を示し
た基板ブロックの断面図、第4図は形成された磁気コン
タクトホールを示した斜視図、第5図は異なる磁気コン
タクトホールの構造を示した断面図、第6図は従来の薄
膜磁気ヘッドの構造および製造工程を示す斜視図、第7
図(A)は従来の薄膜磁気ヘッドの要部の上面図、第7
図(B)、(C)はそれぞれ第7図(A)のx−X線お
よびY−Y線に沿った断面図である。
l・・・基板 2・・・下部磁性層3・・・導
電層
5・・・磁気コンタクトホール
6・・・上部磁性層 10・・・フォトレジスト20
・・・イオンビーム
1ツバ1ニオglZP3tブろ吋任す戸り第2図
tr1工j至」・する断置H目
第3図FIG. 1(A) is a top view of the main parts of a thin-film magnetic head employing the present invention, and FIGS. 1(B) and (C) are respectively FIG. 1(A).
) along the x-X line and the Y-Y line, FIG. 2,
3 is a cross-sectional view of a substrate block showing the manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. 1, FIG. 4 is a perspective view showing formed magnetic contact holes, and FIG. 5 is a diagram showing different structures of magnetic contact holes. 6 is a perspective view showing the structure and manufacturing process of a conventional thin film magnetic head, and FIG.
Figure (A) is a top view of the main parts of a conventional thin-film magnetic head.
Figures (B) and (C) are cross-sectional views taken along the x-X line and the Y-Y line in Figure 7 (A), respectively. l... Substrate 2... Lower magnetic layer 3... Conductive layer 5... Magnetic contact hole 6... Upper magnetic layer 10... Photoresist 20
...Ion beam 1 beam 1 ion glZP 3t blowing 2nd figure
Claims (1)
る上部磁性層および下部磁性層が内部にコイル部材とし
ての導電層を含む絶縁層を介して配置される薄膜磁気ヘ
ッドにおいて、前記上部磁性層および下部磁性層を磁気
的に結合するため前記絶縁層に設けられた磁気コンタク
トホールの前記磁路方向で対向する縁部の段差部分が前
記基板となす角度が、前記磁路方向にほぼ直交する方向
で対向する磁気コンタクトホールの縁部の段差部分が前
記基板となす角度よりも小さくなるよう構成したことを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。 2)基板上に電磁/磁電変換の主体をなす磁路を構成す
る下部磁性層を形成する工程と、前記下部磁性層の上に
第1の絶縁層を介してコイル部材を構成する導電層を形
成する工程と、前記導電層を覆う第2の絶縁層を形成す
る工程と、 第2の絶縁層の前記導電層に囲まれた所定領域に、前記
下部磁性層と、この下部磁性層とともに前記磁路を形成
する上部磁性層を結合するための磁気コンタクトホール
を形成する工程と、 前記磁気コンタクトホールを介して前記下部磁性層に結
合されるとともに磁気ギャップ方向にのびる上部磁性層
を形成する工程からなる薄膜磁気ヘッドの製造方法にお
いて、 前記磁気コンタクトホール形成工程において、前記磁路
方向で対向する磁気コンタクトホールの縁部の段差部分
が前記基板となす角度が、前記磁路方向にほぼ直交する
方向で対向する磁気コンタクトホールの縁部の段差部分
が前記基板となす角度よりも小さくなるように磁気コン
タクトホールを整形することを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。[Claims] 1) An upper magnetic layer and a lower magnetic layer constituting a magnetic path that mainly performs electromagnetic/magnetoelectric conversion are arranged on a substrate with an insulating layer containing a conductive layer serving as a coil member interposed therebetween. In the thin film magnetic head, an angle between stepped portions of edges facing in the magnetic path direction of a magnetic contact hole provided in the insulating layer for magnetically coupling the upper magnetic layer and the lower magnetic layer with the substrate is . A thin film magnetic head, characterized in that a stepped portion of an edge of the magnetic contact hole facing in a direction substantially perpendicular to the magnetic path direction is configured to be smaller than an angle formed with the substrate. 2) Forming a lower magnetic layer constituting a magnetic path that is the main body of electromagnetic/magnetoelectric conversion on the substrate, and forming a conductive layer constituting a coil member on the lower magnetic layer via a first insulating layer. forming a second insulating layer covering the conductive layer; and adding the lower magnetic layer and the lower magnetic layer together with the lower magnetic layer in a predetermined region of the second insulating layer surrounded by the conductive layer. a step of forming a magnetic contact hole for coupling upper magnetic layers forming a magnetic path; and a step of forming an upper magnetic layer coupled to the lower magnetic layer via the magnetic contact hole and extending in the magnetic gap direction. In the method of manufacturing a thin film magnetic head, in the magnetic contact hole forming step, an angle formed by a stepped portion of the edge of the magnetic contact holes facing each other in the magnetic path direction with the substrate is substantially perpendicular to the magnetic path direction. 1. A method of manufacturing a thin film magnetic head, comprising shaping magnetic contact holes so that the stepped portions of the edges of the magnetic contact holes facing each other in the direction are smaller than the angle made with the substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21483788A JPH0264907A (en) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | Thin film magnetic head and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21483788A JPH0264907A (en) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | Thin film magnetic head and its manufacturing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0264907A true JPH0264907A (en) | 1990-03-05 |
Family
ID=16662360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21483788A Pending JPH0264907A (en) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | Thin film magnetic head and its manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0264907A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009086567A (en) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Fujinon Corp | Lens barrel |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP21483788A patent/JPH0264907A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009086567A (en) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Fujinon Corp | Lens barrel |
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