JPH0264911A - 磁気記憶媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記憶媒体及びその製造方法Info
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- JPH0264911A JPH0264911A JP63216135A JP21613588A JPH0264911A JP H0264911 A JPH0264911 A JP H0264911A JP 63216135 A JP63216135 A JP 63216135A JP 21613588 A JP21613588 A JP 21613588A JP H0264911 A JPH0264911 A JP H0264911A
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- magnetic
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- magnetic storage
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記憶媒体及びその製造方法に係わり、更に
説明すれば、Ｖ１１気センサに対する磁気スケールや圧
力シリンダのロンドの伸縮位置検出用メモリ等の被測定
体用又はコンピュータ用のＲＯＭ専用の記憶媒体用等へ
の使用に好適な、析出硬化形磁石材料を用いた磁気記憶
媒体であって、しかも一端記憶した情報が容易に消去さ
れない、つまり既存の記憶データが容易に破壊されない
磁気記憶媒体及びその製造方法に関する。
説明すれば、Ｖ１１気センサに対する磁気スケールや圧
力シリンダのロンドの伸縮位置検出用メモリ等の被測定
体用又はコンピュータ用のＲＯＭ専用の記憶媒体用等へ
の使用に好適な、析出硬化形磁石材料を用いた磁気記憶
媒体であって、しかも一端記憶した情報が容易に消去さ
れない、つまり既存の記憶データが容易に破壊されない
磁気記憶媒体及びその製造方法に関する。
従来の磁気記憶媒体として知られるものに、［気ヘッド
を利用して書き込みと読み出しとを自在に行うためテー
プ又はディスク状ベース上に磁性粉をバインダしたもの
、レーザを利用して書き込みと読み出しとを自在に行う
ための光記録用のもの並びに磁気センサに対しての磁気
スケール及び圧力シリンダのロンドの伸縮位置検出用メ
モリ等がある。これら磁気記憶媒体におけるピッド記憶
の構成を２図面（第５図）の析出硬化形磁石材料からな
る磁気記憶媒体を例を参照して説明する。
を利用して書き込みと読み出しとを自在に行うためテー
プ又はディスク状ベース上に磁性粉をバインダしたもの
、レーザを利用して書き込みと読み出しとを自在に行う
ための光記録用のもの並びに磁気センサに対しての磁気
スケール及び圧力シリンダのロンドの伸縮位置検出用メ
モリ等がある。これら磁気記憶媒体におけるピッド記憶
の構成を２図面（第５図）の析出硬化形磁石材料からな
る磁気記憶媒体を例を参照して説明する。
同図１は析出硬化形磁石材料からなる磁気記憶媒体であ
って、磁性部ＩＡと着磁部ＩＣ（つまり。
って、磁性部ＩＡと着磁部ＩＣ（つまり。
着磁部ＩＣは磁性部ＩＡの一部の所定位置に着磁した部
位である）とからなり、この着磁部ＩＣの有無がピッド
記憶をなす構成である。そこで次にかかるピッド記憶の
形成及び利用の過程について２図面（第６図）を参照し
説明する。同図（ａ）は磁気記憶媒体１の総ての部位が
未だ磁性部ｌＡである状態を示すが、同図（ｂ）に示す
ようにこの磁気記憶媒体１は磁気ヘッド３により、所定
の位置に着磁部ＩＣが形成されて又は既存の着磁部ＩＣ
が消去されて、ピッド記憶の書き込みとなる。逆にピッ
ド記憶の読み出しについては、所定の位置での着磁部Ｉ
Ｃの有無が検出され、「有」ならば「１」と、他方「無
」ならば「０」というピッド記憶の読み出しをする構成
となる。
位である）とからなり、この着磁部ＩＣの有無がピッド
記憶をなす構成である。そこで次にかかるピッド記憶の
形成及び利用の過程について２図面（第６図）を参照し
説明する。同図（ａ）は磁気記憶媒体１の総ての部位が
未だ磁性部ｌＡである状態を示すが、同図（ｂ）に示す
ようにこの磁気記憶媒体１は磁気ヘッド３により、所定
の位置に着磁部ＩＣが形成されて又は既存の着磁部ＩＣ
が消去されて、ピッド記憶の書き込みとなる。逆にピッ
ド記憶の読み出しについては、所定の位置での着磁部Ｉ
Ｃの有無が検出され、「有」ならば「１」と、他方「無
」ならば「０」というピッド記憶の読み出しをする構成
となる。
しかしながら、かかる従来の磁気記憶媒体は。
この磁気記憶媒体の固有の保磁力よりも、より大きい外
部磁場に影響されると、未だ磁化されていない部位（つ
まり第５図の磁性部ＩＡ）が着磁されて既存の記憶が容
易に破壊されてしまうという欠点がある。
部磁場に影響されると、未だ磁化されていない部位（つ
まり第５図の磁性部ＩＡ）が着磁されて既存の記憶が容
易に破壊されてしまうという欠点がある。
本発明は、かかる従来の磁気記憶媒体の問題点に着目し
、一端記憶した情報は容易に消去されない、つまり既存
の記憶データが容易に破壊されない磁気記憶媒体及びそ
の製造方法の提供を目的とする。
、一端記憶した情報は容易に消去されない、つまり既存
の記憶データが容易に破壊されない磁気記憶媒体及びそ
の製造方法の提供を目的とする。
上記目的を達成するため９本発明に係わる請求項１の磁
気記憶媒体は、第１図を参照し説明すれば、析出硬化形
磁石材料からなる磁気記憶媒体１において、非磁性部Ｉ
Ｂと２着磁部ＩＣとを備える構成である。ピッド記憶と
しては非磁性部ＩＢ又は着磁部ＩＣの何れか一方を利用
すればよい。
気記憶媒体は、第１図を参照し説明すれば、析出硬化形
磁石材料からなる磁気記憶媒体１において、非磁性部Ｉ
Ｂと２着磁部ＩＣとを備える構成である。ピッド記憶と
しては非磁性部ＩＢ又は着磁部ＩＣの何れか一方を利用
すればよい。
そしてこの磁気記憶媒体の請求項２に係わる製造方法は
、第２図に基づき説明すれば、先ず析出硬化形磁石材料
１の所望の部位に熱処理を行い、この部位を非磁性部Ｉ
Ｂとする第１工程（同図（ｂ））と９次に前記非磁性部
ＩＢの他の部位ＩＡを着磁して着磁部ｌＣをつくる第２
工程（同図（Ｃ））とからなる構成とした。更に請求項
３に係わる製造方法は、第２図に基づき説明すれば、前
記請求項２の２つの製造工程を逆にした構成、つまり先
ず析出硬化形磁石材料１の全体を着磁し、析出硬化形磁
石ＩＣとなす第１工程（同図（ｂ））と２次に前記析出
硬化形磁石の所望の部位に熱処理を行い、この部位を非
磁性部ＩＢとする第２工程（同図（Ｃ））とからなる構
成である。
、第２図に基づき説明すれば、先ず析出硬化形磁石材料
１の所望の部位に熱処理を行い、この部位を非磁性部Ｉ
Ｂとする第１工程（同図（ｂ））と９次に前記非磁性部
ＩＢの他の部位ＩＡを着磁して着磁部ｌＣをつくる第２
工程（同図（Ｃ））とからなる構成とした。更に請求項
３に係わる製造方法は、第２図に基づき説明すれば、前
記請求項２の２つの製造工程を逆にした構成、つまり先
ず析出硬化形磁石材料１の全体を着磁し、析出硬化形磁
石ＩＣとなす第１工程（同図（ｂ））と２次に前記析出
硬化形磁石の所望の部位に熱処理を行い、この部位を非
磁性部ＩＢとする第２工程（同図（Ｃ））とからなる構
成である。
かかる磁気記憶媒体の構成によれば、非磁性部を利用す
るため、たとえ外部磁場が印加されてもこの非磁性部は
磁化されようがない、換言すれば、一端記憶した情報は
容易に消去され得ない。
るため、たとえ外部磁場が印加されてもこの非磁性部は
磁化されようがない、換言すれば、一端記憶した情報は
容易に消去され得ない。
つまり既存の記憶データが容易に破壊されない磁気記憶
媒体となり得る。この意味において本発明の磁気記憶媒
体は絶対記憶媒体、つまり読み出しオンリイの磁気記憶
媒体といえる。そしてかかる磁気記憶媒体のピッド記憶
として利用するのは。
媒体となり得る。この意味において本発明の磁気記憶媒
体は絶対記憶媒体、つまり読み出しオンリイの磁気記憶
媒体といえる。そしてかかる磁気記憶媒体のピッド記憶
として利用するのは。
非磁性部ＩＢと着磁部ＩＣとが相対的関係であるため、
どちらか一方をピッド記憶とすればよい。
どちらか一方をピッド記憶とすればよい。
次に磁気記憶媒体の製造方法、殊に非磁性部の製造方法
の作用を中心に以下述べる。いわゆるアルニコ磁石（Ｆ
ｅを主体にＡｌ４．Ｎｉ、Ｃｏを含む磁石）や鉄・クロ
ム・コバルトｌｉｔ石（Ｆｅ−Ｃｒ・Ｃｏ磁石：Ｆｅを
主体にＣｒ、Ｃｏを含む磁石）等の析出硬化形磁石の磁
性特性は磁場中で熱処理されることにより、−軸の磁気
異方性をもつ粒子を異方性を持たせてスピノーダル分解
（二層分離）により析出させて作られる。従って本発明
における。磁性をもった析出硬化形磁石の所望の部位を
非磁性にする操作は、磁場雰囲気を与えないで、その所
望の部位を再度熱処理すればよい、また未だ磁性をもた
ない析出硬化形磁石材料の所望の部位を非磁性にする操
作も同様に、磁場雰囲気を与えないで、その所望の部位
を熱処理すればよい。つまりこの熱処理の目的は所望の
部位の異方性を破壊するか又は存在させないようにする
ことにあり、急熱・急冷、溶解又は焼鈍等の後、焼鈍等
の冷却過程という熱処理を介することによって二次析出
が抑えられ目的の非磁性部位が形成され得る。尚、特許
請求の範囲その他で述べる「非磁性（又は非磁性部位）
」は厳密に言えば現実的表現と言えないので、これは「
磁気特性が大幅に低下した又は劣化した部位」の意味で
記載しである。
の作用を中心に以下述べる。いわゆるアルニコ磁石（Ｆ
ｅを主体にＡｌ４．Ｎｉ、Ｃｏを含む磁石）や鉄・クロ
ム・コバルトｌｉｔ石（Ｆｅ−Ｃｒ・Ｃｏ磁石：Ｆｅを
主体にＣｒ、Ｃｏを含む磁石）等の析出硬化形磁石の磁
性特性は磁場中で熱処理されることにより、−軸の磁気
異方性をもつ粒子を異方性を持たせてスピノーダル分解
（二層分離）により析出させて作られる。従って本発明
における。磁性をもった析出硬化形磁石の所望の部位を
非磁性にする操作は、磁場雰囲気を与えないで、その所
望の部位を再度熱処理すればよい、また未だ磁性をもた
ない析出硬化形磁石材料の所望の部位を非磁性にする操
作も同様に、磁場雰囲気を与えないで、その所望の部位
を熱処理すればよい。つまりこの熱処理の目的は所望の
部位の異方性を破壊するか又は存在させないようにする
ことにあり、急熱・急冷、溶解又は焼鈍等の後、焼鈍等
の冷却過程という熱処理を介することによって二次析出
が抑えられ目的の非磁性部位が形成され得る。尚、特許
請求の範囲その他で述べる「非磁性（又は非磁性部位）
」は厳密に言えば現実的表現と言えないので、これは「
磁気特性が大幅に低下した又は劣化した部位」の意味で
記載しである。
（実施例〕
以下図面（第１図乃至第４図）を参照し１本発明の詳細
な説明する。第１図は請求項１に係わる磁気記憶媒体を
示す図、第２図は請求項２の磁気記憶媒体の製造方法を
説明する図、第３図は請求項３の磁気記憶媒体の製造方
法を説明する同第４図は請求項３の製造方法で製造した
請求項１の磁気記憶媒体の効果を説明する図である。第
１図において、１は鉄・クロム・コバルト磁石用の析出
硬化形磁石材料（幅５ｍｍＸ厚さ１０ｍｍｘ長さ８０ｍ
ｍ）であって、非磁性部ｌＢと着磁部ＩＣ（この着磁部
ｌＣがいわゆる鉄・クロム・コバルト磁石である）を示
す、ここでピッド記憶を非磁性部ＩＢ又は着磁部ＩＣの
いずれか一方とすれば完全な使用中の磁気記憶媒体とな
る。第２図の請求項２の実施例は、上記請求項１の実施
例磁気記憶媒体を製造した際の実施例であって、鉄・ク
ロム・コバルト磁石用の析出硬化形磁石材料（幅５ｍｍ
Ｘ厚さ１０ｍｍＸ長さ８０ｍｍ）１を準備しく同図（ａ
））、次にレーザ２Ａ（２はレーザ源である）を用い、
所望の部位を表面から２〜３ｍｍまでの深さを約７００
°Ｃで加熱した後これを焼き戻してこの部位を非磁性部
ＩＢとする第１工程を行う（同図（ｂ））、その後、こ
の析出硬化形磁石材料ｌ全体を、Ｂ−Ｈトレーサを用い
て厚さ方向に磁場をかけて着磁部ＩＣとなす第２工程を
行う（同図（ｃ））、上述の磁気記憶媒体を製造する。
な説明する。第１図は請求項１に係わる磁気記憶媒体を
示す図、第２図は請求項２の磁気記憶媒体の製造方法を
説明する図、第３図は請求項３の磁気記憶媒体の製造方
法を説明する同第４図は請求項３の製造方法で製造した
請求項１の磁気記憶媒体の効果を説明する図である。第
１図において、１は鉄・クロム・コバルト磁石用の析出
硬化形磁石材料（幅５ｍｍＸ厚さ１０ｍｍｘ長さ８０ｍ
ｍ）であって、非磁性部ｌＢと着磁部ＩＣ（この着磁部
ｌＣがいわゆる鉄・クロム・コバルト磁石である）を示
す、ここでピッド記憶を非磁性部ＩＢ又は着磁部ＩＣの
いずれか一方とすれば完全な使用中の磁気記憶媒体とな
る。第２図の請求項２の実施例は、上記請求項１の実施
例磁気記憶媒体を製造した際の実施例であって、鉄・ク
ロム・コバルト磁石用の析出硬化形磁石材料（幅５ｍｍ
Ｘ厚さ１０ｍｍＸ長さ８０ｍｍ）１を準備しく同図（ａ
））、次にレーザ２Ａ（２はレーザ源である）を用い、
所望の部位を表面から２〜３ｍｍまでの深さを約７００
°Ｃで加熱した後これを焼き戻してこの部位を非磁性部
ＩＢとする第１工程を行う（同図（ｂ））、その後、こ
の析出硬化形磁石材料ｌ全体を、Ｂ−Ｈトレーサを用い
て厚さ方向に磁場をかけて着磁部ＩＣとなす第２工程を
行う（同図（ｃ））、上述の磁気記憶媒体を製造する。
尚、前記第２工程において析出硬化形磁石材料１全体を
着磁させるといっても、第１工程で生成された非磁性部
ＩＢは磁化されないのは当然のことであってこれが本発
明の趣旨である。
着磁させるといっても、第１工程で生成された非磁性部
ＩＢは磁化されないのは当然のことであってこれが本発
明の趣旨である。
第２図の請求項３の実施例は、鉄・クロム・コバルト磁
石用の析出硬化形磁石材料（幅５ｍｍＸ厚さ１０ｍｍＸ
長さ８０ｍｍ）１を準備しく同図（ａ））、この析出硬
化形磁石材料１全体を、 Ｂ −Ｈトレーサを用いて厚
さ方向に磁場をかけて着磁させ鉄・クロム・コバルト磁
石とする第１工程を行う（同図（ｂ））。その後、この
磁石をレーザ２Ａを用い、所望の部位を表面から２〜３
ｍｍまでの深さを約７００ ’Ｃで加熱した後これを焼
き戻してこの部位を非磁性部ＩＢとする第２工程を行い
（同図（ｃ））ｉｆｆ気記憶媒体を製造する。そこでこ
れら実施例の効果を第４図を参照し説明する、同図は、
上記請求項３で製造した磁気記憶媒体をホール素子を用
いて発生電圧、即ち磁場強度を評価したものであって、
同図にみられる通り２着磁部ＩＣには電圧が生じ、他方
非磁性部ＩＢには電圧が生じない、即ち非磁性部ＩＢは
磁化されていないことが明瞭である０以上から分かる通
り簡単な製造方法で磁気センサに対する磁気スケールや
圧力シリンダのロッドの伸縮位置検出用メモリ等の被測
定体用、コンピュータ用のＲＯＭ専用の記憶媒体用、又
はエンコーダ等の絶対記録に好適な磁気記憶媒体及びそ
の製造方法を提供し得ることが分かる。
石用の析出硬化形磁石材料（幅５ｍｍＸ厚さ１０ｍｍＸ
長さ８０ｍｍ）１を準備しく同図（ａ））、この析出硬
化形磁石材料１全体を、 Ｂ −Ｈトレーサを用いて厚
さ方向に磁場をかけて着磁させ鉄・クロム・コバルト磁
石とする第１工程を行う（同図（ｂ））。その後、この
磁石をレーザ２Ａを用い、所望の部位を表面から２〜３
ｍｍまでの深さを約７００ ’Ｃで加熱した後これを焼
き戻してこの部位を非磁性部ＩＢとする第２工程を行い
（同図（ｃ））ｉｆｆ気記憶媒体を製造する。そこでこ
れら実施例の効果を第４図を参照し説明する、同図は、
上記請求項３で製造した磁気記憶媒体をホール素子を用
いて発生電圧、即ち磁場強度を評価したものであって、
同図にみられる通り２着磁部ＩＣには電圧が生じ、他方
非磁性部ＩＢには電圧が生じない、即ち非磁性部ＩＢは
磁化されていないことが明瞭である０以上から分かる通
り簡単な製造方法で磁気センサに対する磁気スケールや
圧力シリンダのロッドの伸縮位置検出用メモリ等の被測
定体用、コンピュータ用のＲＯＭ専用の記憶媒体用、又
はエンコーダ等の絶対記録に好適な磁気記憶媒体及びそ
の製造方法を提供し得ることが分かる。
以上説明したように１本発明にかかわる磁気記憶媒体に
よれば、一端記憶した情報は容易に消去されない、つま
り既存の記憶データが容易に破壊されない磁気記憶媒体
となる。更にこの磁気記憶媒体はレーザ等の比較的扱い
易い機器によって。
よれば、一端記憶した情報は容易に消去されない、つま
り既存の記憶データが容易に破壊されない磁気記憶媒体
となる。更にこの磁気記憶媒体はレーザ等の比較的扱い
易い機器によって。
しかも単に２工程という容易な製造方法により製造する
ことができる。
ことができる。
第１図は請求項１に係わる磁気記憶媒体を示す図、第２
図は請求項２の磁気記憶媒体の製造方法を説明する図、
第３図は請求項３の磁気記憶媒体の製造方法を説明する
図、第４図は請求項３の製造方法で製造した請求項１の
磁気記憶媒体の効果を説明する図、第５図は従来の磁気
記憶媒体を説明する図、第６図は従来の磁気記憶媒体の
製造方法を説明する図である。 １・・・析出硬化形磁石材料 ＩＡ・・磁性部 １Ｂ・・非磁性部 ＩＣ・・着磁部 ２・・・レーザ源 ２Ａ・ ・レーザ ３・・・磁気ヘッド
図は請求項２の磁気記憶媒体の製造方法を説明する図、
第３図は請求項３の磁気記憶媒体の製造方法を説明する
図、第４図は請求項３の製造方法で製造した請求項１の
磁気記憶媒体の効果を説明する図、第５図は従来の磁気
記憶媒体を説明する図、第６図は従来の磁気記憶媒体の
製造方法を説明する図である。 １・・・析出硬化形磁石材料 ＩＡ・・磁性部 １Ｂ・・非磁性部 ＩＣ・・着磁部 ２・・・レーザ源 ２Ａ・ ・レーザ ３・・・磁気ヘッド
Claims (3)
- （１）析出硬化形磁石材料でなる磁気記憶媒体において
、非磁性部と、着磁部とからなる構成を特徴とする磁気
記憶媒体。 - （２）（イ）析出硬化形磁石材料の所望の部位に熱処理
を行い、この部位を非磁性部とする第１工程。 （ロ）前記非磁性部の他の部位を着磁する第２工程、 以上の工程より請求項１記載の磁気記憶媒体を製造した
ことを特徴とする磁気記憶媒体の製造方法。 - （３）（イ）析出硬化形磁石材料の全体を着磁する第１
工程。 （ロ）前記析出硬化形磁石の所望の部位に熱処理を行い
、この部位を非磁性部とする第２工程。 以上の工程より請求項１記載の磁気記憶媒体を製造した
ことを特徴とする磁気記憶媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63216135A JPH0264911A (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 磁気記憶媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63216135A JPH0264911A (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 磁気記憶媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0264911A true JPH0264911A (ja) | 1990-03-05 |
Family
ID=16683814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63216135A Pending JPH0264911A (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 磁気記憶媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0264911A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5668660A (en) * | 1994-11-29 | 1997-09-16 | Hunt; Gary D. | Microscope with plural zoom lens assemblies in series |
| US6072622A (en) * | 1992-12-22 | 2000-06-06 | Carl-Zeiss-Stiftung | Operation microscope |
-
1988
- 1988-08-30 JP JP63216135A patent/JPH0264911A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6072622A (en) * | 1992-12-22 | 2000-06-06 | Carl-Zeiss-Stiftung | Operation microscope |
| US5668660A (en) * | 1994-11-29 | 1997-09-16 | Hunt; Gary D. | Microscope with plural zoom lens assemblies in series |
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