JPH026594A - 液体混合物の供給比率の調整方法 - Google Patents

液体混合物の供給比率の調整方法

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JPH026594A
JPH026594A JP1070763A JP7076389A JPH026594A JP H026594 A JPH026594 A JP H026594A JP 1070763 A JP1070763 A JP 1070763A JP 7076389 A JP7076389 A JP 7076389A JP H026594 A JPH026594 A JP H026594A
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  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液体混合物、特に溶剤膜ろうに使用される混
合溶剤の供給比率の調整に関する。更に詳しくは、本発
明は、好ましくは異った比率のMEK−トルエン溶剤で
脱ろうされる異った基礎原料を処理するのに使用するこ
とのできるMEK−トルエン溶剤中のトルエンに対する
メチルエチルケトンの比率の調整方法に関する。
常圧蒸留若しくは減圧蒸留により回収した潤滑油留分を
用いて最終的な潤滑油を配合するには更なる処理が必要
である。処理の形式と度合は、例えば、(ifパラフィ
ン系粗原料の減圧蒸留から缶底液として回収したブライ
トストック(bright 5tock)又はfii)
パラフィン系還元粗原料もしくはアスファルト系還元粗
原料の減圧蒸留から側留物(side cut)として
回収したワックス留出物から誘導することのできる留分
の組成によって変る。
これらの潤滑油原料の更なる処理としては、脱ろう、溶
剤抽出、酸処理等の広汎な操作を行なって最終的なブラ
イトストック又は潤滑油留出物を得ることが挙げられる
ワックス含有潤滑油原料よりワックスを除去するために
脱ろう法が行なわれており、耐寒冷特性即ち、寒冷条件
下においてワックスを沈積せず、かつ粘度、粘度指数等
が改良されているという特徴を有する生成物が得られる
。MEK脱ろう方法は、通常、オイル溶剤としてのトル
エン及びワックス反溶剤(antisolvent)と
してのメチルエチルケトンを含む溶剤を用いて行なわれ
る。
トルエンに対するMEKの比率を制御し、この比率を調
節可能にすることは、これによって種々の基原料の処理
のための最適濃度を用いることが可能となるので重要で
ある0通常、ブライトストックの処理には0.7:1〜
l:1、例えば1(即ち1:1)の比率が、ライトスト
ック(lightstocklの処理には1.2:1〜
2.3+1、例えば2(即ち2:l)の比率が使用され
る。
換言すれば、ブライトストックはメチルエチルケトン:
トルエンの比率が70 : 30〜50 : 50の範
囲の溶剤を、ライトストックは40 : 60〜50 
: 50比率の溶剤を用いて脱ろうすることができる。
尚、これらの比率は重量比である。
明らかに、単系列の脱ろう操作の操作員は自系列で全て
の範囲の潤滑油原料の処理が可能であることを望むが、
これは、従来、蒸留法によるように、その比率を調整す
るため実質的な追加投資と高額な運転費用が必要となっ
ている。
本発明の目的は、供給比率のオイル溶剤とワックス反溶
剤とを含有する供給混合物を処理して、異った比率のオ
イル溶剤とワックス反溶剤とを含む生成混合物を得る新
規な方法を提供することである。その他の目的は当業者
には明らかとなろう。
本発明は、その骨格中に炭素原子を有しかつ懸垂酸基を
有する高分子量イオン交換樹脂を含み、カリウム塩又は
それぞれが少なくとも4個の炭素原子を有する炭化水素
基を含む第4級ホスホニウム塩からの対イオンを有する
非孔質パーバボレーション(pervaporatio
nl II@に、該パーバポレーション膜を横切って加
圧滴を保持しながら混合物を接触させ、それによって、
(i)酸素含有ワックス反溶剤(antisolven
t)の含有率が減少した滞留液(retentatel
及び(iil酸素含有ワックス反溶剤の含有率が増加し
た透過液(permeatelを形成させることを特徴
とする、有機酸素含有ワックス反溶剤と芳香族炭化水素
溶剤との混合物の供給比を調整する方法に関する。ここ
で使用する「パーバポレーション」なる用語は、液体が
非孔質膜を通して蒸発する方法を意味するものである。
本発明は、また、懸垂酸基を有し、カリウム塩又は陽イ
オン: R4P”(ここで、Rは、それぞれ、少なくと
も4個の炭素原子を有する炭化水素基である)を有する
第4級ホスホニウム塩からの対イオンを有する膜の形態
の高分子量イオン交換樹脂を提供するものである。
本発明によって得られる溶剤混合物によって脱ろうする
ことのできるワックス含有潤滑油原料は、パラフィン系
もしくはアスファルト系の原油の蒸留によって得られる
潤滑油沸点範囲の分留油であってよい、典型的な分留油
としては、(i)パラフィン系還元粗原料の減圧蒸留に
よって得られるワックス留出物もしくはライトストック
、又は(iilアスファルト系粗原料から誘導された減
圧蒸留缶底物を脱アスフアルト化することなどによって
得られるブライトストックが挙げられる。
原料のワックス含量は、蒸留する原油の性質、分留油の
沸点及び蒸留後の処理の詳細によって広範囲に変化させ
ることができるが、脱ろう工程への典型的なブライトス
トック供給物は、2%〜50%、例えば20重量%のワ
ックスを含み、一方、典型的なワックス留出物又はライ
トストックは2%〜50%、例えば20重量%のワック
スを含む。
脱ろうの実施においては、60丁〜200″F、例えば
80°Fにおける供給原料100部を、200〜600
部、例えば250部の脱ろう溶剤と混合し、混合物を、
二重管冷却器内で30T〜−20’F、例えば−15下
に冷却する。冷却は、生成油の所定の低温試験温度の数
度以下に冷却する。
使用する脱ろう溶剤は、芳香族炭化水素油溶剤を含有す
る。典型的には、これは、トルエンもしくはベンゼンあ
るいはこの両者の混合物であってよい(しかしながら、
毒性上の考慮から、現在、米国においては脱ろう溶剤と
してベンゼンは殆ど使用されていない)、更に、脱ろう
溶剤中には、含酸素ワックス反溶剤、典型的にはメチル
イソブチルケトンもしくはより好ましくはメチルエチル
ケトン(MEK)のようなケトン類が存在している。
ブライトストックを脱ろうする場合には、トルエンに対
するMEKの重量比は0.7:1〜1:1であってよく
、通常は、メチルエチルケトンとトルエンとの等重量混
合物(即ち比1:1の混合物)を脱ろう溶剤として使用
する。ワックス留出物もしくはライトストックを脱ろう
する場合には、トルエンに対するMEKの重量比は1.
2+1〜2.3:1であってよく、通常は、2:1の比
率のメチルエチルケトン−トルエン混合物が脱ろう溶剤
として使用される。
典型的には内部かき取り器付き(internally
scraped) 2重管冷却器内で供給油と脱ろう溶
剤の混合物を冷却すると、溶液からワックスが沈澱し、
スラリーが生成する。冷却されたスラリーを濾過操作に
かける。これは、典型的には回転式真空フィルター内で
行なわれ、脱ろう溶剤中の脱ろう油原料の炉液溶液から
沈積ワックスが除去される。
脱ろう溶剤中の脱ろう潤滑油原料の炉液溶液をフィルタ
ーから取り出し、加熱して脱ろう溶剤を留去し、脱ろう
油を回収する。
脱ろう工程を行なってブライトストックを脱ろうする場
合には、脱ろう溶剤中のトルエンに対するメチルエチル
ケトンの重量比は通常l:1である。保存においては1
:1溶剤の大量の貯留物(inventoryl を保
存することが一般的である。
ワックス留出物もしくはライトストックを脱ろうする場
合には、2:1の比率の溶剤を使用することが好ましい
、その−態様によれば、本発明の特徴は、脱ろう溶剤中
の芳香族炭化水素油溶剤に対する含酸素ワックス反溶剤
の比率を、容易にかつ経済的に他の比率に変化させるこ
とができることである。
典型的な操作においては、ブライトストックの脱ろうは
、比l:1の脱ろう溶剤を、その比率の貯留1から取り
出して(溶剤回収後は貯留槽に戻す)用いて行なわれる
。脱ろうされる供給潤滑油をライトストックに切り代え
る場合は、切り代えの前に、修正比率の溶剤の所望の貯
留量を貯蔵するのに十分な時間をとって、比1:1の溶
剤を、本発明の膜分離系を通過させる。膜系は、l:1
の供給溶剤を、(i)高割合のメチルエチルケトン酸素
化物ワックス反溶剤と、低割合のトルエン芳香族油溶剤
とを含む透過液及び[iil低割合のメチルエチルケト
ンと高割合のトルエンとを含む滞留液に変換する。
明らかなように、特定の変更度合は脱ろう操作の必要性
に依存する0例えば、フライトストック脱ろう用に用い
るl:1の比率は、ライトストックの脱ろうには2:1
に転換するのが好ましい。
この場合、膜パーバボレーションを行なって比2:1の
透過液を得、滞留液は比1:2を有することを特徴とす
る。
転換は、ライトストックの脱ろうを充分実施できる比2
:1の溶剤量に転換されるまで実施される。不要な比1
:2の溶剤は、以下に示すように必要となるまで貯蔵す
る。
比2:1の溶剤を必要とする原料の脱ろうは、外部条件
がその脱ろうの中断の必要性を示し、1:1比率の必要
な原料の脱ろうに戻るまで継続する。
この時点で、比l:2の溶剤〔膜操作から滞留液として
分離される)を貯留物から取り出し、これを、等重量の
ブライトストック脱ろう用の比2:1の溶剤(透過液と
して回収される)と混合して、所望の比1:1の溶剤を
得ることができる。
明らかに、接触時間の関数である膜操作の度合いを変化
させて、精製の必要性に適合させることができる0例え
ば、1:1の供給液を1.7:1の浸透液に転化させる
か、あるいは、代りに例えば0.9:1の比率の溶剤を
含んでいる滞留液を使用することが好ましい。
この操作方法によって、必要により、例えば、異なる温
度、圧又は時間で膜系を操作することによって精製物を
溶剤の特性(即ち比率)において変化させて所望の比を
得るか、又は、異なる割合の透過液貯留物と滞留液貯留
物とを混合して所望の比の溶剤を得ることが可能になる
ことが当業者には明らかとなろう。
有機酸素含有ワックス反溶剤と有機油溶剤とを含む供給
液の処理は。
有機酸素含有ワックス反溶剤及び有機油溶剤を含む原料
液を、パーバポレーション膜として、カリウム塩又はそ
れぞれが少なくとも4個の炭素原子を有する炭化水素基
を有する第4級ホスホニウム塩の対イオンと接触してい
る膜の形態の高分子量イオン交換樹脂と接触せしめ; 前記パーバポレーション膜を横切って加圧滴を保持して
、それによって、含有量の減少した有機酸素含有ワック
ス反溶剤及び含有量の増加した有機オイル溶剤を含む滞
留液、並びに、含有量の増加した有機酸素含有ワックス
反溶剤及び含有量の減少した有機油性溶剤を含む透過液
を生成し;含有量の減少した有機酸素含有ワックス反溶
剤、及び、含有量の増加した有機オイル溶剤を含むかか
る滞留液を回収し;更に 含有量の増加した有機酸素含有ワックス反溶剤、及び、
含有量の減少した有機オイル溶剤を含む前記浸透液を回
収することによって行なうことができる。
本発明方法の実施において用いることのできるパーバポ
レーション膜は、膜の形態の高分子量イオン交換樹脂で
あってよい、この膜は、ポリオレフィン(例えば、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、エチレン−
プロピレンコポリマー、1.4−へキサジエンもしくは
ジシクロペンタジェンもしくはエチリデンノルボルネン
のような第3のモノマーとエチレン、プロピレンとのタ
ーポリマー);ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等のビ
ニル類、ペルフルオロポリオレフィン、ペルフルオロエ
ーテルポリマー等のような非孔質材料から製造すること
ができる。明らかに、膜の分子量は種類によって異なっ
ていてよい、膜の厚さは典型的には80〜190Fであ
ってよい。
膜の形態で用いることの°できるイオン交換樹脂は、−
COOH基又はより好ましくは一5osH基のような懸
垂酸基が存在することを特徴とする。これらの酸基は、
(樹脂中に既に存在していない場合には)公知の方法で
適当な試薬によって官能化することにより樹脂中に導入
することができる。
好適な種類の膜としては、ペルフルオロ炭化水素もしく
はエーテル(即ち、例えば−SO3H等の懸垂酸基上の
水素原子以外は実質的に水素原子を含まないもの)が挙
げられる。これらの膜は、好ましくは、次式によって特
徴付けることができる: CF2    CFs 特に好適な酸性樹脂膜は、用いることのできる市販のイ
オン交換樹脂膜を示す下表において一番目に示されてい
るものである。
A、厚さ190ミクロンで次式: を有する、デュポン社(DuPont)製の商品名Na
fion−H117のペルフルオロ樹脂。
B1次式: %式% を有するスルホン化ポリエチレン。
本発明方法において有効に用いることのできる懸垂酸基
を有する膜の形態の高分子量樹脂の処理としては、かか
る膿を、(i)カリウム塩又は(ii)第4級ホスホニ
ウム塩:R4PX(ここで、Rは少くとも4個の炭素原
子を有する炭化水素基であり、Xは、好ましくはハロゲ
ン化物、より好ましくは臭化物イオンである)から誘導
することのできる対イオンと接触させることが挙げられ
る。対イオンを与える処理は、供給液と接触する少なく
とも膜表面に対イオンを含む試薬溶液な接触させること
によって行なうことができる。
対イオンを供与する処理剤は、典型的には陽イオンの塩
、即ちハロゲン化物、硫酸塩等の水溶液である。対イオ
ンがカリウムである場合には、処理液は、通常、例えば
塩化カリウム等の水溶液の形態であってよい。
処理剤が第4級ホスホニウム塩の場合、式:R4PXに
よって特徴付けることができる。
上記化合物において、Rは、不活性基によって置換され
ている場合にはそのような基を含む、アルキル、アラル
キル、シクロアルキル、アリール及びアルカリールから
なる群より選択される炭化水素であってよい、Rがアル
キル基である場合には、典型的には、n−ブチル、i−
ブチル、5ec−ブチル、アミル、オクチル、デシル、
オクタデシル等であってよい、Rがアラルキルの場合に
は、典型的には、ベンジル、β−フェニルエチル等であ
ってよい、Rがシクロアルキルの場合には、典型的には
、シクロヘキシル、シクロへブチル、シクロオクチル、
2−メチルシクロへブチル、3−ブチルシクロヘキシル
、3−メチルシクロヘキシル等であってよい、Rがアル
カリールの場合には、典型的には、トリル、キシリル等
であってよい、Rは、不活性置換基によって置換されて
いてもよく、即ち、アルキル、アリール、シクロアルキ
ル、エーテル等の非反応性置換基を有していてもよい、
不活性置換基によって置換されたRの例としては、4−
メチルシクロヘキシル等を挙げることができる。好まし
いR基はフェニルである。
R基は同一であることが好ましいが、異っていても差し
支えない、Xは硫酸塩イオン又は好ましくはハロゲン化
物、好ましくは塩化物又は臭化物、最も好ましくは臭化
物のような陰イオンであってよい。
用いることのできる第4級塩としては下表に示すものが
挙げられる(1番目に示したものが好ましいものである
): テトラフェニルホスホニウムブロミド テトラブチルホスホニウムブロミド テトラーn−ブチルホスホニウムクロリドテトラ−1−
プチルホスホニウムブロミドテトラブチルホスホニウム
フルオリド 処理剤であるカリウム塩もしくは第4級塩は、水もしく
はアルコール中、通常はイソプロピルアルコールのよう
なアルコール類中の、典型的には5重量%〜50重量%
、例えば10重量%(約0.2Mに相当)の濃度の溶液
として用いることができる。液の接触は、穏やかに撹拌
しながら、25℃で12〜48時間、例えば24時間行
う。
その後、処理された膜を、イソプロパツールによって、
20℃〜40℃、例えば25℃で10〜50分、例えば
30分間、2〜5回、例えば3回洗浄し、その後、イソ
プロパツールと水の容量比50150の混合液で洗浄し
、20℃〜40℃、例えば25℃で5〜20分、例えば
10分間乾燥する。
本発明の膜は種々の構造で使用することができる0例え
ば、プレート/フレーム構造で膜を用いることができ、
この場合は、多孔質支持層上に分離膜層を配置すること
ができる。
好ましい一態様においては、本発明の系を管状もしくは
中空繊維として用いることができる。
この態様においては、樹脂膜を、典型的には0.001
〜0.1mmの壁厚を有する微細管として押出成形する
ことができる。押出成形された管を、対イオン浴を通過
させることができる。この管の束を両端において(エポ
キシ接着剤を用いて)へラグ−内に固定し、ヘッダーの
終端部において平らになるように繊維を切断する。この
管束を典型的なセル/チューブ装置内のセル内に設置す
る。
操作においては、供給液を管側に導入し、管の内部を通
過させ、滞留液として残留させる。管内を通過中に、透
過液が非孔質分離膜を通過してシェル側において補集さ
れる。
本発明の膜は、バーバポレーション法において使用する
と特に有効であることが見出されることが特徴である。
パーバポレーションにおいては、透過性のより高い成分
と透過性のより低い成分とを含む供給液を、非孔質分離
膜層と接触させて保持し、この層を横切って加圧滴を保
持する。供給液の一部が膜中に溶解し、その中に拡散す
る。膜を通過し、蒸気として存在する透過物は、低温に
おいて凝縮させるか又はガスの移動流を用いることによ
って掃出することにより回収することができる。好まし
くは、膜の透過液側を、低圧、典型的には1〜10闘H
gに保持する。
パーバボレーションに関する一般的な背景については、
米国特許筒4,277.344号、米国特許筒4.03
9.440号、米国特許筒3.926,798号、米国
特許筒3,950.247号、米国特許筒4,035,
291号等を参照のこと。
上記の膜が、メチルエチルケトンで代表される有機含酸
素成分とトルエンのような炭化水素の溶液に関するパー
バポレーション法において特に有用であることが本発明
の特徴である。
典型的な供給物は、ブライトストックのMEK脱ろうに
使用されるもののような等重量部のメチルエチルケトン
とトルエンとを含むものであってよい。
本発明のパーバボレーション法の実施においては、25
℃〜120℃、例えば70℃の供給液が本発明の非孔質
膜と接触せしめられる0通常、約1気圧の加圧滴が膜を
横切って保持される。典型的には、膜の供給又は充填側
はほぼ大気圧であり、膜の透過側又は排出側は約0.5
〜50 mmHg(66,66〜6666Pa)、好ま
しくは0.5〜20mmHg(66,66〜2666P
a)、例えば5mmHg(666,6Pa)の圧である
膜を通過した透過液は、濃度の増加したMEK及び濃度
の減少したトルエンを含む、典型的には、滞留液は、含
有率の減少したMEK及び含有率の増加したトルエンを
含む、透過液を凝縮させて液相において回収する。
パーバポレーションは、通常、0.01〜lO1例えば
0.10ガロン/平方フイ一ト/日(0,017〜16
.9、例えばo、14kg/rt1″/時(kmhl 
に相当)の流束度(fluxlで行なわれる。典型的に
は9本装置は70%以下の選択率を有する(25〜70
℃におけるパーバボレーションによる透過液中の酸素含
有成分の重量%で測定した)。
膜が所望の酸素化物を回収する能力を示す分離係数(S
eparation Factor) : S又はSe
pは次式にしたがって計算される。
ここで、xn及びXISは、それぞれ、透過液(P)及
び供給液(F)中の酸素含有成分及び芳香族炭化水素の
重量分率である。全く分離を示さない系の分離係数は1
であり、100%の完全な分率を示す系の分離係数は無
限大である。
本発明方法は、約2〜5、通常は2〜3、例えば約2.
5の分離係数を有する。満足な操作には少くとも約2の
分離係数が必要であると考えられている。
透過液中の酸素含有成分の濃度はいくつかの変数の関数
であることは当業者に明らかとなろう。
これらの中には、膜対イオンの組成、パーバボレーショ
ンの温度及び圧、並びに供給液と膜との間の有効接触時
間、又は別の表現では膜との接触面積がある。
例えば、ある態様においては、可溶性成分の濃度の増加
を僅かしか行なわないことが望ましいことがあり、一方
、濃度を大きく増加させることが望ましいことがある。
以下の実施例によって本発明方法の実施が当業者に明ら
かとなろう、ここで、本明細書の他の部分と同様に、特
に指定のない限り、部は全て重量部である。
夾胤旦ユ 本発明方法をその一態様にしたがって行なう最良の態様
を示す本実施例においては、脱ろうされる供給潤滑油は
、パラフィン系原油から誘導されたフライトストックで
ある。かかるブライトストックは20重量%のワックス
を含み、1100″F(593°C)の初留点(ibp
l を有することを特徴としている。
このフライトストック(100部)を、等重量部のメチ
ルエチルケトン及びトルエンを含む脱ろう溶剤400部
と混合することによって脱ろうした。混合物を2重管冷
却器内で−15″F(−26℃)に冷却した。ワックス
及びオイルのスラリーを一15下(−26℃)で濾過し
、流動点(pour pointl−5″F(−21”
C)の脱ろう油78部を得た。
炉液を脱ろう油蒸発器に送り、加熱して、脱ろう油の缶
底液及び比1:1の脱ろう溶剤の塔頂留出物を得、塔頂
物を1:1の溶剤貯留槽に送った。供給油がブライトス
トックの場合には、この1:1の溶剤貯留槽から溶剤を
取り出して用いた。
ライトストック(比2:1の脱ろう溶剤を使用する)を
用いる場合には、比l:1の溶剤をパーバボレーション
に送り、それを比2:1の溶剤に転換した。
用いた膜は、テトラフルオロエチレンと次式: %式% の構造を有するビニルスルホニルフルオリドとを共重合
させることによって得られる、デュポン社(DuPon
t)の商品名Naflon−H117のペルフルオロ膜
(厚さ190ミクロン)であった。
この膜の表面を、イソプロピルアルコール中0.2Mテ
トラフェニルホスホニウムプロミド溶液に24時間曝露
し、次に20℃において過剰のイソプロピルアルコール
で30分間洗浄し、次に容量比l:1のインプロパツー
ル/水混合物で洗浄し、この洗浄工程を更に2回洗浄を
繰り返した0次に、膜を、1:lのMEK:トルエン溶
液中、25℃で24時間平衡化した。
膜を、支持材を用いることなくパーバボレーション装置
内に配置した。この装置へ、比l:lのMEK : l
−ルエン脱ろう溶剤を70℃で供給した。
バーバポレーションが起こり、実質的に同量の(ilM
EK:)−ルエンの比2:1の透過液及びfiilME
K : トルエンの比1:2の滞留液が得られた0分離
係数はO,14kmhの流束において2.5であった。
2:1の透過液と1=2の滞留液を、それぞれ別の貯留
槽に送った。
ブライトストックの代りに、ライトストックを脱ろう操
作に供給することが所望の場合は、比1:1のMEK:
トルエン混合液の供給を停止し、ライトストックに混合
する脱ろう溶剤として、比2:1のMEK:)−ルエン
透過液をその貯留槽から送った。
明らかに、この実施態様において、比2:1の溶剤でラ
イトストックを脱ろうする場合には、脱ろう油蒸発器よ
り回収した溶剤はパーバポレーション工程には送らない
で、比2:1の溶剤貯留槽へ送る。
操作をブライトストック脱ろう(比1:1の溶剤を用い
る)に戻すことが所望の場合には、これは、等重量部の
2:1貯留物と1:2貯留物とを混合することによって
極めて容易に行なわれる。
この特定の実施態様の変更が種々の要素において行なわ
れることが当業者に明らかとなろう0例えば、フライト
ストックかライトストックのいずれか通常の脱ろうにお
いては、脱ろう溶剤を回収し供給側に再循環する。しか
して、バーバポレーションへの供給を維持するため、即
ち、新鮮な溶剤を使用するために、1:1溶剤を再循環
することなくブライトストックの脱ろうを継続すること
ができるのに十分な量の1:1溶剤の貯留物を保持する
ことが必要であろう、透過液流(比2:1)及び滞留液
流(比1:2)はパーバボレーションから生成したとき
又は別の滞留槽からも常に容易に混合できるので、本具
体例の逆も問題はない。
もちろん、ライトストック脱ろう操作の必要性を満たす
ために、比1:1の溶剤をパーバボレーションに直接か
けることができることに留意すべきである。
2〜11  び    1〜8 この一連の実施例及び比較例においては、Naflon
−H11フイオン交換膜の平板シートを、イソプロパツ
ール中に溶解した塩を有する対イオンの0.2M溶液に
24時間曝露した0次に、処理された膜を、イソプロパ
ツールで30分、次に混合比l:1のイソプロパツール
:水の混合液で洗浄した。この洗浄工程を2回以上繰返
した。
かくして処理された膜を、比1;1のMEK−トルエン
供給液中で平衡化し、次に、これを50°C及び70℃
でのパーバポレーション操作に使用した0分離係数及び
流束を測定した。
*印を付したものは、本発明の範囲外の比較例を示すも
のである。
実施例8〜ll(傘*印を付したもの:本発明の範囲内
)は、カルボキシル基及びスルホン系基の両方を有する
Naflon 901イオン交換膜を使用した。
去 (GF71178膜)であった。
老 〃  6°   Cs           70  
1.6   0.08比較例9.10及び比較例11.
12においては、比較用の膜は、それぞれ、(ilポリ
アクリロニトリルマトリクス上にポリビニルアルコール
(PVA−1)を担持させた複合膜及び(iilポリア
クリロニトリルマトリクス上にポリビニルアルコール(
PVA−2)を担持させた市販の複合膜12”    
     PVA−2702,00,005上表から、
次の結論が得られる: 1、本発明の系(実施例1〜11)は、全て、分離係数
及び流束の測定から満足すべき結果を与えた。
2、最良の結果はフェニル及びブチルホスホニウム対イ
オンを用いることによって得られた。
3、(70℃よりも)50℃の操作が、流束は低いが概
して良好な分離係数を与えた。
4、本発明の範囲外の操作(比較例1〜12)では、低
流束及び/又は低分離係数の好ましくない結果が得られ
た。特に、比較例7.11及び12では、適度の分離係
数が得られたが、流束は対象として適当であるとするに
は低すぎるものであった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)その骨格中に炭素原子を有しかつ懸垂酸基を有す
    る高分子量イオン交換樹脂を含み、カリウム塩又はそれ
    ぞれが少なくとも4個の炭素原子を有する炭化水素基を
    含む第4級ホスホニウム塩からの対イオンを有する非孔
    質パーバポレーション(pervaporation)
    膜に、該パーバポレーション膜を横切って加圧滴を保持
    しながら混合物を接触させ、それによって、酸素含有ワ
    ックス反溶剤(antisolvent)の含有率が減
    少した滞留液(retentate)及び酸素含有ワッ
    クス反溶剤(antisolvent)の含有率が増加
    した透過液(permeate)を形成させることを特
    徴とする、有機酸素含有ワックス反溶剤と芳香族炭化水
    素溶剤との混合物の供給比を調整する方法。(2)溶剤
    混合物が、メチルエチルケトンとトルエンとを0.7:
    1〜1:1の重量比で含む請求項1記載の方法。 (3)第4級ホスホニウム塩がテトラフェニルホスホニ
    ウム塩又はテトラブチルホスホニウム塩である請求項1
    又は2記載の方法。 (4)混合物の温度が25〜120℃であり、膿の供給
    側の圧力が大気圧であり、膜の浸透液側の圧力が0.5
    〜50mmHg(66.66〜6666Pa)である請
    求項1〜3のいずれか一に記載の方法。 (5)懸垂酸基を有し、カリウム塩又は陽イオン:R_
    4P^+(ここで、Rは、それぞれ、少なくとも4個の
    炭素原子を有する炭化水素基である)を有する第4級ホ
    スホニウム塩からの対イオンを有する膜の形態の高分子
    量イオン交換樹脂。
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