JPH0267273A

JPH0267273A - ラクタム誘導体の製造中間体

Info

Publication number: JPH0267273A
Application number: JP63219141A
Authority: JP
Inventors: Yusuke Yukimoto; 行本　裕介; Kazuaki Kanai; 金井　和昭
Original assignee: Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1988-09-01
Filing date: 1988-09-01
Publication date: 1990-03-07
Anticipated expiration: 2012-07-23
Also published as: JP2633919B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉式（１）の化合物はベネム系抗生物質又はカルバペネム
系抗生物質の製造中間体として重要なものである。

〈従来の技術〉ベネム系抗生物質は天然から得られないため、その製造
法は全合成によるものに頼らざるを得ない、一方、カル
バペネム系抗生物質を醗静法により製造した場合、収率
が低い、従って本物質の全合成による製造法が盛んに研
究されている。

このようなペネム系及びカルバペネム系抗生物質の全合
成による製造法としては、特開昭８２−７０３５３号公
報に開示されたものが知られている。しかしながら、本
製造法は工程数が長く、工業的製造法としては充分満足
できるものではない。

〈発明が解決しようとする問題点〉本発明者等は、前記抗生物質の工業的製造法について鋭
意検討した結果、式（１）の化合物が前記抗生物質の製
造中間体として！要であることを見い出し本発明を完成
した。

〈発明の構成〉本発明は、式（１）の化合物及びその塩に関する。

式（１）において、アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基
、第三級ブチル基等をあげることができる。水酸基の保
護基としては、トリメチルシリル基、第三級ブチルジメ
チルシリル基の如きトリ低級アルキル基、ベンジル基の
如きアラルキル基、メトキシメチル基の如き低級アルコ
キシアルキル基、２−テトラヒドロピラニル基等をあげ
ることができる。チオール基の保護基としては、アルキ
ル基、置換アルキル基（アルキル基に置換するものとし
てはフェニル基、複素環基、置換複素環基、トリ低級ア
ルキルシリル基及びスルホ基等を示すことができる）、
アリール基及び複素環基をあげることがで診る。

本発明化合物の最終目的であるベネム系抗生物質及びカ
ルバペネム系抗生物質について、これまでに抗菌活性が
確認されているものは立体特異的であることから、本発
明化合物における置換基Ｒ，ＯｌびＲ，Ｓ　ＣＨ，につ
いても以下の二つの部分構造式で示される立体配置であ
ることが好ましい。

式（１）の化合物の製造法は置換基Ｒ２の種類によって
異なり、以下それぞれの製造法を説明する。

（Ｔａ）ｃ式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｌｓ　’ｙ、及びＹ、は
前記に同じ、）即ち、式（夏りの化合物を式（ｍ）の化合物と反応に関
与しない溶媒中スズトリフレート又はボロントリフレー
ト及び第三級アミンの存在下反応させることにより式（
Ｉ　ａ）の化合物を製造することができる。前記ボロン
トリフレートとしては、ジブチルボロントリフレート、
ジプロピルボロントリフレート、ジエチルボロントリフ
レート、ジイソプロピルボロントリフレート、ジイソブ
チルボロントリフレート、ジシクロへキシルボロントリ
フレート、ジシクロペンチルボロントリフレート及びト
ボラビシクロ［３，３，１］ノニルトリフレート等をあ
げることができる。前記第三級アミンとしてはトリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピ
ルメチルアミン、！−エチルピペリジン、１−メチルモ
ルホリン、１−エチルピロリジン、１．４−ジアザビシ
クロ［２，２，２１オクタン、１．５−ジアザビシクロ
［Ｓ、４．Ｑ］　ウンデ−５−セン及び１、Ｓ−ジアザ
ビシクロ［４，３，０１ノー５−エン等をあげることが
できる０反応に関与しない溶媒としては、メチレンクロ
リド、クロロホルム、ジクロロエタンの如きハロゲン化
炭化水素、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルの如
きエーテル類等をあげることができる、前記ボロントリ
フレートの使用量は通常式（Ｉｌｌ　）の化合物に対し
１．１倍モルである。又、スズトリフレートの使用量は
通常式（Ｉｌｌ　）の化合物に対し１．５倍モルである
。更に、第三級アミンの使用量はスズトリフレートを使
用した場合には式（Ｉｌｌ　’）の化合物に対し通常１
．６倍モルであり、ボロントリフレートを使用した場合
には式（Ｉｌｌ　）の化合物に対し通常１．３倍モルで
ある０式（Ｉｌｌ）の化合物は式（！Ｉ）の化合物に対
し、モル過剰使用すればよい０反応は通常−７８〜Ｏ℃
で１〜５時間行われる。

式（Ｉ　ａ）の化合物において置換基Ｒ，Ｏ及びＲ，−
５ＣＨ２が前記に示したような好ましい立体配置を有す
るものを製するには上記反応において式（Ｉｌｌ）の化
合物の置換基Ｒ４の立体配置と置換基Ｙ＋の種類を以下
のように組み合わせたものを使用すればよし為。

（ＭｒＬ）ｌ）即ち、式（■１）の化合物を式（■Ｉａ）又は式（Ｉｌ
ｌｂ）の化合物と前記と同様にして反応させることによ
り式（Ｉｍ’）の化合物を製造することができる。

一方式（夏■）の化合物を式（■Ｉｃ）又は式（Ｉｌｌ
ｄｌの化合物と前記と同様に反応させることにより式（
Ｉ　ａ”）の化合物を製造することができる。

以上のようにして製された式（１ａ）の化合物の水酸基
を保護することにより式（１）においてＲ２が水酸基の
保護基である化合物を製造することができる。該化合物
の製造法は保護基の種類によって異なり、その例として
は以下のものをあげることができる。

（１）トリ低級アルキルシリル基の場合式（！ａ）の化
合物をトリ低級アルキルシリルクロリドと反応に関与し
ない溶媒中イミダゾール、４−ジメチルアミノピリジン
、トリエチルアミンの如き塩基の存在下室温で数時間〜
数日間反応させることにより式（１）においてＲ２がト
リ低級アルキルシリル基である化合物を製造することが
できる。溶媒としてはジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン、ジクロロメタン等をあげることができる。

トリ低級アルキルシリルクロリドは式（Ｉ　ａ）の化合
物に対し通常環モル−３倍モル、好ましくは１．５倍モ
ル使用される。前言己塩基は通常式（Ｉ　ａ）の化合物
に対し２倍モル〜５倍モル便用される。

（２）アラルキル基の場合式（Ｉ　ａ）の化合物をアラルキルプロミド又はアラル
キルクロリドと反応に関与しない溶媒中水素化ナトリウ
ム等の塩基又は酸化銀の存在化０℃〜室温で数時間反応
させることにより式（１）においてＲ７がアラキル基で
ある化合物を製造することができる。溶媒としてはジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒド
ロフラン等をあげることがで診る。前記塩基及び酸化銀
は式（Ｉ　ａ）の化合物に対し通常１〜２倍モル使用さ
れる。アラルキルプロミド及びアラルキルクロリドは通
常式（Ｉ　ａ）の化合物に対し１〜２倍モル使用される
。

（３）低級アルコキシアルキル基の場合式（！ａ）の化
合物を低級アルコキシアルキルクロリドと反応に関与し
ない溶媒中水酸化ナトリウム、ジイソプロピルアミン等
の塩基の存在下０℃〜室温で数時間〜−昼夜反応させる
ことにより式（ＩａｌにおいてＲ１が低級アルコキシア
ルキル基である化合物を製造することができる。ｆａ媒
としてはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、塩化
メチレン等をあげることができる。低級アルコキシアル
キルクロリドは式（Ｉａｌの化合物に対し通常１〜２倍
そル使用される。前記塩基は式（Ｉａｌの化合物に対し
通常１〜２倍モル使用される。

（４）テトラヒドロピラニル基の場合式（Ｉａ）の化合物をジヒドロピランと反応に関与しな
い溶媒中トシル酸又はピリジニウムトシル酸の如き酸触
媒の存在下室温で数時間反応させることにより式（１）
においてＲ２がテトラヒドロピラニル基である化合物を
製造することができる。

溶媒としては塩化メチレン、ｎ−ヘキサン等をあげるこ
とができる。ジヒドロビランは式（Ｉ　ａ）の化合物に
対し通常１〜２倍モル使用される。

上記［１）〜（４）の反応において、式（Ｉ　ａ’）又
は式（Ｉａ”）の化合物を原料として使用した場合、水
酸基及び弐Ｒ５５Ｃ）Ｉ２で表わされる置換基の立体配
置は生成物においても保持されつる。

以上のようにして製される化合物より目的のベネム系又
はカルバペネム系抗生物質を製造するには以下のように
すればよい。

ベネム系又はカルバペネム系抗生物質（式中、Ｒ３、Ｒ，、Ｒ４、Ｒ，、Ｙ、及びＹ、は前記
に同じであり、Ｉｌｉ＋は水酸基の保護基を示す、）即
ち、式（！ｂ）の化合物を水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリを用いて加水分解
することにより式（ＩＶ）の化合物を製造することがで
きる。

得られた式（ｒＶ）の化合物を特開昭１ｉ２−７０３５
３号公報に開示された製造法と同様に反応させることりにより式（Ｖ）のβ−ラ拳ラタム化合物導くことができ
る。

該化合物は特開昭６２−７０３５３号公報、特開昭５ト
１１Ｂ１９４号公報、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌ＠ｔ
ｔｅｒｓ　２３．　２２Ｓ３−２２９６　（１９８２）
、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓユ１．　２
７Ｂ３−２７１１６　（１９１１０）、Ｃｈｅｍ、Ｐｈ
ａｒｍ、Ｂｕｌｌ、、　２９．２８９９−２９０９（１
９８１）等に開示された公知の製造法を適宜組合わせて
用いることにより、目的のベネム系又はカルバペネム系
の抗生物質に導くことができる。

ＬＩＩｓ）　　　　　　　ｕＶ）　　　　　　　　　ｋ
Ｖ　Ｊ〈発明の効果〉式（１）の化合物は、ベネム系及びカルバペネム系抗生
物質の製造中間体として重要なものであり、該化合物を
経由する前記抗生物質の製造法は従来のものに比ベニ程
数が大幅に短縮され、工業的製造法として優れたもので
ある。

以下本発明を更に実施例及び参考例により説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。

実施例！（４５１−３−［１−オキソ−３−（フェニルチオ）プ
ロピル］−４−イソプロピル−２−才キサシリジノン０
．８８ｇを塩化メチレン８ｍＡに溶かし、窒素雰囲気下
、−１８℃でジブチルボロントリフレート（１Ｍ塩化メ
チレン溶液、３．３ｔｊりおよびトリエチルアミン０．
５９　ａｆｔを加え、１時間攪拌したのち、　０℃で４
５分攪拌した。−７８℃に冷却し、アセトアルデヒド０
．２６　ｍｌＬを加え１．５時間攪拌した。　０℃で更
に１時間攪拌し、１Ｍ硫酸水素ナトリウム水溶液を加え
、ヘキサン及び酢酸エチルの混液（ｌ／１、Ｖ／Ｖ）で
抽出した。硫酸ナトリウムで有機層を乾燥し、減圧下で
溶媒を留去した。残漬をエーテル２０ｍｊ！にとかし、
これにｐＨ７のリン酸１１？Ｉｉ液３鵬りと　３１亀通
酸化水素水２ｍｆを加え、０℃で１時間攪拌した。

水を加え、ヘキサン及び酢酸エチルの混液（１／ｌ、Ｖ
／Ｖ）で抽出し、硫酸ナトリウムで有機層を乾燥した。

減圧下溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、ヘキサン及び酢酸エチルの混液（最
初２／１　（Ｖ／Ｖ）の比とし、次いで１／１　（Ｖ／
Ｖ）　（７）比に変更）で展開し、油状（７）　（４５
）−３−［（２５，３Ｒ）−１−オキソ−２−【（フェ
ニルチオ）メチル〕−３−ヒドロキシブチル］−４−イ
ソプロピル−２−オキサゾリジノン０．７１ｇを得た０
本化合物の純度はＨＰＬＣより　９情であった。

ＩＲ（ｎｅａｔ）３４５０，２９５０．１７７０．１６
８０．１３８０．１２００ｃｍ−’’）ＩＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩｓ）δ７．１５−７．３１ｉ　（■、ＳＨ）　、　
３．９２−４．７５（ｍ。

ＳＨ）、　３．２５（ｍ、２Ｈ）、　２．３９（ｍ、Ｉ
Ｈ）、　１．２０（ｄ、Ｊ−８，３Ｈｚ。

３Ｈ）　、０．９０（ｄ、Ｊ−７，０Ｈｚ、６Ｈ）　。

”ＣＮＭＲ（２２，５ＭＨ２，ＣＤＣｌ５）　　δ１７
３．７．１５４．５．１３６．３．１３０．１．１２９
．０．１２６．５．６１１．５．６３．３．５９．０．
４９．５゜３３．０，２Ｌ６，１９．９，１７．９．１
４．９゜［α］　”　−２１，２°　（ｃ２．６．　（
：ＨＧｈ）、ＨＲＭＳ　　Ｃａ１ｃｄ　　ｆｏｒ　　Ｃ
ｔｔＨａｓＮ０４Ｓ：３３７．１３４８゜Ｆｏｕｎｄ：
３３７．ｔ３４３実施例２（４５）−３−［１−オキソ−３−（フェニルチオ）プ
ロピル］−４−イソプロピル−２−チアゾリジノン４８
１ｍｇを塩化メチレン５１ｉにとかし、窒素雰囲気下、
−７８℃でジブチルボロントリフレート（１Ｍ塩化メチ
レン溶液、１．７＋ａｊ！　）およびトリエチルアミン
０．３ａ＋Ｊ２を加え、１時間攪拌したのち、０℃で１
５分攪拌した。−７８℃に冷却し、アセトアルデヒド０
．１３　ｍｌを加え１時間攪拌した。０℃で更に４５分
攪拌し、１Ｍ硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、石油エ
ーテル及び酢酸エチルの混液（１／１．Ｖ／Ｖ）で抽出
した。硫酸ナトリウムで有機層を乾燥し、減圧下で溶媒
を留去した。残漬をシルカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し石油エーテル及び酢酸エチルの混液（１／ｌ、
ｖ／ｖ）で展開し、油状（０（４５）−３−［（２Ｓ、
３Ｒ１−１−オキソ−２−［（フェニルチオ）メチル］
−３−ヒドロキシブチル］−４−イソプロピル−２−チ
アゾリジノン５０２ｍｇを得た０本化合物の純度はＨＰ
ＬＣより　ＩＢ’４であった。

ＩＲ（ｎｅａｔ）３４５０．２９Ｂ０．１７００．１６
８０．１３Ｂ０，１２１０゜１１６０ｃｍ” ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）６７．２０−７．３６（ｍ、
５Ｈ）、　４．７１１（ｍ、１８）。

４．０２−４．４２（ｍ、２Ｈ）、　２．９２−３．５
３（ｍ、４Ｈ）、　２．４１（■、２１）１．２１（ｄ
、ＪＪ、ｌＨｘ、３Ｈ）、０．９８　ａｎｄ　１．０３
（ｅａｃｈ　ｄ、Ｊ−７、ＯＨｘ、８．８Ｈｘ　３Ｈ）
。

１３ＣＮＭＲ（２２，５ＭＨｚ、ＣＤＣ１３）　　δ１
７３．３．１３６．７．１３０．１゜Ｌ２９．Ｑ、　１
２＠、５．６８．ｌｉ、　６Ｎ、ｌＩ、　ＳＧ、４．３
’ｌ！、９．３（１，７゜２Ｓ、３．２Ｇ、３．１９．
１．１７．２゜［α］　２１　＋　２　ａｏ　（ｃ　２
．６．　ＣＨＣｌ５ｌ　。

ＨＲＭＳ　　Ｃａ１ｃｄ　　ｆｏｒ　　Ｃ１ｔＨ＊５Ｎ
ＯｓＳｘ　　：　　３５３．１１１Ｂ。

Ｆｏｕｎｄ　：　３５３．１０８６゜実施例３スズトリフレート　４７２■ｇを塩化メチレン１．５ｍ
ｊ！に懸濁し、窒素雰囲気下、−７８℃でトリエチルア
ミン０．１８ｓｊ！及び（４Ｒ）−３−［１−オキソ−
３−（フェニルチオ）プロピル］−４−エチルチアゾリ
ジン−２−チオン２３１１ｍｇを加えて２時間攪拌した
。アセトアルデヒド５２ｍｇを含む塩化メチレン０．１
２ｓｊ！を加えてさらに１時間攪拌した１反応溶液にｐ
Ｈ７のリン酸緩衝液を加え、セライト濾過した。濾液を
１規定硫酸水素ナトリウム水溶液次いで飽和食塩水で洗
浄し硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濃縮した。

残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、石
油エーテル及び酢酸エチルの混液（５／ｌ、Ｖ／Ｖ）で
展開して黄色油状の（４Ｒ）　−３−［（２５，３Ｒ）
−１−オキソ−２−［（フェニルチオ）メチル］−３−
ヒドロキシブチル］−４−エチルチアゾリジン−２−チ
オン９９ｒａｇを得た０本化合物の純度は貯ＬＣより４
１１％であった。

ＩＲ（ｎｅａｔ）３４００．２９６０．１６８０．１３
４Ｇ、　１２５０ｃ＋ａ−’’ＩＩＮＭＲ（ＣＤＣＩり
６７．２０−７．３７（１，５１１）、　５．００（１
，２１１）。

４．２２（膿、ＩＨ）、　２．８３−３．５６（１，４
Ｈ）、　１．８７（■、２Ｈ）　、１．２３（ｄ、３Ｈ
，Ｊ−６，４８ｘ）、０．９９　（ｄｄ、３Ｈ，Ｊ−７
，７１（ｚ、７．２Ｈｚ）。

１３ＣＮＭＲ（２２，５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ＄）　　δ２
０２．６．１７５．７．１３５．９゜１３ＱＪ、１２９
．２．１２６．９，６９．４．６８．５，４９．４，３
３．４゜２５．１，１９．１１．ＬＱ、０［ａ］　”−２２０’　　（ｃ　２．１．　ＣＨＣｌ、
）。

実施例４スズトリフレート３７Ｓ＋ｓｇを塩化メチレン１．５ｍ
ｊ！に懸濁し、窒素雰囲気下、−７８℃で１−エチルピ
ペリジン０．１３ｍＪ２、　（４Ｒ）−３−［１−オキ
ソ−３−（フェニルチオ）プロピル］−４−エチルチア
ゾリジン−２−チオンｌ［１７ｍｇを加え、２時間攪拌
した。アセトアルデヒド３４ｍｇを含む塩化メチレン　
０．１ａＪ２を加え１時間攪拌した。以下実施例３と同
様に処理し黄色油状の（４Ｒ）　−３−［（２Ｓ　、３
Ｒ）−１−オキソ−２−［（フェニルチオ）メチル］−
３−ヒドロキシブチル］　−４−エチルチアゾリジン−
２−チオン６２ａ＋ｇを得た０本化合物の純度はＨＦ’
ＬＣより９０にであった。

実施例５スズトリフレート３７９Ｂを塩化メチレン３ｍｉに懸濁
し、窒素雰囲気下、−７８℃で１−エチルピペリジン０
．１５■ｕ　　（４５）−３−［１−オキソ−３−（フ
ェニルチオ）プロピル］−４−イソプロピルチアゾリジ
ン−２−チオン２１０ｍｇの塩化メチレン溶液１．８ｓ
ｊ！を加えて３０分間攪拌した。アセトアルデヒド４１
１Ｂを含む塩化メチレン０．１７１１１Ｊ２を加え、１
時間攪拌した０反応溶液へｐＨ７のリン酸緩衝液を加え
、セライト濾過した。濾液を１規定硫酸水素ナトリウム
水溶液次いで飽和食塩水で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥
後減圧濃縮した。残漬をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、石油エーテル及び酢酸エチルの混液（５
０／１　、Ｖ／Ｖ）で展開して黄色油状の（４５）−３
−［（２Ｒ，３５）−１−オキソ−２−［（フェニルチ
オ）メチル］−３−ヒドロキシブチル］−４−イソプロ
ピルチアゾリジン−２−チオンＢＯｍｇを得た０本化合
物の純度はＨＰＬＣより９ＳＮであった。

ＩＲ（ｎｅａｔ）３４００．２９５０．１６１１０．１
３６０．１２４０ｃｍ−’’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）δ
７．２Ｇ−７．３８（諷、５Ｈ）　、　４．９２−５．
１０（ｍ、２Ｈ）、４．１６−４．２１１（ｍ、１８）
、　　２．９２−３．５７（ｍ、ｓＨ）、　　２．３０
（■。

１Ｎ）、１．２４（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−６，３Ｈｘ）、　
０．９７　ａｎｄ　１．０４　（ｅａｃｈ３Ｈ，ｄ、Ｊ
−８，６Ｈｘ、ａｎｄ８．８Ｈｚｌ　。

”ＣＮＭＲ（２２，５Ｍ）ＩＺ、ＣＤＣ１３）　　６２
Ｇ４．０．１７５．３．１３５．９゜１３０．６，１２
９．２，１２６．９，７２．５゜６１１．７，４９．０
，３３．５．３１．８，３１．２，１９．７，１９．１
，１８．３［ａ］　”＋３５０’　　（ｃ　２．４．　
ＣＨＣｌ３）。

口実施例６＋４Ｒ）−３−［（２Ｓ、３Ｒ）−１−オキソ−２−［
（フェニルチオ）メチル］−３−ヒドロキシブチル］−
４−イゾブロビルー２−チアゾリジノン２９０ｍｇを塩
化メチレン８■１にとかし、第三級ブチルジメチルシリ
ルクロリド３９６ＩＩｇ及び４−ジメチルアミノピリジ
ン２６０　Ｂを加え、−晩攪拌した０反応液を塩化メチ
レンで希釈し、水次いで飽和食塩水で洗浄し硫酸ナトリ
ウムで乾燥後減圧濃縮した。残漬をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、石油エーテル及び酢酸エチル
の混液（２０／ｌ　、ｖ／ｖ）で展開し油状の（４５）
　−３−［（２５，３Ｒ）−１−オキソ−２−［（フェ
ニルチオ）メチル］−３−（第三級ブチルジメチル）シ
リルオキシコブチル−４−イソプロピル−２−チアゾリ
ジノン２２０■ｇを得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤに１．）６７．１９−７．３４（ｍ、
５Ｈ）、　４．７１（ｍ、ＩＮ）。

４．２０（ｓｊＨ）、　　２．９３−３．４０（ｍ、４
Ｈ）、　　２．２８（ｍ、ＩＨ）。

１．１１１（ｄ、Ｊ−５，９Ｈｚ、　　３Ｈ）、　　０
．９９　　ａｎｄ　　１．０３（ｅａｃｈ　ｄ。

Ｊ−６，８Ｈｚ、３Ｈ）。

参考例１（４５）−３−［（２５，３Ｒ）−１−オキソ−２−［
（フェニルチオ）メチル］−３−（！４三級ブチルジメ
チル）シリルオキシコブチル−４−イソプロピル−２−
チアゾリジノン８８−ｇをテトラヒドロフラン１．５＠
ｊ！にとかし、０℃で１規定水酸化リチウム水溶液０．
２８■ｌ、エタノール０．５１１を加えた。１時間攪拌
したのち、１規定水酸化リチウム水溶液０．１ｓｊ！、
エタノール０．５ｓｊ！を加え５℃で一晩放置した。０
℃にて２規定塩１ｉｉ０．４ｓｆを加え、減圧濃縮後酢
酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で洗浄後
硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濃縮した。残漬を分取薄層
クロマトグラフィー（展開液：クロロホルム／エタ／−
ルーＳ／１．（Ｖ／Ｖ）　）　”ｔ’精製し油状（Ｆ）
（２５，３Ｒ）−３−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ−２−フェニルチオメチル酪酸４０■ｇを得た。

諷１，２．９５−３．５０（２Ｈ，ｓ）、　　２．６０
−２．９０（ＩＨ，ｓ）、１．２３（３Ｈ。

ｄ、Ｊ　−８，３Ｈｚ）、０．９３（９Ｈ，Ｓ）、０．
０８．Ｏ，Ｌ（＠ａＣｈ　３Ｈ。

Ｓ）

Claims

【特許請求の範囲】式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は低級アルキル基を、Ｒ＿２は水素原子
又は水酸基の保護基を、Ｒ＿３はチオール基の保護基を
、Ｒ＿４はアルキル基、置換アルキル基、フェニル基、
置換フェニル基又はアルコキシカルボニル基を、Ｒ＿５
は水素原子、アルキル基又はフェニル基を、Ｙ＿１及び
Ｙ＿２はそれぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子を意味す
る。）で表わされる化合物及びその塩。