JPH026863A - 霧吹弁装置および御制システム - Google Patents
霧吹弁装置および御制システムInfo
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- JPH026863A JPH026863A JP963589A JP963589A JPH026863A JP H026863 A JPH026863 A JP H026863A JP 963589 A JP963589 A JP 963589A JP 963589 A JP963589 A JP 963589A JP H026863 A JPH026863 A JP H026863A
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- pulse sequence
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- rectangular pulse
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F33/00—Indicating, counting, warning, control or safety devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F7/00—Rotary lithographic machines
- B41F7/20—Details
- B41F7/24—Damping devices
- B41F7/30—Damping devices using spraying elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Rotary Presses (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、特にパルス式の霧吹システムに利用する種類
の液体噴霧装置に関するものである。
の液体噴霧装置に関するものである。
[従来の技術]
液体を印刷プレスのローラに供給するため、各種のシス
テムが従来から提案されている。これらの液体は、例え
ば、ローラを濡らしたり、清浄したり、あるいは印刷ず
れを防止したりするために使用することが出来る。ある
種類のシステムは、ローラに隣接して位置するノズル装
置から大部分の液体を噴霧することによりローラを濡ら
す。典型的には、複数のノズル装置を噴霧バーに整列さ
せるよう構成されている。
テムが従来から提案されている。これらの液体は、例え
ば、ローラを濡らしたり、清浄したり、あるいは印刷ず
れを防止したりするために使用することが出来る。ある
種類のシステムは、ローラに隣接して位置するノズル装
置から大部分の液体を噴霧することによりローラを濡ら
す。典型的には、複数のノズル装置を噴霧バーに整列さ
せるよう構成されている。
噴霧装置
従来使用されている噴霧装置については、添付の第11
図乃至13図を参照して後に詳細に説明する。要するに
、この噴霧装置は、ノズルセクションとこのノズルセク
ションの背後に相当な間隔で位置決めされたプランジャ
を存する弁とを特徴とする。加圧液は弁に供給され、且
つ弁が閉鎖している際には、溜部の方向へ流れ、且つ弁
が開放している際は、ノズルセクションの方向へ流れる
。プランジャはソレイノドにより往復動作して脈動的に
スプレーを発生する。
図乃至13図を参照して後に詳細に説明する。要するに
、この噴霧装置は、ノズルセクションとこのノズルセク
ションの背後に相当な間隔で位置決めされたプランジャ
を存する弁とを特徴とする。加圧液は弁に供給され、且
つ弁が閉鎖している際には、溜部の方向へ流れ、且つ弁
が開放している際は、ノズルセクションの方向へ流れる
。プランジャはソレイノドにより往復動作して脈動的に
スプレーを発生する。
プランジャの前封止面が摩耗した場合、プランジャを交
換するにはソレノイドメカニズムを解体する必要がある
。これは、ノズル装置の全体につき定期的に行わねばな
らない時間のかがる作業である。さらに、弁が閉鎖して
いる際に溜部まで液体を案内する必要性は、処分せねば
ならない無駄な液体をもたらす。他方において、加圧液
を溜部に案内するという特徴が除かれると、弁の開放に
際しノズル部材と弁プランジャとの間の通路に残留する
残存液の過度の加圧が生じて、過剰lの液体が噴霧され
る結果となり、さらに弁が閉鎖された後に液体の漏れを
生ずることが判明した。然しなから、加圧液を溜部に案
内することにより、圧力蓄積は生じない。
換するにはソレノイドメカニズムを解体する必要がある
。これは、ノズル装置の全体につき定期的に行わねばな
らない時間のかがる作業である。さらに、弁が閉鎖して
いる際に溜部まで液体を案内する必要性は、処分せねば
ならない無駄な液体をもたらす。他方において、加圧液
を溜部に案内するという特徴が除かれると、弁の開放に
際しノズル部材と弁プランジャとの間の通路に残留する
残存液の過度の加圧が生じて、過剰lの液体が噴霧され
る結果となり、さらに弁が閉鎖された後に液体の漏れを
生ずることが判明した。然しなから、加圧液を溜部に案
内することにより、圧力蓄積は生じない。
従って、封止面を最少の時間および労力で交換すること
が出来、過度の圧力蓄積が生ぜず、且つ未使用液の処分
を必要としないような噴霧装置を提供することが望まし
い。
が出来、過度の圧力蓄積が生ぜず、且つ未使用液の処分
を必要としないような噴霧装置を提供することが望まし
い。
噴霧器制御
シュワルツ(S、chwartz)等に係る米国特許第
4 、469.024号はパルス式の噴霧器に関するも
のであって、噴出される液体の量は測定されたプレス速
度によって制御される。開示された実施態様においては
、速度センサがプレス速度に関連した周波数を有する正
弦波センサ信号を発生する。パルス幅調整器がこの正弦
波センサ信号を受信して方形波制御信号を発生し、ここ
でパルス持続時間が一定に維持される。方形波制御信号
におけるパルス間の時間はブし、・ス速度の関数として
変化する。制御信号は空気作動弁を作動させるために使
用する空気圧パルスに変換されて、液体を噴霧ノズルに
供給する。
4 、469.024号はパルス式の噴霧器に関するも
のであって、噴出される液体の量は測定されたプレス速
度によって制御される。開示された実施態様においては
、速度センサがプレス速度に関連した周波数を有する正
弦波センサ信号を発生する。パルス幅調整器がこの正弦
波センサ信号を受信して方形波制御信号を発生し、ここ
でパルス持続時間が一定に維持される。方形波制御信号
におけるパルス間の時間はブし、・ス速度の関数として
変化する。制御信号は空気作動弁を作動させるために使
用する空気圧パルスに変換されて、液体を噴霧ノズルに
供給する。
他の霧吹システムがスウィッタール(Switall)
等に係る米国特許第4,649.818号公報に開示さ
れている。速度センサはマスター制御器に対しセンサ信
号を発生し、この制御器はセンサ信号値に基づき個々の
周波数を有する複数の振動電気信号の1つを選択する。
等に係る米国特許第4,649.818号公報に開示さ
れている。速度センサはマスター制御器に対しセンサ信
号を発生し、この制御器はセンサ信号値に基づき個々の
周波数を有する複数の振動電気信号の1つを選択する。
選択された周波数信号は単安定回路に供給されて、周波
数信号の各サイクルにおける先端部に呼応して一定長さ
のパルスを発生する。次いで、単安定パルスを用いて噴
霧ノズルのソレノイドを作動させる。単安定パルスの幅
は手動調整することが出来る。
数信号の各サイクルにおける先端部に呼応して一定長さ
のパルスを発生する。次いで、単安定パルスを用いて噴
霧ノズルのソレノイドを作動させる。単安定パルスの幅
は手動調整することが出来る。
アルソップ(Alsop) に係る米国特許第3.9
26,115号公報は、スプレーの部分的若しくは完全
な中断により一時的に液体用■を変化させる噴霧装置を
開示している。固体の障害物を噴7通路に接地し、ある
いは変向用の空気吹付を用いて噴霧出量を変化させるこ
とも出来る。クリンガー(Kl inger> に係る
米国特許第3.924,531号公報に開示された霧吹
器においては、噴霧出量は各種の装置部材の位置を変化
させて制御することが出来る。
26,115号公報は、スプレーの部分的若しくは完全
な中断により一時的に液体用■を変化させる噴霧装置を
開示している。固体の障害物を噴7通路に接地し、ある
いは変向用の空気吹付を用いて噴霧出量を変化させるこ
とも出来る。クリンガー(Kl inger> に係る
米国特許第3.924,531号公報に開示された霧吹
器においては、噴霧出量は各種の装置部材の位置を変化
させて制御することが出来る。
これら公知の霧吹器は全て幾つかの欠点を有する。例え
ば、パルス式の霧吹器は、しばしば貧弱な霧吹パターン
をもたらす困難性等に遭遇する。霧吹液の量を噴霧ノズ
ルのrONJ時間を変化させることにより変化させるシ
ステムにおいては、低速プレス模作の間の霧吹液出量の
制御は噴霧ノズル、弁等における物理的限界によって制
限される。さらに、噴霧ノズルのrOFFJ時間が制御
されるシステムにおいては、制御器は噴霧パルス間に長
時間が存在する際の乾燥の可能性によって制限される。
ば、パルス式の霧吹器は、しばしば貧弱な霧吹パターン
をもたらす困難性等に遭遇する。霧吹液の量を噴霧ノズ
ルのrONJ時間を変化させることにより変化させるシ
ステムにおいては、低速プレス模作の間の霧吹液出量の
制御は噴霧ノズル、弁等における物理的限界によって制
限される。さらに、噴霧ノズルのrOFFJ時間が制御
されるシステムにおいては、制御器は噴霧パルス間に長
時間が存在する際の乾燥の可能性によって制限される。
噴霧出量を変化させる物理的技術を用いるシステムは、
適切な噴霧パターンを得る際の困難性に遭遇する。従っ
て、従来の霧吹システムに見られた困難性を解消するよ
うな霧吹システムの出現が要望されている。
適切な噴霧パターンを得る際の困難性に遭遇する。従っ
て、従来の霧吹システムに見られた困難性を解消するよ
うな霧吹システムの出現が要望されている。
[発明が解決しようとする課題]
従って、本発明の課題は、操作パラメータにおける変化
に容易、且つ効果的に調整し得る霧吹システムを提供す
ることにある。
に容易、且つ効果的に調整し得る霧吹システムを提供す
ることにある。
さらに本発明の課題は、改良された噴霧パターンを有す
る霧吹システムを提供することにある。
る霧吹システムを提供することにある。
さらに本発明の課題は、ローラ上に噴霧される霧吹液の
童を印刷プレスの速度およびプログラミングされた霧吹
曲線に応じて変化させるような、印刷プレスローラを濡
らすための改良されたパルス式霧吹システムを提供する
ことにある。
童を印刷プレスの速度およびプログラミングされた霧吹
曲線に応じて変化させるような、印刷プレスローラを濡
らすための改良されたパルス式霧吹システムを提供する
ことにある。
[課題を解決するための手段]
噴霧装置
本発明にれば、液体噴霧装置は弁とこの弁に着脱自在に
装着されたノズルとを備える。ノズルはその先端部に液
体出口を備え、且つその後端部に弁座を備える。弁は、
液体入口に連通ずる貫通孔を備えた弁ハウジングからな
る。ソレノイドプランジャを貫通孔内にその内部で往復
運動し得るよう摺動自在に装着する。弁軸はプランジャ
の先端部に着脱自在に装着され、且つ弁座に接触するよ
う配置された前封止面を備える。弁座と弁軸とプランジ
ャとノズルとは同軸的に配置される。貫通孔は、ノズル
を弁から取り外す際に弁軸をプランジャから前方向に外
し得るよう充分な幅を有する。従って、封止面を交換す
るには、最小の装置解体しか必要とされない。弁ノズル
に直接に弁座が存在することは、噴霧されている液体に
過度の圧力蓄積が発生するのを防止する。
装着されたノズルとを備える。ノズルはその先端部に液
体出口を備え、且つその後端部に弁座を備える。弁は、
液体入口に連通ずる貫通孔を備えた弁ハウジングからな
る。ソレノイドプランジャを貫通孔内にその内部で往復
運動し得るよう摺動自在に装着する。弁軸はプランジャ
の先端部に着脱自在に装着され、且つ弁座に接触するよ
う配置された前封止面を備える。弁座と弁軸とプランジ
ャとノズルとは同軸的に配置される。貫通孔は、ノズル
を弁から取り外す際に弁軸をプランジャから前方向に外
し得るよう充分な幅を有する。従って、封止面を交換す
るには、最小の装置解体しか必要とされない。弁ノズル
に直接に弁座が存在することは、噴霧されている液体に
過度の圧力蓄積が発生するのを防止する。
噴霧器制御
本発明によれば、霧吹器制御システムは印刷プレス速度
を検知する手段を備える。検知されたプレス速度に応じ
て矩形パルスシーケンスが発生する。検知されたプレス
速度が特定値よりも低い際、矩形パルスシーケンスにお
ける各パルスは一定の持続時間を有し、且つ隣接パルス
間の時間はプレス速度に応じて変化する。プレス速度が
特定値よりも高い際、隣接パルス間の時間は一定となり
、且つパルスの持続時間は検知速度に応じて変化する。
を検知する手段を備える。検知されたプレス速度に応じ
て矩形パルスシーケンスが発生する。検知されたプレス
速度が特定値よりも低い際、矩形パルスシーケンスにお
ける各パルスは一定の持続時間を有し、且つ隣接パルス
間の時間はプレス速度に応じて変化する。プレス速度が
特定値よりも高い際、隣接パルス間の時間は一定となり
、且つパルスの持続時間は検知速度に応じて変化する。
噴霧ノズルは矩形パルスシーケンスに応答して駆動され
る。
る。
従って、本発明の特徴によれば、従来技術による問題が
最小化されあるいは除去される。
最小化されあるいは除去される。
[実施態様]
以下、添付の図面を参照して本発明の実施態様につきさ
らに説明する。
らに説明する。
第1図にはオフセット印刷装置10の一部が図示され、
この装置はプレートシリンダロール12と、小型ロール
14と、給温ロール16と、本発明による霧吹メカニズ
ム18とを備える。霧吹メカニズム18はある種の添加
剤を含有し得る。例えば、水のような濡らし液の脈動ス
プレーを放出し、液体は吸湿ロール上に噴霧され、且つ
そこから木型ロールまで移送される。
この装置はプレートシリンダロール12と、小型ロール
14と、給温ロール16と、本発明による霧吹メカニズ
ム18とを備える。霧吹メカニズム18はある種の添加
剤を含有し得る。例えば、水のような濡らし液の脈動ス
プレーを放出し、液体は吸湿ロール上に噴霧され、且つ
そこから木型ロールまで移送される。
霧吹メカニズムはハウジング30を備え、その上に複数
の噴霧装置32が載置される。これらの噴霧装置32は
加圧された濡らし液を収容するための液体入口導管34
に対し別々の取出ライン36によって並列接続され、こ
れらのライン36は入口導管34から各ノズル装置まで
導通する。
の噴霧装置32が載置される。これらの噴霧装置32は
加圧された濡らし液を収容するための液体入口導管34
に対し別々の取出ライン36によって並列接続され、こ
れらのライン36は入口導管34から各ノズル装置まで
導通する。
各噴霧装置32はノズルセクション38と弁セクション
40とを備える。ノズルセクション38は略円筒状のノ
ズルハウジング42(第7図)を備え、その先端部に横
スロット44を設ける。ノズルハウジング42の中央孔
部には、好ましくは、例えば、炭化タングステンのよう
な硬質の耐摩耗性材料で形成されたノズル部材46が圧
入装着される。中心孔部の後端部には保持リング48が
圧入され、且つリング48の中心孔部には弁座50が圧
入される。この弁座は略中空の円筒形状を有し、且つ斜
傾端部52を有する。ノズル部材46はその先端部にス
リット54を備え、このスリット54はノズル部材46
の中心通路58を介し弁座50の中心通路56と連通ず
る。
40とを備える。ノズルセクション38は略円筒状のノ
ズルハウジング42(第7図)を備え、その先端部に横
スロット44を設ける。ノズルハウジング42の中央孔
部には、好ましくは、例えば、炭化タングステンのよう
な硬質の耐摩耗性材料で形成されたノズル部材46が圧
入装着される。中心孔部の後端部には保持リング48が
圧入され、且つリング48の中心孔部には弁座50が圧
入される。この弁座は略中空の円筒形状を有し、且つ斜
傾端部52を有する。ノズル部材46はその先端部にス
リット54を備え、このスリット54はノズル部材46
の中心通路58を介し弁座50の中心通路56と連通ず
る。
ノズルハウジング42は、バッターフィールド(But
terf 1eld)に係る米国特許第4 、527.
745号公報に記載された種類のキャップ60(第6図
)に形成された貫通孔59の先端部に着脱自在に配置さ
れる。キャップ60は、後記する理由でその外壁部にス
ロット62を備える。
terf 1eld)に係る米国特許第4 、527.
745号公報に記載された種類のキャップ60(第6図
)に形成された貫通孔59の先端部に着脱自在に配置さ
れる。キャップ60は、後記する理由でその外壁部にス
ロット62を備える。
弁セクション40(第6図)は弁ハウジング70を備え
、このハウジング70は貫通孔72を備えると共に、そ
の先端部に内ネジ74を設ける。例えば、給温溶液のよ
うな液体をボート71を介して弁ハウジング70に供給
し、このポート71は対応するネジ付導管を収容すべく
ネジ付けすることが出来る。弁ハウジングの後端部には
中空ボスト76が着脱自在に取り付けられる。このボス
ト76はその先端部に拡大フランジ78を備え、これを
貫通孔72の後端部に位置する属人80に嵌入させる。
、このハウジング70は貫通孔72を備えると共に、そ
の先端部に内ネジ74を設ける。例えば、給温溶液のよ
うな液体をボート71を介して弁ハウジング70に供給
し、このポート71は対応するネジ付導管を収容すべく
ネジ付けすることが出来る。弁ハウジングの後端部には
中空ボスト76が着脱自在に取り付けられる。このボス
ト76はその先端部に拡大フランジ78を備え、これを
貫通孔72の後端部に位置する属人80に嵌入させる。
プレート82は中心開口部84を備え、ここをボスト7
6が貫通し、プレート82は弁ハウジング70の後側8
6にネジ88によって取り付けられる。
6が貫通し、プレート82は弁ハウジング70の後側8
6にネジ88によって取り付けられる。
弾性封止リング90をプレート82とフランジ78との
間に配置して属人80の拡開後端部92と係合させ、液
密シールを形成する。
間に配置して属人80の拡開後端部92と係合させ、液
密シールを形成する。
ボスト76の後端部には慣用の差込型電磁コイルケーシ
ング96を装着する。このケーシング96は孔部98を
備え、ここをボスト76が貫通する。
ング96を装着する。このケーシング96は孔部98を
備え、ここをボスト76が貫通する。
ボスト76の後端部には環状外側溝部100を形成して
、ボスト上にケーシング96を保持するための保持リン
グ(図示せず)等を収容する。この保持リングとケーシ
ングの後面97との間にはバネ(図示せず)を配置して
、ケーシングをプレート82に対し偏倚させることも出
来る。このバネはケーシングをプレート82から僅かに
離間変位させ得るよう撓み、ボスト76の軸線を中心と
して回転し、かくして3個の差込プロング102を再位
置決めすることが出来る。
、ボスト上にケーシング96を保持するための保持リン
グ(図示せず)等を収容する。この保持リングとケーシ
ングの後面97との間にはバネ(図示せず)を配置して
、ケーシングをプレート82に対し偏倚させることも出
来る。このバネはケーシングをプレート82から僅かに
離間変位させ得るよう撓み、ボスト76の軸線を中心と
して回転し、かくして3個の差込プロング102を再位
置決めすることが出来る。
ボスト76は中空先端部を有し、ここに弁プランジャ1
04を摺動自在に挿入して電磁コイルケーシング96内
に位置決めする。プランジャはケーシング96内に内蔵
された電磁コイルの付勢に応じて後方向に変位するよう
にする(すなわち、第6図において上方向)。コイル圧
縮バネ106がプランジャ104を包囲すると共に、プ
ランジャ104の先端部に位置するフランジ78とフラ
ンジ108 との間で作用する。フランジ108 は、
例えば、スプリット保持リングで形成することが出来る
。すなわち、プランジャが電磁コイルにより後方向に後
退すると、バネ106が圧縮される。
04を摺動自在に挿入して電磁コイルケーシング96内
に位置決めする。プランジャはケーシング96内に内蔵
された電磁コイルの付勢に応じて後方向に変位するよう
にする(すなわち、第6図において上方向)。コイル圧
縮バネ106がプランジャ104を包囲すると共に、プ
ランジャ104の先端部に位置するフランジ78とフラ
ンジ108 との間で作用する。フランジ108 は、
例えば、スプリット保持リングで形成することが出来る
。すなわち、プランジャが電磁コイルにより後方向に後
退すると、バネ106が圧縮される。
プランジャの中空先端部には弁軸110が着脱自在に装
着される。この弁軸110 はプランジャ104内に摩
擦嵌合によって装着された孔部112と本体118の貫
通孔116内を摺動する拡大断面の前部114とを備え
る。本体118はその後端部に外ネジ120を有し、こ
れを弁ハウジングの内ネジ74に螺着する。本体118
は内側ブシュ119を備え、その内部で弁軸110の先
端部が摺動する。弁軸はその外周部に複数の長手方向流
路121を備えてブシュ119に対し流体を前方向に案
内する(第10図参照)。
着される。この弁軸110 はプランジャ104内に摩
擦嵌合によって装着された孔部112と本体118の貫
通孔116内を摺動する拡大断面の前部114とを備え
る。本体118はその後端部に外ネジ120を有し、こ
れを弁ハウジングの内ネジ74に螺着する。本体118
は内側ブシュ119を備え、その内部で弁軸110の先
端部が摺動する。弁軸はその外周部に複数の長手方向流
路121を備えてブシュ119に対し流体を前方向に案
内する(第10図参照)。
弁軸110の先端部から弾性材料で作成された円盤12
2が突出する。この円盤122は弁座50に形成された
通路56の後端部よりも大きい直径を有し、且つバネ1
06の偏倚を受けて弁座に密封当接する。通路56.5
8とステム114とプランジャ104とボスト76とは
共通の長手軸線に沿って整列することが諒解されよう。
2が突出する。この円盤122は弁座50に形成された
通路56の後端部よりも大きい直径を有し、且つバネ1
06の偏倚を受けて弁座に密封当接する。通路56.5
8とステム114とプランジャ104とボスト76とは
共通の長手軸線に沿って整列することが諒解されよう。
ステム110は本体118の貫通孔116よりも断面に
おいて大きくなく、従って、ステム114はキャップ6
0とノズルセクション38とが取り外された後に、プラ
ンジャ104から引き抜くことが出来、且つ噴霧装置3
2から完全に前方向に引き抜くことが出来る。
おいて大きくなく、従って、ステム114はキャップ6
0とノズルセクション38とが取り外された後に、プラ
ンジャ104から引き抜くことが出来、且つ噴霧装置3
2から完全に前方向に引き抜くことが出来る。
摩擦嵌合によって装着する代わりに、ステムは、例えば
、ネジ接続のような他の迅速な取り外し接続機構によっ
てプランジャに装着することも出来る。
、ネジ接続のような他の迅速な取り外し接続機構によっ
てプランジャに装着することも出来る。
ノズルセクション38の着脱はキャップ60によって常
法で行われる。すなわち、キャップにスロット62を配
置して本体118の外壁部に形成された半径方向突出ラ
グ124を収容する。スロット62の側壁部は相対的回
転に応じて本体118の方向へキャップを移動させるよ
う作用するカム部126を備える。これは、前壁部12
8をこの前壁部128 とノズルハウジング42の後壁
部132 との間に位置する弾性封止リング130に対
し長手方向に押圧させる。キャップの反対方向の回転は
圧縮リング130によって柔軟に阻止される。
法で行われる。すなわち、キャップにスロット62を配
置して本体118の外壁部に形成された半径方向突出ラ
グ124を収容する。スロット62の側壁部は相対的回
転に応じて本体118の方向へキャップを移動させるよ
う作用するカム部126を備える。これは、前壁部12
8をこの前壁部128 とノズルハウジング42の後壁
部132 との間に位置する弾性封止リング130に対
し長手方向に押圧させる。キャップの反対方向の回転は
圧縮リング130によって柔軟に阻止される。
リング130はさらにこのように圧縮された後に液密シ
ールをも形成する。
ールをも形成する。
操作する際、加圧液がポート71を介して噴霧装置に導
入される。ソレノイドが減勢されると(すなわち、非噴
霧モードにある際)、弁軸は弁座50の方向に偏倚され
てノズル部材を閉鎖する。ソレノイドが付勢されると、
プランジャおよびステムが後退し、これにより弁座を開
放する。加圧液が直ちにスリット54を介してロール上
に噴出される。封止円盤122が摩耗した後、その取り
外しは本体118を単にネジ戻し且つステムをプランジ
ャから軸線方向に引き抜くことによって行われる。新た
なステムの挿入はこの手順の逆操作によって行われる。
入される。ソレノイドが減勢されると(すなわち、非噴
霧モードにある際)、弁軸は弁座50の方向に偏倚され
てノズル部材を閉鎖する。ソレノイドが付勢されると、
プランジャおよびステムが後退し、これにより弁座を開
放する。加圧液が直ちにスリット54を介してロール上
に噴出される。封止円盤122が摩耗した後、その取り
外しは本体118を単にネジ戻し且つステムをプランジ
ャから軸線方向に引き抜くことによって行われる。新た
なステムの挿入はこの手順の逆操作によって行われる。
従来技術のノズル装置
本発明は霧吹器に従来用いられているノズル装置よりも
顕著な利点を有する。第11図乃至第13図に示したこ
の種の従来技術のノズル装置236はノズルセクション
238 と弁セクション240とを備える。ノズルセク
ション238 は略円筒状のノズルハウジング242を
備えて、その先端部に横スロット244を設ける。ノズ
ルハウジング242の中心孔部には、好ましくは、例え
ば、炭化タングステンのような硬質の耐摩耗性材料で形
成されたノズル部材246が正大装着される。
顕著な利点を有する。第11図乃至第13図に示したこ
の種の従来技術のノズル装置236はノズルセクション
238 と弁セクション240とを備える。ノズルセク
ション238 は略円筒状のノズルハウジング242を
備えて、その先端部に横スロット244を設ける。ノズ
ルハウジング242の中心孔部には、好ましくは、例え
ば、炭化タングステンのような硬質の耐摩耗性材料で形
成されたノズル部材246が正大装着される。
中心孔部の後端部には保持リング248が圧入される。
ノズル部246はその先端部にスリット254を有し、
このスリット254はノズル部材246における中心通
路258 と連通ずる。ノズルハウジング238はバッ
ターフィルド(Butterf 1eld)等に係る米
国特許第4 、527.745号に記載された種類のキ
ャップ260(第12図)に形成された貫通孔部の先端
部に着脱自在に配置される。キャップ260は後記する
理由でその外壁部にスロット262を備える。
このスリット254はノズル部材246における中心通
路258 と連通ずる。ノズルハウジング238はバッ
ターフィルド(Butterf 1eld)等に係る米
国特許第4 、527.745号に記載された種類のキ
ャップ260(第12図)に形成された貫通孔部の先端
部に着脱自在に配置される。キャップ260は後記する
理由でその外壁部にスロット262を備える。
弁セクション240 は弁ハウジング270を備えて隔
壁273により分離された第1および第2ネジ付孔部2
71.272を有する。孔部271.272は互いに整
列すると共に、ノズルハウジング242内の通路258
にも整列する。弁ハウジング270内には孔部271.
272に対し垂直に第3孔部274が配置される。この
第3孔部274 は夫々第1および第2通路275A、
275Bにより第1および第2孔部271.272
と連通ずる。弁ハウジングの後端部には中空ボスト27
6が着脱自在に装着される。このポスト276はその先
端部に拡大フランジ278を備え、これは第3孔部27
4の後端部における属人280に嵌入する。プレート2
82は中心開口部284を有し、ここをポスト276が
貫通し、プレート282はネジ288によって弁ハウジ
ング270の後側286に取り付けられる。弾性封止リ
ング290をプレート282とフランジ278との間に
介装して属人280の拡開後端部292と接触させるこ
とにより液密シールを形成する。
壁273により分離された第1および第2ネジ付孔部2
71.272を有する。孔部271.272は互いに整
列すると共に、ノズルハウジング242内の通路258
にも整列する。弁ハウジング270内には孔部271.
272に対し垂直に第3孔部274が配置される。この
第3孔部274 は夫々第1および第2通路275A、
275Bにより第1および第2孔部271.272
と連通ずる。弁ハウジングの後端部には中空ボスト27
6が着脱自在に装着される。このポスト276はその先
端部に拡大フランジ278を備え、これは第3孔部27
4の後端部における属人280に嵌入する。プレート2
82は中心開口部284を有し、ここをポスト276が
貫通し、プレート282はネジ288によって弁ハウジ
ング270の後側286に取り付けられる。弾性封止リ
ング290をプレート282とフランジ278との間に
介装して属人280の拡開後端部292と接触させるこ
とにより液密シールを形成する。
ポスト276の後端部には慣用の差込型電磁コイルケー
シング296が装着される。そのケーシング296 は
孔部298を備え、これをポスト276が貫通する。ポ
スト276の後端部には環状外側溝部300が形成され
てケーシング296をポストに維持するための保持リン
グ(図示せず)等を収容する。バネ(図示せず)をこの
保持リングとケーシングの後側297との間に配置して
ケーシングをプレート282の方向へ偏倚させることが
出来る。このバネはケーシングをプレート282から僅
かに離間偏倚させてポスト276の軸線を中心として回
転するように撓むことが出来、かくして3個の差込プロ
ング302を再位置決めすることが出来る。
シング296が装着される。そのケーシング296 は
孔部298を備え、これをポスト276が貫通する。ポ
スト276の後端部には環状外側溝部300が形成され
てケーシング296をポストに維持するための保持リン
グ(図示せず)等を収容する。バネ(図示せず)をこの
保持リングとケーシングの後側297との間に配置して
ケーシングをプレート282の方向へ偏倚させることが
出来る。このバネはケーシングをプレート282から僅
かに離間偏倚させてポスト276の軸線を中心として回
転するように撓むことが出来、かくして3個の差込プロ
ング302を再位置決めすることが出来る。
ポスト276は中空先端部を備え、ここに弁プランジャ
304を電磁コイルケーシング296内で位置決めし得
るよう摺動自在に配置する。プランジャはケーシング2
96内に内蔵された電磁コイルの付勢に応じて後方向(
すなわち、第12図において右方向)に偏倚することが
出来る。コイル圧縮バネ306がプランジャ304を包
囲すると共に、プランジャ304の先端部に位置するフ
ランジ278 とフランジ308 に対して作用する。
304を電磁コイルケーシング296内で位置決めし得
るよう摺動自在に配置する。プランジャはケーシング2
96内に内蔵された電磁コイルの付勢に応じて後方向(
すなわち、第12図において右方向)に偏倚することが
出来る。コイル圧縮バネ306がプランジャ304を包
囲すると共に、プランジャ304の先端部に位置するフ
ランジ278 とフランジ308 に対して作用する。
フランジ308は、例えば、スリット保持リングによっ
て形成することが出来る。かくして、プランジャが電磁
コイルにより後方向に後退すると、バネ306は圧縮さ
れてプランジャを前方向に偏倚させる。
て形成することが出来る。かくして、プランジャが電磁
コイルにより後方向に後退すると、バネ306は圧縮さ
れてプランジャを前方向に偏倚させる。
プランジャ304の先端部には弾性封止部材310が配
置され、この封止部材310は通路275Aを包囲する
斜傾座部312に対し電磁コイルが付勢されていない時
に常にバネ306の変位を受けて当接する。かくして、
通路275Aが閉鎖される一方、通路275Bが開放状
態に保たれる。
置され、この封止部材310は通路275Aを包囲する
斜傾座部312に対し電磁コイルが付勢されていない時
に常にバネ306の変位を受けて当接する。かくして、
通路275Aが閉鎖される一方、通路275Bが開放状
態に保たれる。
プランジャ304は少なくとも1個の長手方向流路31
4を備え、この流路314は通路275Bからの液体の
流れを中空ポスト276の後端部まで案内するのに適す
る。この液体はフランジ308の外縁部を循環し、流路
314とポスト276の後端部における小穴(図示せず
)とを通過し、且つそこからポスト276の後端部に接
続された適当な導管(図示せず)まで流動する。
4を備え、この流路314は通路275Bからの液体の
流れを中空ポスト276の後端部まで案内するのに適す
る。この液体はフランジ308の外縁部を循環し、流路
314とポスト276の後端部における小穴(図示せず
)とを通過し、且つそこからポスト276の後端部に接
続された適当な導管(図示せず)まで流動する。
第1孔部271には中空本体318が螺着され、ここに
ノズルハウジング242をキャップ260によって装着
することが出来る。この点に関し、キャップにはスロッ
ト262を配置して本体318の外壁部に形成された半
径方向に突出したラグ324を収容する。スロット26
2の側壁部は相対的回転に応じて本体318の方向にキ
ャップを移動させるよう作用するカム部材326を備え
る。
ノズルハウジング242をキャップ260によって装着
することが出来る。この点に関し、キャップにはスロッ
ト262を配置して本体318の外壁部に形成された半
径方向に突出したラグ324を収容する。スロット26
2の側壁部は相対的回転に応じて本体318の方向にキ
ャップを移動させるよう作用するカム部材326を備え
る。
これは本体318の前壁部をこの前壁部とノズルハウジ
ング242の後壁部との間に位置する弾性封止リング(
図示せず)に対し長手方向に押圧させる。
ング242の後壁部との間に位置する弾性封止リング(
図示せず)に対し長手方向に押圧させる。
第11図乃至第13図を参照して説明した従来技術の装
置を操作する際、加圧液は第2孔部272に供給され且
つ通路275Bを流通する。ソレノイドが付勢されなけ
れば、弁プランジャ304は通路275Aを閉鎖し、液
体は流路314を通過すると共に、ポスト276の後端
部から適当な溜部まで移動する。弁が付勢されると、プ
ランジャ304が後退して通路275Aが開放し、液体
をそこに流下させ且つそこからノズル部材まで移動させ
る。プランジャが後退すると、プランジャの壁部330
におけるシールがプランジャの後端部における小穴(図
示せず)と接触して溜部への流れを閉鎖する。
置を操作する際、加圧液は第2孔部272に供給され且
つ通路275Bを流通する。ソレノイドが付勢されなけ
れば、弁プランジャ304は通路275Aを閉鎖し、液
体は流路314を通過すると共に、ポスト276の後端
部から適当な溜部まで移動する。弁が付勢されると、プ
ランジャ304が後退して通路275Aが開放し、液体
をそこに流下させ且つそこからノズル部材まで移動させ
る。プランジャが後退すると、プランジャの壁部330
におけるシールがプランジャの後端部における小穴(図
示せず)と接触して溜部への流れを閉鎖する。
本発明の利点
本発明による噴霧装置は、単に本体118をネジ戻り且
つプランジャ104内のステム部分の摩擦嵌めによる抵
抗を克服するのに充分強い力でステム110を前方向に
引き抜くだけで摩耗した弁軸を交換し得ることが諒解さ
れよう。次いで、新たなステムをプランジャ中へ圧入し
て挿入することが出来る。従って、弁装置の解体を必要
としない。
つプランジャ104内のステム部分の摩擦嵌めによる抵
抗を克服するのに充分強い力でステム110を前方向に
引き抜くだけで摩耗した弁軸を交換し得ることが諒解さ
れよう。次いで、新たなステムをプランジャ中へ圧入し
て挿入することが出来る。従って、弁装置の解体を必要
としない。
さらに、圧入、摩擦嵌めの弁座50をノズル部材の後端
部に設けることにより、従来技術のノズルセクションを
本発明で使用するのに適したノズルセクションに変換す
ることが出来る。この種の配置は、液体流動をノズルセ
クションの後側で直接に終端させることが出来る。弁と
噴霧スリット54との間の短い間隔は圧力サージと漏れ
との発生を防止すると共に、弁が閉鎖している際に未使
用の加圧液を溜部へ反らす必要性を回避する。かくして
、多量の未使用液を処分する必要がなくなる。
部に設けることにより、従来技術のノズルセクションを
本発明で使用するのに適したノズルセクションに変換す
ることが出来る。この種の配置は、液体流動をノズルセ
クションの後側で直接に終端させることが出来る。弁と
噴霧スリット54との間の短い間隔は圧力サージと漏れ
との発生を防止すると共に、弁が閉鎖している際に未使
用の加圧液を溜部へ反らす必要性を回避する。かくして
、多量の未使用液を処分する必要がなくなる。
次いで、第14図を参照すれば、信号402は矩形パル
スPのシステムを有し、噴霧ノズルソレノイドの作動を
制御するために使用することが出来る。要するに、信号
402がrHIGHJまたはrONJ状態である際、電
流が供給されて噴霧ノズルソレノイドを作動させる。
スPのシステムを有し、噴霧ノズルソレノイドの作動を
制御するために使用することが出来る。要するに、信号
402がrHIGHJまたはrONJ状態である際、電
流が供給されて噴霧ノズルソレノイドを作動させる。
ソレノイドおよび噴霧ノズルは信号402がrLOWJ
またはrOFFJ状態にある際に威勢される。パルスシ
ーケンスの使用サイクルはサイクル時間に対するパルス
Pの幅によって決定される。換言すれば、使用サイクル
DはON時時間。Mとサイクル時間t、。、はその比を
取ることによって決定することが出来る。勿論、サイク
ル時間t、。7はON時時間。NとOFF時間時間OF
F との合計である。従って、使用サイクルDは D= toN/ trot = toN/ (tox
+ topp)として規定することが出来る。
またはrOFFJ状態にある際に威勢される。パルスシ
ーケンスの使用サイクルはサイクル時間に対するパルス
Pの幅によって決定される。換言すれば、使用サイクル
DはON時時間。Mとサイクル時間t、。、はその比を
取ることによって決定することが出来る。勿論、サイク
ル時間t、。7はON時時間。NとOFF時間時間OF
F との合計である。従って、使用サイクルDは D= toN/ trot = toN/ (tox
+ topp)として規定することが出来る。
噴霧器の噴霧出量を調整するには、信号402の使用サ
イクルを変化させればよい。より高い使用サイクルは給
温器からの噴霧出量を増大させる。例えば、1の使用サ
イクルは信号402が常にON位置に留まり、従って、
噴霧ノズルも同様に常にONに留まることを意味する。
イクルを変化させればよい。より高い使用サイクルは給
温器からの噴霧出量を増大させる。例えば、1の使用サ
イクルは信号402が常にON位置に留まり、従って、
噴霧ノズルも同様に常にONに留まることを意味する。
0の使用サイクルの場合は、噴霧ノズルはOFF状態に
留まる。第14図に示した特定信号402の場合、パル
ス幅t。、はおおよそ全サイクル時間t TOTの17
3である。従って、第14図に示した信号402の使用
サイクルは約0.33であり、この信号により制御され
る噴霧ノズルはONであって操作時間の約33゜3%で
ある。
留まる。第14図に示した特定信号402の場合、パル
ス幅t。、はおおよそ全サイクル時間t TOTの17
3である。従って、第14図に示した信号402の使用
サイクルは約0.33であり、この信号により制御され
る噴霧ノズルはONであって操作時間の約33゜3%で
ある。
使用サイクルは信号402により規定されたパルスシー
ケンスの隣接パルス間におけるパルス幅t。M若しくは
時間t。FFの一方、若しくは両者を変化させて変える
ことが出来る。然しなから、典型的な霧吹器においては
、しばしばシステムの限界が特性操作パラメータを越え
る霧吹器の適切な操作を妨げる。例えば、パルスの幅を
変化させて使用サイクルを変化させるシステムにおいて
は、弁およびノズルの限界が所定値以下のパルス幅につ
き適切な操作を妨げる。かくして、08時間を変化させ
るシステムはしばしば噴霧出量が低い期間において噴霧
パターンが貧弱になるという欠点を有する。同様に、O
FF時間を調整して使用サイクルを変化させるシステム
は噴霧パルス間(特に、高速プレス操作の際)に比較的
長時間が経過する場合、ローラ乾燥に関連した問題に直
面する。然しながら、本発明はこれらの困難性を解消す
る。
ケンスの隣接パルス間におけるパルス幅t。M若しくは
時間t。FFの一方、若しくは両者を変化させて変える
ことが出来る。然しなから、典型的な霧吹器においては
、しばしばシステムの限界が特性操作パラメータを越え
る霧吹器の適切な操作を妨げる。例えば、パルスの幅を
変化させて使用サイクルを変化させるシステムにおいて
は、弁およびノズルの限界が所定値以下のパルス幅につ
き適切な操作を妨げる。かくして、08時間を変化させ
るシステムはしばしば噴霧出量が低い期間において噴霧
パターンが貧弱になるという欠点を有する。同様に、O
FF時間を調整して使用サイクルを変化させるシステム
は噴霧パルス間(特に、高速プレス操作の際)に比較的
長時間が経過する場合、ローラ乾燥に関連した問題に直
面する。然しながら、本発明はこれらの困難性を解消す
る。
第15図の給温曲線を参照して、霧吹器により噴出され
る給湿液の量は好ましくはプレス速度に対し非直線関係
を有する。所定速度S。未満のプレス速度において、霧
吹器出量は抑制される。この状態は、一般に、プレスが
印刷速度まで高められている際に生ずる。給温曲線40
4で示したように、速度S。と速度S1との間において
給温%(すなわち、ノズルが給湿液を放出する時間の比
率)は第1速度におけるプレス速度と共に直線的に増大
する。同様に、プレス速度S! と82との間、プレス
速度S2と33との間および速度S3より高い際、給温
%は異なる速度におけるプレス速度と共に直線的に変化
する。所望ならば、給温曲線は印刷プレスを最初に速度
S。にした際の出量となるパージ信号を含むことも出来
る。給温曲線404が傾斜変化する速度および給温曲線
の個々の部分に対する特性の傾斜は霧吹システムを使用
する印刷プレスに依存する。
る給湿液の量は好ましくはプレス速度に対し非直線関係
を有する。所定速度S。未満のプレス速度において、霧
吹器出量は抑制される。この状態は、一般に、プレスが
印刷速度まで高められている際に生ずる。給温曲線40
4で示したように、速度S。と速度S1との間において
給温%(すなわち、ノズルが給湿液を放出する時間の比
率)は第1速度におけるプレス速度と共に直線的に増大
する。同様に、プレス速度S! と82との間、プレス
速度S2と33との間および速度S3より高い際、給温
%は異なる速度におけるプレス速度と共に直線的に変化
する。所望ならば、給温曲線は印刷プレスを最初に速度
S。にした際の出量となるパージ信号を含むことも出来
る。給温曲線404が傾斜変化する速度および給温曲線
の個々の部分に対する特性の傾斜は霧吹システムを使用
する印刷プレスに依存する。
本発明の一特徴によれば、プレス速度が速度32未満で
ある場合、ノズル制御パルスPのパルス幅t。Nは所定
値(例えば、20μ秒)に設定され、これは適切な噴霧
パターンを確保するのに充分長い。次いで、給温%はパ
ルスシーケンスの隣接パルス間における時間を調節して
変化させることが出来る。プレス速度が速度S2より大
であれば、隣接パルス間の時間は所定値(例えば、40
0μ秒)に設定され、これは印刷プレスローラが高速プ
レス操作の際の噴霧/</レス間にて過度に乾燥しない
よう確保する。次いで、給温%をパルスPのパルス幅を
調節して変化させる。このようにして、本発明は広範囲
の操作条件にわたり適切な噴霧パターンと有効な操作と
を可能にする。
ある場合、ノズル制御パルスPのパルス幅t。Nは所定
値(例えば、20μ秒)に設定され、これは適切な噴霧
パターンを確保するのに充分長い。次いで、給温%はパ
ルスシーケンスの隣接パルス間における時間を調節して
変化させることが出来る。プレス速度が速度S2より大
であれば、隣接パルス間の時間は所定値(例えば、40
0μ秒)に設定され、これは印刷プレスローラが高速プ
レス操作の際の噴霧/</レス間にて過度に乾燥しない
よう確保する。次いで、給温%をパルスPのパルス幅を
調節して変化させる。このようにして、本発明は広範囲
の操作条件にわたり適切な噴霧パターンと有効な操作と
を可能にする。
本発明の他の実施態様において、速度S。と速度S1と
の間のパルス幅は第1値(例えば、20μ秒)に設定す
ることが出来、且つ給温要求が高い際のSIと82との
間のパルス幅は、例えば、30μ秒のようなより高い第
2値に設定することが出来る。同様に、速度S2と83
との間のプレス速度に対するパルスシーケンスの隣接パ
ルス間における時間は1つの数値(例えば、500μ秒
)に設定することが出来、且つ速度S。
の間のパルス幅は第1値(例えば、20μ秒)に設定す
ることが出来、且つ給温要求が高い際のSIと82との
間のパルス幅は、例えば、30μ秒のようなより高い第
2値に設定することが出来る。同様に、速度S2と83
との間のプレス速度に対するパルスシーケンスの隣接パ
ルス間における時間は1つの数値(例えば、500μ秒
)に設定することが出来、且つ速度S。
より高いプレス速度につき、例えば、400μ秒のよう
な他の数値に設定することが出来る。かくして、給温曲
線404に沿って設定点を追加することにより一層微細
な噴霧制御が得られる。
な他の数値に設定することが出来る。かくして、給温曲
線404に沿って設定点を追加することにより一層微細
な噴霧制御が得られる。
勿論、所望に応じて一層多い設定点を給温曲線に設けて
、−層微細な噴霧制御を行うことも出来る。
、−層微細な噴霧制御を行うことも出来る。
次に、第16図を参照すれば、本発明による制御システ
ムは主制御装置406を備え、これは中央演算装置(C
P U) 408とシステムメモリ410と人力/出力
(Ilo)装置412とを備える。
ムは主制御装置406を備え、これは中央演算装置(C
P U) 408とシステムメモリ410と人力/出力
(Ilo)装置412とを備える。
さらに、例えば、液晶表示(図示せず)、発光ダイオー
ド(LED)表示、または陰極線管(CRT)のような
表示装置(図示せず)を設けて、操作パラメータ等に関
する情報を使用者まで伝達することも出来る。システム
メモリ410は、好ましくは、不揮発性記憶部分を備え
て1つ若しくはそれ以上の給温曲線を記憶する。
ド(LED)表示、または陰極線管(CRT)のような
表示装置(図示せず)を設けて、操作パラメータ等に関
する情報を使用者まで伝達することも出来る。システム
メモリ410は、好ましくは、不揮発性記憶部分を備え
て1つ若しくはそれ以上の給温曲線を記憶する。
給温曲線はシステムメモリ410中に予備プログラミン
グすることが出来、あるいは、好ましくは、給温曲線を
コンピュータから、または端末装置からダウンロードさ
せることも出来る。
グすることが出来、あるいは、好ましくは、給温曲線を
コンピュータから、または端末装置からダウンロードさ
せることも出来る。
この目的で一連の通信ライン414を設けて主制御装置
406をコンピュータと連絡させることが出来る。さら
に、端末装置416は通信ライン418を介し主制御装
置406と連絡することが出来る。
406をコンピュータと連絡させることが出来る。さら
に、端末装置416は通信ライン418を介し主制御装
置406と連絡することが出来る。
かくして、一般にプレス間で変化する給温曲線の特性は
霧吹器を用いる特定用途に適合させることが出来る。
霧吹器を用いる特定用途に適合させることが出来る。
操作に際し、給温曲線の情報がコンピュータに記憶され
ていれば、この情報を主制御装置406まで適当な一連
のインタフェース、例えば、標準R3422インタフエ
ースを介してダウンロードさせることが出来る。この情
報をシステムメモリ410に記憶すべく CP U2O
5に供給することが出来る。好ましくは、この目的でシ
ステムメモリ410はプログラミングし得る読取専用メ
モリ装置(FROM)を備える。あるいは、給温曲線の
情報は端末装置416からCP U2O5に供給するこ
とも出来る。かくして所望に応じ使用者は適当な給温曲
線をシステムメモリ410に直接記憶させることが出来
る。
ていれば、この情報を主制御装置406まで適当な一連
のインタフェース、例えば、標準R3422インタフエ
ースを介してダウンロードさせることが出来る。この情
報をシステムメモリ410に記憶すべく CP U2O
5に供給することが出来る。好ましくは、この目的でシ
ステムメモリ410はプログラミングし得る読取専用メ
モリ装置(FROM)を備える。あるいは、給温曲線の
情報は端末装置416からCP U2O5に供給するこ
とも出来る。かくして所望に応じ使用者は適当な給温曲
線をシステムメモリ410に直接記憶させることが出来
る。
CP 0408はプレス速度の表示信号を人力ライン4
20で受信するのに適する。プレス速度の表示信号は標
準タコメータ発生器、ホール効果近接センサまたは他の
適するセンサから得ることが出来る。さらに、印刷コン
ピュータを備えるような近代的印刷プレスにおいては、
プレス速度の表示手段をプレスコンピュータにて既に人
手することが出来る。この場合、プレス速度の表示信号
は印刷コンピュータから直接得ることが出来る。
20で受信するのに適する。プレス速度の表示信号は標
準タコメータ発生器、ホール効果近接センサまたは他の
適するセンサから得ることが出来る。さらに、印刷コン
ピュータを備えるような近代的印刷プレスにおいては、
プレス速度の表示手段をプレスコンピュータにて既に人
手することが出来る。この場合、プレス速度の表示信号
は印刷コンピュータから直接得ることが出来る。
速度表示信号に呼応してCP U3O8は噴霧ノズルの
作動制御信号のパラメータに関する情報を含む記録をシ
ステムメモリ410から検索する。
作動制御信号のパラメータに関する情報を含む記録をシ
ステムメモリ410から検索する。
例えば、速度表示信号はメモリアドレス値に変換するこ
とが出来る。このアドレスにおいてシステムメモリ41
0に記憶された内容は、次いで、噴霧ノズルの作動制御
信号に対する使用サイクル値を示す情報を提供すること
が出来る。記憶された使用サイクル値および速度表示信
号に基づき噴霧ノズル作動信号のパラメータはCPU4
08によって計算することが出来る。
とが出来る。このアドレスにおいてシステムメモリ41
0に記憶された内容は、次いで、噴霧ノズルの作動制御
信号に対する使用サイクル値を示す情報を提供すること
が出来る。記憶された使用サイクル値および速度表示信
号に基づき噴霧ノズル作動信号のパラメータはCPU4
08によって計算することが出来る。
例えば、第15図を再び参照して、速度S4を示す速度
表示信号が主制御装置406によって得られると、適当
なメモリ位置にてシステムメモリ410中に記憶された
記録は15%給湿給温応する使用サイクル値0.15を
有する。速度S4は速度S2よりも遅いので、パルス幅
t。Nは、例えは、20μ秒のような一定値に設定され
る。上記したように、使用サイクルDは D” taN/ (toN+ topp)として表すこ
とが出来る。t OFFを解いてtorp = to
M” (1−D) / Dを得る。従って、 topp =20°(1−0,15) 10.15=1
13μ秒である。特定のプレス速度値が6%給給温要求
すれば、t OFFは313μ秒となるであろう。
表示信号が主制御装置406によって得られると、適当
なメモリ位置にてシステムメモリ410中に記憶された
記録は15%給湿給温応する使用サイクル値0.15を
有する。速度S4は速度S2よりも遅いので、パルス幅
t。Nは、例えは、20μ秒のような一定値に設定され
る。上記したように、使用サイクルDは D” taN/ (toN+ topp)として表すこ
とが出来る。t OFFを解いてtorp = to
M” (1−D) / Dを得る。従って、 topp =20°(1−0,15) 10.15=1
13μ秒である。特定のプレス速度値が6%給給温要求
すれば、t OFFは313μ秒となるであろう。
パルスシーケンスのパラメータも、同様に、主制御装置
406により得られたプレス速度値が速度S2より犬で
ある場合に計算することが出来る。例えば、プレス速度
S5については、システムメモリ410における適当な
メモリ位置が使用サイクル値0.22を含む記録を内蔵
する。パルス間の400μ秒という一定時間を用いてt
so= tapp” (D/ L D)を解くこと
によりパルス幅値t。Nを決定することが出来る。かく
して、速度S5に対するt。Nは t、、= 400”(0,22/(1−0,22))=
113μ秒となるであろう。
406により得られたプレス速度値が速度S2より犬で
ある場合に計算することが出来る。例えば、プレス速度
S5については、システムメモリ410における適当な
メモリ位置が使用サイクル値0.22を含む記録を内蔵
する。パルス間の400μ秒という一定時間を用いてt
so= tapp” (D/ L D)を解くこと
によりパルス幅値t。Nを決定することが出来る。かく
して、速度S5に対するt。Nは t、、= 400”(0,22/(1−0,22))=
113μ秒となるであろう。
プレス速度値が速度S2に相当する場合、すなわチ、パ
ルスシーケンスが一定のパルス幅から隣接パルス間の一
定の時間まで変化する速度値に相当する場合、主制御装
置406はパルス幅tON、または、時間t OFFの
いずれかを計算することが出来る。再び、第16図に戻
って、CPU408が噴霧ノズル作動パルスシーケンス
のパラメータを決定した後、I10装置412を制御し
てパルスシーケンスを噴霧バーまで出力する。
ルスシーケンスが一定のパルス幅から隣接パルス間の一
定の時間まで変化する速度値に相当する場合、主制御装
置406はパルス幅tON、または、時間t OFFの
いずれかを計算することが出来る。再び、第16図に戻
って、CPU408が噴霧ノズル作動パルスシーケンス
のパラメータを決定した後、I10装置412を制御し
てパルスシーケンスを噴霧バーまで出力する。
パルスパラメータからパルスシーケンスを形成する好適
な方法において、CPU408はパルス間のパルス幅お
よび時間に相当する計数値を用いる。パルス幅計数値を
C8Mとし且つパルス間の時間に相当する計数値をC6
4,とすれば、CPU40g はC8Nクロックサイク
ルにつきHIGH出力信号を発生し且つC01,クロッ
クサイクルにつきLOW出力信号を供給することにより
矩形パルスシーケンスを発生する。計数値C8゜および
C01,自身はシステムメモリ410に記憶されてプレ
ス速度表示信号に応じCP 0408によって検索する
ことが出来る。
な方法において、CPU408はパルス間のパルス幅お
よび時間に相当する計数値を用いる。パルス幅計数値を
C8Mとし且つパルス間の時間に相当する計数値をC6
4,とすれば、CPU40g はC8Nクロックサイク
ルにつきHIGH出力信号を発生し且つC01,クロッ
クサイクルにつきLOW出力信号を供給することにより
矩形パルスシーケンスを発生する。計数値C8゜および
C01,自身はシステムメモリ410に記憶されてプレ
ス速度表示信号に応じCP 0408によって検索する
ことが出来る。
好マシくは、CPO408はパルスシーケンスを発生し
、その1乃至6個をI10装置412により夫々第1乃
至第6出カライン422.424.426.428.4
30および432に出力する。出力ライン422および
424は標準的二重チャンネルオプトカプラ434の各
チャンネルに接続される。
、その1乃至6個をI10装置412により夫々第1乃
至第6出カライン422.424.426.428.4
30および432に出力する。出力ライン422および
424は標準的二重チャンネルオプトカプラ434の各
チャンネルに接続される。
同様に、出力ライン426および428は二重チャンネ
ルオプトカプラ436の各チャンネルに接続され、さら
に出力ライン430および432は二重チャンネルオプ
トカプラ438の各チャンネルに接続される。これらオ
プトカプラは、−時的サージ等によって生じ得る損傷か
ら主制御装置406を隔離するよう作用する。
ルオプトカプラ436の各チャンネルに接続され、さら
に出力ライン430および432は二重チャンネルオプ
トカプラ438の各チャンネルに接続される。これらオ
プトカプラは、−時的サージ等によって生じ得る損傷か
ら主制御装置406を隔離するよう作用する。
出力ライン422はオプトカプラ434を通過しり後、
パワートランジスタTRIの操作を制御する。同様に、
出力ライン424はパワートランジスタTR2を制御し
、出力ライン426 はパワートランジスタTR3の操
作を制御し、出力ライン428はパワートランジスタT
R4の操作を制御し、出力ライン430はパワートラン
ジスタTR5の操作を制御し、且つ出力ライン432は
パワートランジスタTR6の操作を制御する。
パワートランジスタTRIの操作を制御する。同様に、
出力ライン424はパワートランジスタTR2を制御し
、出力ライン426 はパワートランジスタTR3の操
作を制御し、出力ライン428はパワートランジスタT
R4の操作を制御し、出力ライン430はパワートラン
ジスタTR5の操作を制御し、且つ出力ライン432は
パワートランジスタTR6の操作を制御する。
かくして、出力ライン422乃至432に出現するパル
スシーケンスは夫々パワートランジスタTRI乃至TR
6の操作状態を決定する。次いで、トランジスタTRI
乃至TR6の操作状態は、夫々制御チャンネル1乃至6
に出現する信号を決定する。
スシーケンスは夫々パワートランジスタTRI乃至TR
6の操作状態を決定する。次いで、トランジスタTRI
乃至TR6の操作状態は、夫々制御チャンネル1乃至6
に出現する信号を決定する。
第17図を参照して、噴霧バー440には線状列として
配置された8個の噴霧ノズルN1乃至N8を設けること
が出来る。噴霧バー440は、好ましくは、給湿液を複
数頁の印刷プレスに供給するのに適する。典型的には、
例えば、噴霧バー440は4頁の印刷プレスに給湿液を
供給する。
配置された8個の噴霧ノズルN1乃至N8を設けること
が出来る。噴霧バー440は、好ましくは、給湿液を複
数頁の印刷プレスに供給するのに適する。典型的には、
例えば、噴霧バー440は4頁の印刷プレスに給湿液を
供給する。
この場合、ノズルN1およびN2は主として頁1の給温
を制御し、ノズルN3およびN4は主として頁2の給温
を制御し、ノズルN5およびN6は主として頁3の給温
を制御し、且つノズルN7およびN8は主として頁4の
給温を制御する。勿論、隣接ノズルからの噴霧パターン
は僅かに重なる。
を制御し、ノズルN3およびN4は主として頁2の給温
を制御し、ノズルN5およびN6は主として頁3の給温
を制御し、且つノズルN7およびN8は主として頁4の
給温を制御する。勿論、隣接ノズルからの噴霧パターン
は僅かに重なる。
末端ノズルN1およびN8は線状列のノズルの最外部に
位置するので、隣接外側ノズルからの重なった噴霧によ
る給温は生じない。すなわち、頁1および4の外部に隣
接した給温ロールの部分は、残余のローラ部分よりも若
干少ない給湿液を受は入れる。然しなから、ローラの外
部はしばしばローラの中間部分よりも大きく加熱する傾
向を有する。従って、多量の給湿液を必要とするローラ
の部分はしばしば最小歪を収容する。この問題は噴霧バ
ーの外側部分により大きい噴霧ノズルを用いて克服し得
ることが示唆されている。然しなから、この解決策は、
しばしば、噴霧バーに対し異なる噴霧ノズルを使用する
ことに伴う他の問題を生ずる。さらに、噴霧バーの保守
および製造は、この構造によって複雑化する。
位置するので、隣接外側ノズルからの重なった噴霧によ
る給温は生じない。すなわち、頁1および4の外部に隣
接した給温ロールの部分は、残余のローラ部分よりも若
干少ない給湿液を受は入れる。然しなから、ローラの外
部はしばしばローラの中間部分よりも大きく加熱する傾
向を有する。従って、多量の給湿液を必要とするローラ
の部分はしばしば最小歪を収容する。この問題は噴霧バ
ーの外側部分により大きい噴霧ノズルを用いて克服し得
ることが示唆されている。然しなから、この解決策は、
しばしば、噴霧バーに対し異なる噴霧ノズルを使用する
ことに伴う他の問題を生ずる。さらに、噴霧バーの保守
および製造は、この構造によって複雑化する。
本発明の1つの特徴によれば、従来の霧吹システムにお
けるこの欠点が解消される。第17図に示したように、
ノズルN1はチャンネル1によって制御され、ノズルN
2はチャンネル2によって制御され、ノズルN3および
N4はチャンネル4により制御され、ノズルN5および
N6はチャンネル4により制御され、ノズルN7はチャ
ンネル5によって制H卸され、さらにノズルN8はチャ
ンネル6により制御される。外側噴霧ノズルにおける熱
の増大および給温の低下を補償するには、制御チャンネ
ル1および6におけるパルスシーケンスの使用サイクル
を増大させることが出来る。例えば、制御チャンネル1
におけるパルスシーケンスの使用サイクルは制御チャン
ネル2におけるパルスシーケンスの使用サイクルよりも
若干高くすることが出来る。
けるこの欠点が解消される。第17図に示したように、
ノズルN1はチャンネル1によって制御され、ノズルN
2はチャンネル2によって制御され、ノズルN3および
N4はチャンネル4により制御され、ノズルN5および
N6はチャンネル4により制御され、ノズルN7はチャ
ンネル5によって制H卸され、さらにノズルN8はチャ
ンネル6により制御される。外側噴霧ノズルにおける熱
の増大および給温の低下を補償するには、制御チャンネ
ル1および6におけるパルスシーケンスの使用サイクル
を増大させることが出来る。例えば、制御チャンネル1
におけるパルスシーケンスの使用サイクルは制御チャン
ネル2におけるパルスシーケンスの使用サイクルよりも
若干高くすることが出来る。
同様に、制御チャンネル8におけるパルスシーケンスの
使用サイクルは制御チャンネル7におケルパルスシーケ
ンスの使用サイクルよりも若干高くすることが出来る。
使用サイクルは制御チャンネル7におケルパルスシーケ
ンスの使用サイクルよりも若干高くすることが出来る。
好ましくは、制御チャンネル1および8におけるパルス
シーケンスの使用サイクルは夫々制御チャンネル2およ
び7におけるパルスシーケンスの使用サイクルに機能上
相関させる。一実施態様において、制御チャンネル1お
よび8におけるパルスシーケンスの使用サイクルは制御
チャンネル2および7におけるパルスシーケンスの使用
サイクルよりも夫々4%高い。換言すれば、ノズルN1
の使用サイクルはノズルN2の使用サイクルの1.04
倍となる。
シーケンスの使用サイクルは夫々制御チャンネル2およ
び7におけるパルスシーケンスの使用サイクルに機能上
相関させる。一実施態様において、制御チャンネル1お
よび8におけるパルスシーケンスの使用サイクルは制御
チャンネル2および7におけるパルスシーケンスの使用
サイクルよりも夫々4%高い。換言すれば、ノズルN1
の使用サイクルはノズルN2の使用サイクルの1.04
倍となる。
ノズルN1およびN8は夫々専用制御チャンネルを有す
るので、異なる使用サイクルを吸収することが出来る。
るので、異なる使用サイクルを吸収することが出来る。
CP U2O5をプログラミングしてノズルN1および
N8につき改変使用サイクルを計算すると共に、出力ラ
イン422および432に対するパルスシーケンスをそ
れに応じて調整することが出来る。専用パワートランジ
スタTRIおよびTR8は改変パルスシーケンスに従っ
てノズルN1およびN8を制御する。
N8につき改変使用サイクルを計算すると共に、出力ラ
イン422および432に対するパルスシーケンスをそ
れに応じて調整することが出来る。専用パワートランジ
スタTRIおよびTR8は改変パルスシーケンスに従っ
てノズルN1およびN8を制御する。
典型的には、複数頁印刷操作において、印刷パラメータ
は頁毎に変化する。印刷パラメータにおけるこれらの変
化は追加(若しくは少ない)給湿液を必要とする1頁を
もたらし得る。従って、各頁には別途の制御チャンネル
を設ける。
は頁毎に変化する。印刷パラメータにおけるこれらの変
化は追加(若しくは少ない)給湿液を必要とする1頁を
もたらし得る。従って、各頁には別途の制御チャンネル
を設ける。
第17図に示したように、ノズルN3およびN4(頁2
)はチャンネル3によって操作される。
)はチャンネル3によって操作される。
ノズルN5およびN6 (頁3)はチャンネル4によっ
て制御される。勿論、外側ノズルN1およびN8は専用
制御チャンネルを有するので、ノズルN2およびN7も
夫々個々の制御チャンネルCH2およびC84を有する
。然しなから、この場合も、チャンネル1におけるパル
スシーケンスの使用サイクルは、好ましくは、チャンネ
ル2におけるパルスシーケンスの使用サイクルに機能上
相関し、且つチャンネル8におけるパルスシーケンスの
使用サイクルは、好ましくは、チャンネル7におけるパ
ルスシーケンスの使用サイクルに機能上相関することが
認められよう。
て制御される。勿論、外側ノズルN1およびN8は専用
制御チャンネルを有するので、ノズルN2およびN7も
夫々個々の制御チャンネルCH2およびC84を有する
。然しなから、この場合も、チャンネル1におけるパル
スシーケンスの使用サイクルは、好ましくは、チャンネ
ル2におけるパルスシーケンスの使用サイクルに機能上
相関し、且つチャンネル8におけるパルスシーケンスの
使用サイクルは、好ましくは、チャンネル7におけるパ
ルスシーケンスの使用サイクルに機能上相関することが
認められよう。
霧吹装置の操作を制御する際の柔軟性をより大きくする
ため、主制御装置の操作特性は使用者の↑旨示に従って
変化させることが出来る。従って、使用者の指令は端末
装置416を介し主制御装置406に入力することが出
来る。さらに、主制御装置406はキーバッド、あるい
は特殊な制御ノブ(図示せず)を備えることも出来る。
ため、主制御装置の操作特性は使用者の↑旨示に従って
変化させることが出来る。従って、使用者の指令は端末
装置416を介し主制御装置406に入力することが出
来る。さらに、主制御装置406はキーバッド、あるい
は特殊な制御ノブ(図示せず)を備えることも出来る。
例えば、頁2が給温増加を必要とすれば、使用者はCP
U2O5に対しチャンネル3のパルスシーケンスの使
用サイクルを増大させるよう指示することが出来る。
U2O5に対しチャンネル3のパルスシーケンスの使
用サイクルを増大させるよう指示することが出来る。
以上、本発明について好適な実施態様を挙げて説明した
が、本発明はこの実施態様に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の改良並び
に設計の変更が可能なことは勿論である。
が、本発明はこの実施態様に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の改良並び
に設計の変更が可能なことは勿論である。
第1図は一点鎖線で示した印刷メカニズムの部分を含む
本発明による噴霧メカニズムの斜視図、 第2図は本発明による噴霧装置の側面図、第3図は第2
図に示す噴霧装置の90°変位させた側面図、 第4図は一点鎖線で示したソレノイドケーシングを備え
る噴霧装置の後端面図、 第5図は噴霧装置の先端面図、 第6図は噴霧装置の分解縦断説明図、 第7図はノズルセクションを破断して示した弁軸に封止
係合するノズルセクションの一部縦断説明図、 第8図はノズルセクションが弁軸により閉鎖されている
際の噴霧装置の一部縦断説明図、第9図はプランジャか
ら外された弁軸を示す噴霧装置の弁セクションの一部縦
断説明図、第10図はノズルに液体を流出させるべく弁
軸を後退位置で示した第8図と同様な一部縦断説明図、 第11図は従来技術に係る噴霧装置の側面図、第12図
は従来技術の噴霧装置の部分縦断分解説明図、 第13図は従来技術に係るノズルセクションの部分縦断
説明図、 第14図は噴霧ノズルソレノイドを作動させるために使
用する矩形パルスシーケンスの波形説明図、 第15図は噴霧ノズルの操作パラメータにプレス速度を
相関させるための吹付の特性曲線図、第16図は本発明
による霧吹器制御シーケンスの一実施態様のブロック回
路図、 第17図は本発明の一特徴による噴霧ノズルと制御チャ
ンネルと印刷頁との間の関係を示す説明図である。 38・・・ノズル、40・・・弁、50・・・弁座、5
4・・・スリット、70・・・弁ハウジング、71・・
・ボート、72・・・貫通孔、104・・・プランジャ
、110・・・弁軸と−ミl
本発明による噴霧メカニズムの斜視図、 第2図は本発明による噴霧装置の側面図、第3図は第2
図に示す噴霧装置の90°変位させた側面図、 第4図は一点鎖線で示したソレノイドケーシングを備え
る噴霧装置の後端面図、 第5図は噴霧装置の先端面図、 第6図は噴霧装置の分解縦断説明図、 第7図はノズルセクションを破断して示した弁軸に封止
係合するノズルセクションの一部縦断説明図、 第8図はノズルセクションが弁軸により閉鎖されている
際の噴霧装置の一部縦断説明図、第9図はプランジャか
ら外された弁軸を示す噴霧装置の弁セクションの一部縦
断説明図、第10図はノズルに液体を流出させるべく弁
軸を後退位置で示した第8図と同様な一部縦断説明図、 第11図は従来技術に係る噴霧装置の側面図、第12図
は従来技術の噴霧装置の部分縦断分解説明図、 第13図は従来技術に係るノズルセクションの部分縦断
説明図、 第14図は噴霧ノズルソレノイドを作動させるために使
用する矩形パルスシーケンスの波形説明図、 第15図は噴霧ノズルの操作パラメータにプレス速度を
相関させるための吹付の特性曲線図、第16図は本発明
による霧吹器制御シーケンスの一実施態様のブロック回
路図、 第17図は本発明の一特徴による噴霧ノズルと制御チャ
ンネルと印刷頁との間の関係を示す説明図である。 38・・・ノズル、40・・・弁、50・・・弁座、5
4・・・スリット、70・・・弁ハウジング、71・・
・ボート、72・・・貫通孔、104・・・プランジャ
、110・・・弁軸と−ミl
Claims (22)
- (1)弁(40)と、液体噴霧出口(54)をその先端
部に備え且つ弁座(50)をその後端部に備えたノズル
(38)と、前記ノズルを前記弁に着脱自在に装着する
手段(60)とからなり、前記弁は液体入口(71)に
連通する貫通孔(72)を備えた弁ハウジング(70)
と、前記貫通孔内に摺動自在に装着されてその内部で往
復運動し得るソレノイドプランジャ(104)と、前記
プランジャの先端部に着脱自在に装着され且つ前記弁座
に接触するよう配置された前封止面(122)を備えた
弁軸とからなり、前記弁座と前記弁軸と前記プランジャ
と前記ノズル手段とが同軸配置されてなる液体噴霧装置
において、前記弁軸はこの弁軸の先端部に適当な力を加
えることにより前記プランジャから着脱自在であり、前
記貫通孔は前記ノズル手段が前記弁手段から着脱された
際に前記プランジャから前記弁軸を前方向で除去するの
に充分な幅を有することを特徴とする液体噴霧装置。 - (2)請求項1記載の装置において、弁軸が摩擦嵌合に
よりプランジャに装着されたことを特徴とする液体噴霧
装置。 - (3)請求項1記載の装置において、弁軸が液体を案内
するための少なくとも1個の長手方向流路(132)を
その外周部に備えることを特徴とする液体噴霧装置。 - (4)請求項1記載の装置において、ノズル手段がノズ
ルハウジング(42)からなり、その内部に挿通された
スリット付部材(46)を備えて前記ノズルハウジング
の先端部に噴霧出口(54)を形成し、弁座(50)が
前記ノズルハウジングの後端部に圧入されると共にそこ
から後方向に突出することを特徴とする液体噴霧装置。 - (5)請求項4記載の装置において、弁座(50)が後
方向に傾斜していることを特徴とする液体噴霧装置。 - (6)請求項4記載の装置において、弁軸の前面(12
2)が弾性材料で形成されたことを特徴とする液体噴霧
装置。 - (7)請求項1記載の装置において、噴霧装置が印刷装
置(10)に装着された霧吹器からなり、液体を前記印
刷装置の回転ロール(16)上に噴霧することを特徴と
する液体噴霧装置。 - (8)請求項7記載の装置において、噴霧装置が回転ロ
ールの長さに沿って離間させた複数のノズルを備えて、
重なった噴霧を前記ロール方向に指向させること特徴と
する液体噴霧装置。 - (9)印刷プレス(10)のローラ(16)に対し霧吹
液を供給するための複数の噴霧ノズル(N1乃至N8)
を備え、前記印刷プレスの印刷速度を示す速度信号(4
14、420)を得るための手段と、第1矩形パルスシ
ーケンス(402)を発生する手段(406)と、前記
第1矩形パルスシーケンス(434、TR1、TR3;
436、TR3、TR4;438、TR5、TR6)に
応答して前記ノズルを駆動させる手段とからなる霧吹シ
ステムを作動させるための制御システムにおいて、前記
速度信号の数値が第1速度値より低い際に前記第1パル
スシーケンス(402)における各矩形パルス(P)が
一定の持続時間(t_o_n)を有し且つ隣接パルス(
t_o_f_f)の間の時間が前記速度信号に応じて変
化し、さらに前記速度信号の数値が前記第1速度値より
も高い際に前記第1パルスシーケンス(402)におけ
る隣接パルス(t_o_f_f)の間の時間が一定とな
り且つパルス(t_o_n)の持続時間が前記速度信号
に応じて変化することを特徴とする制御システム。 - (10)請求項9記載のシステムにおいて、第1矩形パ
ルスシーケンスは、速度信号の数値が第1速度値よりも
低い際の第1の一定持続時間の矩形パルスと、前記速度
信号の数値がより低い第2速度値よりも低い際の第2の
一定持続時間のパルスとからなることを特徴とする制御
システム。 - (11)請求項9または10記載のシステムにおいて、
霧吹システムが、線状列として配置され且つ重なった噴
霧パターンを形成する少なくとも4個の噴霧ノズルを備
え、且つ駆動手段が夫々前記線状列の各端部における最
外ノズルのための別個の駆動流路と、前記線状列の中間
部における対ノズルのための少なくとも1個の駆動流路
とを備えることを特徴とする制御システム。 - (12)請求項11記載のシステムにおいて、パルスシ
ーケンス発生手段がさらに第2の矩形パルスシーケンス
を発生して線状列における最外ノズルの夫々を駆動させ
、前記第2の矩形パルスシーケンスは最外ノズルが前記
線状列の中間部におけるノズルよりも高い使用サイクル
を有するよう前記第1矩形パルスシーケンスに連携する
ことを特徴とする制御システム。 - (13)請求項9乃至12のいずれかに記載のシステム
において、第1矩形パルスシーケンスは、速度信号の数
値が第1速度値よりも高い際の矩形パルスシーケンスの
隣接パルス間における一定時間と、速度信号の数値がよ
り高い第3速度値よりも高い際の隣接パルス間における
第2の一定時間とを含むことを特徴とする制御システム
。 - (14)印刷プレス(10)のローラ(16)に霧吹液
を供給するための複数の電磁作動型噴霧ノズル(N1乃
至N8)を備えた霧吹システムの作動を制御するに際し
、前記印刷プレスの印刷速度を示す信号を獲得し、第1
矩形パルスシーケンス(402)を発生させ且つ前記第
1矩形パルスシーケンスに応答してソレイドを駆動させ
ることからなる制御方法において、印刷プレスの速度が
第1速度値よりも低い際に前記第1矩形パルスシーケン
スにおける各矩形パルス(P)が一定の持続時間(t_
o_n)を有し且つ隣接パルス(t_o_f_f)の時
間が前記速度信号の関数として変化し、さらに前記印刷
プレスの速度が前記第1速度値よりも高い際に前記第1
矩形パルスシーケンスにおける隣接パルス(t_o_f
_f)間の時間が一定となり且つパルス(t_o_n)
の持続時間が前記速度信号の関数として変化することを
特徴とする制御方法。 - (15)請求項14記載の方法において、発生工程は、
印刷プレスの速度が第1速度値よりも低い際に第1の一
定持続時間を有する矩形パルスシーケンスを発生すると
共に、前記印刷プレスの速度がより低い第2速度値より
も低い際に第2の一定持続時間のパルスを発生すること
を特徴とする制御方法。 - (16)請求項14または15記載の方法において、発
生工程は、印刷プレスの速度が第1速度値よりも高い際
に矩形パルスシーケンスの隣接パルス間における第1の
一定時間を形成すると共に、前記プレス速度がより高い
第3速度値よりも高い際に隣接パルス間に第2の一定時
間を形成することを特徴とする制御方法。 - (17)請求項14乃至16のいずれかに記載の方法に
おいて、発生工程は、印刷プレスの速度が第1速度値よ
りも高い際に矩形パルスシーケンスの隣接パルス間にお
ける第1の一定時間を形成すると共に、前記プレス速度
がより高い第2速度値よりも高い際に隣接パルス間にお
ける第2の一定時間を形成することを特徴とする制御方
法。 - (18)請求項14乃至17のいずれかに記載の方法に
おいて、霧吹システムが線状列で配置され且つ重なった
噴霧パターンを形成する少なくとも4個の噴霧ノズルを
備え、さらに前記線状列の各端部における最外ノズルを
駆動させるための第2矩形パルスシーケンスを発生する
追加工程を有し、前記第2矩形パルスシーケンスは前記
第1矩形パルスシーケンスに連携すると共に、前記第1
矩形パルスシーケンスよりも高い使用サイクル(t_o
_n/t_t_o_t)を有し、且つ前記最外ノズルを
前記第2矩形パルスシーケンスに応答して駆動すること
を特徴とする制御方法。 - (19)運動表面の速度を検知すると共に、検知された
速度(414、420)に関連する信号を形成する手段
と、前記運動表面(16)上に重なった噴霧パターンを
形成するようう配置した線状列の噴霧ノズル(N1乃至
N8)を備える少なくとも1個の噴霧バーと、前記検知
手段に作用結合されて前記速度検知手段により形成され
た前記信号の数値に関連する使用サイクル(t_o_n
/t_t_o_t)を有する第1矩形パルスシーケンス
(402)を発生する手段(406)と、前記第1矩形
パルスシーケンス(434、TR1、TR3;436、
TR3、TR4;438、TR5、TR6)に応じて前
記ノズルを駆動させる手段とからなる運動表面(16)
に霧吹液を供給するための霧吹システムにおいて、前記
検知された速度が第1速度値よりも低い際に前記第1パ
ルスシーケンス(402)における各矩形パルスPが一
定の持続時間(t_o_n)を有し且つ隣接パルス(t
_o_f_f)間の時間が前記検知された速度信号に応
じて変化し、さらに前記検知された速度が前記第1速度
値よりも高い際に前記第1パルスシーケンス(P)にお
ける隣接パルス(t_o_f_f)間の時間が一定とな
り且つパルス(t_o_n)の持続時間が前記検知され
た速度信号に応じて変化することを特徴とする霧吹シス
テム。 - (20)請求項19記載のシステムにおいて、発生手段
が中央演算装置(408)を備え、この中央演算装置は
検知された速度信号に基づき記憶装置(410)に記憶
された記録を検索し、この記録は第1矩形パルスシーケ
ンス(402)のパルス幅(t_o_n)および隣接パ
ルス(t_o_f_f)間の時間の少なくとも一方を制
御するための情報を含み、前記中央演算装置(408)
は前記検索された記録に応答して作動することにより、
前記第1矩形パルスシーケンス(402)を発生するこ
とを特徴とする霧吹システム。 - (21)請求項20記載のシステムにおいて、記録が使
用サイクル値(t_o_n/t_t_o_t)であり、
さらに検知された速度が第1速度値よりも低い際に第1
矩形パルスシーケンス(402)の隣接パルス(t_o
_f_f)間の時間が前記使用サイクル値および一定の
持続時間(t_o_n)から決定され、且つ前記検知速
度が第1速度値よりも高い際に前記第1矩形パルスシー
ケンス(402)における前記パルス(t_o_n)の
持続時間が前記使用サイクル値および隣接パルス(t_
o_f_f)間の一定の時間から決定されることを特徴
とする霧吹システム。 - (22)請求項19乃至21のいずれかに記載のシステ
ムにおいて、少なくとも1個の噴霧バーが少なくとも4
個の噴霧ノズルを備え、線状列の一端部における最外ノ
ズル(N1)を第1専用パワートランジスタ(TR1)
により作動させると共に前記線状列の他端部における最
外ノズル(N8)を第2専用パワートランジスタ(TR
6)により作動させ、さらに前記第1矩形パルスシーケ
ンスに連携し且つこの第1矩形パルスシーケンスよりも
高い使用サイクル(t_o_n/t_t_o_t)を有
する第2矩形パルスシーケンスを発生する手段と、前記
第1矩形パルスシーケンスに連携し且つ前記第1矩形パ
ルスシーケンスよりも高い使用サイクルを有する第3矩
形パルスシーケンスを発生する手段とを備え、前記第2
矩形パルスシーケンスは前記第1専用パワートランジス
タ(TR1)を作動させると共に、前記第3矩形パルス
シーケンスは前記第2専用パワートランジスタ(TR6
)を作動させることを特徴とする霧吹システム。
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