JPH0270029A - Ta又はNbの製造方法及びその製造装置 - Google Patents
Ta又はNbの製造方法及びその製造装置Info
- Publication number
- JPH0270029A JPH0270029A JP21829288A JP21829288A JPH0270029A JP H0270029 A JPH0270029 A JP H0270029A JP 21829288 A JP21829288 A JP 21829288A JP 21829288 A JP21829288 A JP 21829288A JP H0270029 A JPH0270029 A JP H0270029A
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- reducing
- mixed salt
- reduction
- vessel
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はTa又はNbの製造方法ならびに製造装置に関
するものである。
するものである。
o’し
従来、Ta又はNbの製造方法として、例えば、特公昭
58−35564号の方法が用いられている。
58−35564号の方法が用いられている。
この方法は、還元反応が終った後、そのまま容器ごと室
温まで冷却し、生成物を固化させてから、容器から直接
取出しを行っている。
温まで冷却し、生成物を固化させてから、容器から直接
取出しを行っている。
この際、理論当量よりも10〜20%過剰に加えている
NaもしくはKは未反応のまま残り、安全上取扱いの障
害となっている。このためアルコールによって安定な化
合物にしてから以後の洗浄作業にかかっている。
NaもしくはKは未反応のまま残り、安全上取扱いの障
害となっている。このためアルコールによって安定な化
合物にしてから以後の洗浄作業にかかっている。
上記のように従来法ではつぎのような欠点があった・
■ 還元反応後、容器ごと室温まで冷却するため冷却時
間が長く、装置稼動のロスとなる。
間が長く、装置稼動のロスとなる。
■アルコールで安定化する10〜20%のNaもしくは
Kはそのままロスとなり、アルコールおよびその作業が
必要である。
Kはそのままロスとなり、アルコールおよびその作業が
必要である。
■ 容器の底部に塊状で沈積した還元生成物は水への溶
解度が小さいため、塊りのままであると溶解に時間を要
す。
解度が小さいため、塊りのままであると溶解に時間を要
す。
発明が解決しようとする問題占
本発明は」1記の欠点を解決したもので、本発明の目的
は還元反応後溶融状態のまま生成物を系外に、洗浄処理
に適するように抜出し、また未反応NaもしくはKを再
刊用することにある。
は還元反応後溶融状態のまま生成物を系外に、洗浄処理
に適するように抜出し、また未反応NaもしくはKを再
刊用することにある。
問題点を解決するための手 び−作−川−に2TaF
7又はに2NbF7のNaもしくはKの還元においては
に−sa]、tの融点をドげるため、また反応熱低減剤
およびNa−に合金生成の防止剤として通常、NaCJ
を混合添加して用いられる。
7又はに2NbF7のNaもしくはKの還元においては
に−sa]、tの融点をドげるため、また反応熱低減剤
およびNa−に合金生成の防止剤として通常、NaCJ
を混合添加して用いられる。
以下例としてに、TaF7をNaで還元する方法および
装置について述べるが、K2TaF7の場合も同様の丁
−段をとることができる。
装置について述べるが、K2TaF7の場合も同様の丁
−段をとることができる。
まず、K2TaF7どNaCJを混合して還元容器に装
入し空気を排気した後不活性ガス、例えばAr&人気圧
よりもやや高めに導入し、加熱炉によって加熱する。
入し空気を排気した後不活性ガス、例えばAr&人気圧
よりもやや高めに導入し、加熱炉によって加熱する。
K2TaF、−NaCJは約600℃で溶解するが、7
00’Cまて」−げて完全に溶解する。
00’Cまて」−げて完全に溶解する。
還元容器上部にはNa溶融炉があって、Na液体となっ
ているので少量ずっに2TaF、、−NaCJに滴下す
る。
ているので少量ずっに2TaF、、−NaCJに滴下す
る。
K、1’aF7は次式のようにNaにより還元される。
K2TaF 、 +5Na −+ Ta +2KF −
1−5NaFこの反応は生成熱が多大で、Naを一度に
滴下した場合は約200℃も急激に反応温度が上昇する
こともあり、この温度変化が生成する1a粉の粒径に影
響を与える。
1−5NaFこの反応は生成熱が多大で、Naを一度に
滴下した場合は約200℃も急激に反応温度が上昇する
こともあり、この温度変化が生成する1a粉の粒径に影
響を与える。
したがって粒径をある程度揃えるためには、Naの滴下
速度のコントロール即ち反応温度の制御が必要である。
速度のコントロール即ち反応温度の制御が必要である。
Naa下終了のあとはpost l+eat、i Bと
して800−900°Cに保持してTa粉の粒成長を行
う。
して800−900°Cに保持してTa粉の粒成長を行
う。
従来はこの後、室温まで還元容器に生成物を入れたまま
長時間かかって冷却していたが、本発明ではpost
heatingの後容器底部から還元生成物を溶融状で
抜き出す。
長時間かかって冷却していたが、本発明ではpost
heatingの後容器底部から還元生成物を溶融状で
抜き出す。
還元生成物は以後の洗浄処理が行いやすいように、例え
ばバラ1−に薄く板状にひろげて凝固させたり、ロス1
−ルで粒状に急速に冷却凝固することもできる。
ばバラ1−に薄く板状にひろげて凝固させたり、ロス1
−ルで粒状に急速に冷却凝固することもできる。
従来法は、この混合塩が塊で容器の底部に沈積していた
ため粉砕することができず、長時間ががって湯水で溶解
洗浄して処理していた。
ため粉砕することができず、長時間ががって湯水で溶解
洗浄して処理していた。
一方、未反応Na (通常10〜20%理論当量よりも
多く使用する)は、」1記のpost heating
のとき、還元容器上部に設けた〜aコンテンサーにトラ
ップさせ次の還元のときに2TaF、 −NaC1に再
添加して再利用する。
多く使用する)は、」1記のpost heating
のとき、還元容器上部に設けた〜aコンテンサーにトラ
ップさせ次の還元のときに2TaF、 −NaC1に再
添加して再利用する。
このため、従来は還元冷却後の取出し前に未反応Naの
発火燃焼を防ぐため、必ずアルコールを大量に使ってま
ず安定化を行っていたが、本発明法では溶体で抜出す混
合塩がNaを含まないためアルコールは不用である。
発火燃焼を防ぐため、必ずアルコールを大量に使ってま
ず安定化を行っていたが、本発明法では溶体で抜出す混
合塩がNaを含まないためアルコールは不用である。
一火」1(−
第1図に示す装置によって実施例としてに2TaF’、
。
。
のNa還元につき、その方法と装置を述べる。
装置は■の還元容器(SUS系)、■電気炉、■原料供
粕ホッパー、■Na7@融炉、■撹拌機、■抜出しバル
ブ<SUS系)、■生成物受器、■排気およびAr導入
パイプより構成されている。
粕ホッパー、■Na7@融炉、■撹拌機、■抜出しバル
ブ<SUS系)、■生成物受器、■排気およびAr導入
パイプより構成されている。
まず]、 5 、0 kgのに2TaF7(試薬1級数
)と6 、0 kgのNaCJ、(同じく1級数)を乾
燥して■のホッパーに入れフィーダーを介して■の還元
容器に供給する。
)と6 、0 kgのNaCJ、(同じく1級数)を乾
燥して■のホッパーに入れフィーダーを介して■の還元
容器に供給する。
直ちに■より排気し0.ITorrのときArを1..
05kg/dまで導入する。この還元容器は事前に気密
テスI・を行いリークのないことを確認しておく。
05kg/dまで導入する。この還元容器は事前に気密
テスI・を行いリークのないことを確認しておく。
ついで■の加熱炉に通電して昇温するか、[相]の温度
計により途中約200℃のとき再び■より排気して脱ガ
スを排除しArを導入する。K2TaF7−NaCJは
約600 ’Cで溶は始めたならば■の撹拌機をまわし
、さらに700℃に昇温する。
計により途中約200℃のとき再び■より排気して脱ガ
スを排除しArを導入する。K2TaF7−NaCJは
約600 ’Cで溶は始めたならば■の撹拌機をまわし
、さらに700℃に昇温する。
K2TaF7−NaCJの溶解と平行して■のNa溶融
炉にも5.0kg のNaを挿入しArに置換する。
炉にも5.0kg のNaを挿入しArに置換する。
Naは水分と激しく反応するのでNaf4融炉内は十府
に乾燥し、かつ気密を確かめておく。
に乾燥し、かつ気密を確かめておく。
Naは融点が98℃と低いので約120℃にてとかしマ
ントルヒーターで加熱保温しておく。
ントルヒーターで加熱保温しておく。
K、TaF、−NaC]が700’Cに達したならば、
液体Naを■バルブを開いて除々に滴下する。
液体Naを■バルブを開いて除々に滴下する。
滴下によって[相]温度計指示が700〜730’Cよ
り越えないよう調節する。通常1.5Hr(56g/m
1n)かかる。
り越えないよう調節する。通常1.5Hr(56g/m
1n)かかる。
Na滴下が終了したならば900°Cに昇温しで311
r保持する。
r保持する。
反応中もそうであるが、容器内圧力が1.02kg/d
より低くなるときはArを導入し、決して負圧にならな
いように気をつける。この900°Cpost hea
ting中コンデンサー(空冷式蛇管)を冷して約0.
5聴の未反応Naを捕集する。容器内はNa蒸気が圧倒
的に多く、Naは沸点が882℃と、融点との差が大き
く、凝縮は容易である。
より低くなるときはArを導入し、決して負圧にならな
いように気をつける。この900°Cpost hea
ting中コンデンサー(空冷式蛇管)を冷して約0.
5聴の未反応Naを捕集する。容器内はNa蒸気が圧倒
的に多く、Naは沸点が882℃と、融点との差が大き
く、凝縮は容易である。
液体Naはコンデンサーの下部トレーにたまるまで次回
の還元のさいは、プラグを抜いて下に落してやる。した
がって、次回からNaは理論当量の10〜20%過剰は
必要でなくなる。
の還元のさいは、プラグを抜いて下に落してやる。した
がって、次回からNaは理論当量の10〜20%過剰は
必要でなくなる。
つぎに■抜出しバルブを開いてTa粉を含んだ溶体の混
合塩を■生成物受器に抜き出す。
合塩を■生成物受器に抜き出す。
この要領は抜出しバルブの、還元中は閉っているニード
ルを10〜15+nm開くだけでよいが、混合塩が固ま
らないようバルブの周囲を約800”Cに加熱しておく
必要がある。
ルを10〜15+nm開くだけでよいが、混合塩が固ま
らないようバルブの周囲を約800”Cに加熱しておく
必要がある。
生成物は反応後から抜出しバルブのレベルまで降下し、
生成物の一部は底にたまる。
生成物の一部は底にたまる。
抜出された混合塩(25,5kg)は受器(バット)で
厚さ10nwn以下にひろがって直ちに凝固する。
厚さ10nwn以下にひろがって直ちに凝固する。
この混合塩はうすいので簡単にくだきやすく以後の処理
が容易であり、未反応Naがないのでアルコールを使わ
なくとも発火することはない。
が容易であり、未反応Naがないのでアルコールを使わ
なくとも発火することはない。
つぎにTa粉を混合塩は湯水リーチングによって、Na
C1、NaFおよびKFを溶解除去して粗製Ta粉を得
た。
C1、NaFおよびKFを溶解除去して粗製Ta粉を得
た。
つづいてHCI、HN O3の希釈酸で洗浄して重金属
類の不純物を除去し、水洗後真空乾燥により6.7眩の
Ta粉を得た。
類の不純物を除去し、水洗後真空乾燥により6.7眩の
Ta粉を得た。
これより平均粒子径(F、S、S、S)と酸素量を測定
した。
した。
以上の実施例は一回のBatchを述べたものであるが
、混合塩抜出し後、直ちに原料をホッパーより装入して
同様の還元を繰り返し行うことが出来る半連続化が可能
である。
、混合塩抜出し後、直ちに原料をホッパーより装入して
同様の還元を繰り返し行うことが出来る半連続化が可能
である。
表1に従来法と本発明法の実施結果を示す。
表1 従来法と本発明法の実施結果
=8
ヱ1唾例突j〔
以」二、説明したようにに2TaF7又はに2NbF7
のNaもしくはKによる還元において反応後の混合塩を
溶融状で系外へ抜き出して凝固させる方法により、つぎ
の利点がある。
のNaもしくはKによる還元において反応後の混合塩を
溶融状で系外へ抜き出して凝固させる方法により、つぎ
の利点がある。
(1)従来のバッチ式還元が半連続式に繰返し還元が出
来るため装置の生産性が著しく向上する。
来るため装置の生産性が著しく向上する。
(2)未反応のNaもしくはKの再利用が出来、従来の
アルコールが不用となる。
アルコールが不用となる。
(3)反応生成物を還元容器外の凝固装置に取出すため
、混合塩の洗浄処理が容易に行い得る。
、混合塩の洗浄処理が容易に行い得る。
(4) Ta又はNbの回収率が上昇する。
■ 還元容器
■電気炉
■ 原料供給ホッパー
■ Na溶融炉
撹拌機
抜き出しバルブ
生成物受器
排気およびAr導入パイ
プ
Naバルブ
温度計
Naコンテンサー
Claims (3)
- (1)K_2TaF_7又はK_2NbF_7をNaも
しくはKで還元してTa又はNbを回収する方法におい
て、NaもしくはKが単体として還元容器内に残留する
ように還元容器内を非酸化性雰囲気としつつ、反応後の
混合塩を系外へ取り出し、NaもしくはKを同一炉内の
上部に回収し、再び還元剤として使用することを特徴と
するTa又はNbの製造方法。 - (2)Ta又はNbの製造に用いる還元装置と該装置か
ら反応後の溶体を取出しかつ密閉自在な装置とその装置
の下流に密閉状態の凝固装置を有することを特徴とする
Ta又はNbの製造装置。 - (3)上記製造装置において反応後の未反応のNaもし
くはKを還元容器内に設けたコンデンサーに一時的に捕
集して随時に下方に流下させることを特徴とするTa又
はNbの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21829288A JPH0270029A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Ta又はNbの製造方法及びその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21829288A JPH0270029A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Ta又はNbの製造方法及びその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0270029A true JPH0270029A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16717550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21829288A Pending JPH0270029A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Ta又はNbの製造方法及びその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0270029A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007084931A (ja) * | 1998-11-25 | 2007-04-05 | Cabot Corp | 高純度タンタルおよびそれを含む、スパッタターゲットのような製品 |
| JP2010168606A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 粒子の製造方法及び反応装置 |
| US8092214B2 (en) * | 2007-03-24 | 2012-01-10 | Durferrit Gmbh | Method for continuous mixing and melting inorganic salts and furnace installation for realizing the method |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS493603U (ja) * | 1972-04-12 | 1974-01-12 | ||
| JPS58217647A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-12-17 | ウエスチングハウス エレクトリック コ−ポレ−ション | 還元蒸留炉 |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP21829288A patent/JPH0270029A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS493603U (ja) * | 1972-04-12 | 1974-01-12 | ||
| JPS58217647A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-12-17 | ウエスチングハウス エレクトリック コ−ポレ−ション | 還元蒸留炉 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007084931A (ja) * | 1998-11-25 | 2007-04-05 | Cabot Corp | 高純度タンタルおよびそれを含む、スパッタターゲットのような製品 |
| US8092214B2 (en) * | 2007-03-24 | 2012-01-10 | Durferrit Gmbh | Method for continuous mixing and melting inorganic salts and furnace installation for realizing the method |
| JP2010168606A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 粒子の製造方法及び反応装置 |
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