JPH027238A - 光情報記録再生装置 - Google Patents

光情報記録再生装置

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JPH027238A
JPH027238A JP63156371A JP15637188A JPH027238A JP H027238 A JPH027238 A JP H027238A JP 63156371 A JP63156371 A JP 63156371A JP 15637188 A JP15637188 A JP 15637188A JP H027238 A JPH027238 A JP H027238A
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    • G11B7/123Integrated head arrangements, e.g. with source and detectors mounted on the same substrate
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光情報記録再生装置に関する。
[従来の技術] 光情報記録再生装置、即ち所謂光ピツクアップの一形態
として、導波素子を用いたものが提案されている。導波
素子を用いると光情報記録再生装置を小型軽量化できる
ので近来この型の光情報記録再生装置の実用化が意図さ
れている。
[発明が解決しようとする課題] このような導波素子を用いた光情報記録再生装置の実用
化を困難にしている問題として導波光学系の問題がある
即ち、導波光学系は光記録媒体からの反射光が光結合手
段により導波層へ結合されたのち、この導波光を光検出
系へ導くための光学系であるが、従来、論文誌:応用物
理 第48巻 第3号 第241頁以下に示されている
、モードインデックスレンズ、ルネブルクレンズ、ジオ
デシックレンズ、グレーティングレンズ等の使用が意図
されている。
これらのレンズの内、モードインデックスレンズ、ルネ
ブルクレンズは、その作製過程で必要とされる屈折率制
御に極めて高精度を要求されるが、高精度の屈折率制御
は現在の技術では難しく、量産性の面からして現段階で
は実用化が困難である。
また、ジオデシックレンズは導波路に窪みをつけて導波
路レンズとするものであり窪み形状が非球面であるとこ
ろから、その加工が難しく製作工程として、精密切削と
これに続く研磨工程を必要とするところから矢張り量産
が難しく、コストの低減化も困難である。
グレーティングレンズは作製は比較的容易であり低コス
トで実現可能であるが、そのレンズ作用が光波長に依存
しており光波長が変化すると焦点距離が変化してしまう
。然るに光情報記録再生装置の光源として普通に用いら
れる半導体レーザーには、周知の如く温度変化による波
長シフトの性質があり、従って、グレーティングレンズ
を用いる場合には、半導体レーザーに対して極めて高精
度の温度制御を行うか、あるいは波長シフトのないDF
B半導体レーザーを使用する必要があり、これが装置の
大型化や高コスト化を招来してしまうと言う問題がある
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって
、その目的とするところは低コストで容易に実現でき、
しかも普通の半導体レーザーを光源として用い得る新規
な光情報記録再生装置の提供にある。
[課題を解決するための手段] 以下、本発明を説明する。
本発明の光情報記録再生装置は、光記録媒体に対して光
情報の記録・再生を行う装置であって、光源と、この光
源からの光を光記録媒体上へ集光させる集光光学系と、
導波素子とを有する。
上記導波素子は、導波層と、光記録媒体からの反射光を
上記導波層に結合させるための光結合手段の少なくとも
一部と、光結合手段により導波層に結合した導波光を検
出する光検出系と、上記導波層を導波される導波光を光
検出系へ導く導波光学系とを有する。
そして、上記導波光学系は導波層の端面として形成され
た導波路反射光学系である。
即ち、光源からの光は集光光学系により光記録媒体上に
集光され、光記録媒体により反射されると、光結合手段
により導波素子の導波層に結合される。導波層に結合さ
れた光は導波光として導波され、導波光学系により光検
出系へ導かれる。
[作  用] 導波光学系は本発明に於いては、上述の如く導波層の端
面として形成された導波路反射光学系であり、導波層を
導波される導波光はこの導波路反射光学系により反射さ
れて光検出系へ導かれる。
このように、導波光は屈折によらず反射により光検出系
に導かれるので、光波長が変化しても導波路反射光学系
の機能は何ら変化しない。また、導波路反射光学系は導
波層の端面として形成されるので、その作製も容易であ
る。
[実施例コ 以下、図面を参照しながら具体的な実施例に即して説明
する。
第1図に示す実施例1に於いて、符号1は光源としての
半導体レーザ7、符号2はコリメートレンズ、符号3は
対物レンズ、符号4は光記録媒体としての光ディスク、
符号5は導波素子、符号6は174波長板を示している
導波素子5は、透明基板51」二に導波層52が積層さ
れ、その上に更に直線状格子からなるグレーティングカ
ップラー53、光検出系54が設けられている。
半導体レーザー1からの光はコリメートレンズ2により
平行光束とされ、導波素子5.174波長板6を透過し
て対物レンズ3に入射し、対物レンズ3の作用にて光デ
イスク4上に集光される。従ってこの実施例ではコリメ
ートレンズ2と対物レンズ3とが集光光学系を構成して
いる。
光ディスク4による反射光は、対物レンズ3と174波
長板6とを透過後、グレーティングカップラー53によ
り回折され、導波層52中を導波され、後述する導波路
反射光学系により光検出系54に導かれる。
第2図は、導波素子5の平面図である。導波素子の透明
基板5](第1図)は、例えばカラス、石英等の平板で
あり、その一方の面に、透明基板51よりも高屈折率の
材料、例えばZnS、 ZnO,CeO□、 SiN、
 5iON、コーニング7095ガラス等を真空蒸着、
スパッタリング、CVD法などで製膜して導波層52を
形成されている。
光検出系54は、第2図に示すように、4つのフォトダ
イオード54A、 54B、 54C,54Dにより構
成され、各フォトダイオードはアモルファスSi等によ
り形成されている。フォトダイオード54A、 54B
は対を成して互いに近接し、フォトダイオド54C,5
4Dも対をなして互いに近接している。第2図で、符号
Eで示す位置は、フォトダイオード54A、 54Bの
近接部でこれらフォトダイオード54A、 54Bの中
間点である。また、符号Fで示す位置は、フォトダイオ
ード54C,54Dの近接部でこれらフォトダイオード
54C,54Dの中間点である。
さて、導波層51は第2図で、グレーティングカップラ
ー53の右側の部分が楔状に除去された状態となってお
り、この楔形状の端面のうちの符号52A、52Bで示
す部分が導波路反射光学系として放物線状に形成されて
いる。第2図のA−A断面図を第3図に示す。導波路反
射光学系52A、 52Bをなす導波層52の端面は、
透明基板51、導波層52の各表面に対して直交的であ
る。
このような垂直の端面は、成膜した導波層をイオンビー
ムエツチング、反応性イオンビームエツチング等のドラ
イエツチング法にてエツチングすることにより容易に形
成できる。
上述の如く導波路反射光学系52A、 52Bの形状は
平面図的に見ると放物線形状であるが、これら2つの放
物線のうち導波路反射光学系52Aをなす放物線の焦点
はE点であり、導波路反射光学系52Bの描く放物線の
焦点はF点である。
さて、光ディスク4からの反射光はグレーティングカッ
プラー53により回折されて導波層52に結合されるが
、半導体レーザー1からの光が光デイスク2上に正しく
合焦しているときは、導波層中を破線で示すように平面
波として導波し、導波路反射光学系52A、 52Bに
より全反射され、各反射光はそれぞれ集束光となってフ
ォトダイオード54A。
54B及びフォトダイオード54C,54Dの方へと導
波される。
トラッキングも正しく行われているときは、これら集束
光はそれぞれE点、F点に集束するがこの集光は無収差
で行われる。
フォトダイオード54A、 54B、 54C,54D
はそれぞれ受光量に応じた出力a、 b、 c、 ’d
を出力するが、合焦状態のとき(a十d)−(b+c)
がOとなる様になっており、この(a十d)−(b+c
)をフォーカス誤差信号として対物レンズ3に対するサ
ーボ制御を行う所謂フーコー法によりフォーカシング制
御を行うことができる。また、トラッキング制御は(a
+b)−(c+d)をトラック誤差信号とするプッシュ
プル方式で行われる。RF倍信号(a+b+c+cl)
として得られる。
なお、上に述べたように、導波光は導波路反射光学系5
2A、52Bで全反射されるが、このように全反射を行
わせるためには、導波光に対する導波層52の等側屈折
率をN1、空気の屈折率を1とするとき導波路反射光学
系への入射角θ1が至る所で、θ、≧s xn−’ (
17N 1) なる条件を満足するように反射面の形状を定めれば良い
ここで、第1図の実施例に於ける174波長板6の使用
に付き説明する。第1図の実施例に於いて174波長板
6は光ディスク4からの反射光の導波層52への結合の
効率を高めるために用いられている。即ち、周知の如く
ある程度ピッチの細かいグレーティングはP偏光に対し
ては回折効率が低く、S偏光に対しては回折効率が高い
。第1図に於いて半導体レーザー1の射出光の偏波面を
図のX方向にしておく。するとコリメートレンズ2を介
してグレーティングカップラー53に入射するときは同
カップラー53の回折効率が低いので、光は殆どグレー
ティングカップラー53を透過する。逆に、光ディスク
4からの反射光がグレーティングカップラー53に入射
するときは、光は174波長板6 を往復透過している
ためS偏光と成っておリグレーティングカップラー53
の高い回折効率により効率良く導波層52に結合される
従って、第1図の実施例に於いて、光結合手段はグレー
ティングカップラー53と174波長板6とにより構成
されており、導波素子5には、光結合手段の一部として
のグレーティングカップラー53が形成されていること
になる。しかし、上述の如く、174波長板6は光の利
用効率を高めるためのものであるので光結合手段の構成
要素として必要不可欠のものと言う訳のものではなく、
場合により、これを省略して良いことは言うまでもない
換Eすれば、グレーティングカップラーはそれ自体で光
結合手段を構成し得る。
第1図の実施例では、導波路反射光学系を構成する導波
層の端面は、第3図に示す様に、透明基板51、導波層
52の各表面に対して垂直に切り立った形状であったが
、導波路反射光学系を構成する導波層端面は、第4図に
切断端面図として示す様にテーパーを持っていても良い
この場合テーパー幅△は少なくとも導波光の波長以上で
あることが望ましい。このようなテーパーを持つ導波層
端面を形成する方法としては、ウェットエツチング、あ
るいはイオンビーム等を斜めに照射してドライエツチン
グする方法、あるいは導波層成膜時に透明基板に対して
若干間隙を持った開口を有するマスクを介して製膜する
方法等を挙げることができる。テーパーを持つ導波層端
面を導波路反射光学系として用いる場合、前述の如く全
反射を利用するには、基板の等側屈折率をN2として、
入射角0.が至るとろで、θ、≧sin”” (N2/
Nl) を満足するようにすれば良い。
ざらに、第5図に示すように、導波路反射光学系を形成
するために導波層52を取り除いた部分に、低屈折率層
59を装荷しても良い。低屈折率層59は導波層52よ
りも低屈折率であり、例えばSiOや樹脂等が用いられ
導波路反射光学系の保護の機能も果たす。この低屈折率
層59の等側屈折率N3とするとN、≦N3のときは入
射角O1が至るところでθ、≧5in−’ (N3/N
l) を満足するように、またN 2 > N 3のときはθ
、≧5in−’(N2/N+) を満足するようにすれば全反射を実現できる。
勿論、低屈折率層の装荷は、第3図の如きテーパーのな
い、透明基板に対し垂直に切り立った端面に対して行っ
ても良く、この場合の全反射の条件は、 0、≧si、n−’ (N3/Nl) である。
第6図には、実施例2を示す。なお、繁雑を避けるため
混同の恐れがないと思われるものに付いては、第1図以
下、全図面を通じて同一の符号を付する。
実施例2では、第2図に示す様に、半導体レーザー1か
らの光は、発散しっつ導波素子5Aを透過し、集光光学
系としての対物レンズ3により光デイスク4上に集光す
る。光ディスク4がらの反射光は対物レンズ3により集
束光束となってグレーティングカップラー53に入射し
、回折により導波層52に結合され、同層中を第7図に
平面図として示す様に、集束光束(破線にて示す)とな
って導波される。導波路反射光学系52C,52Dは、
第7図に示すように、導波層52を楔状に除去すること
により形成された、直線状の導波層端面である。これら
端面部の形状は、第3図の例の様に透明基板51に対し
て垂直に切り立ったものでも良いし、第4図に示す例の
ようにテーパーを持っていても良く、またテーパーの有
る無しに拘らず、第5図のように低屈折率層を装荷され
ることができる。
この実施例2の場合は、導波層52に結合され導波され
る光が、当初から集束性であるので導波路反射光学系5
2C,52Dは、単に光束の方向を光検出系の方へ偏向
させるのみで良い。勿論、導波路反射光学系52C,5
2Dの形状を曲線形状として、光検出系に向かう光束の
集束状態を変更しても良く、例えば上記光束をより集束
性にすれば導波路反射光学系と光検出系との距離を短縮
できるので、導波素子5Aをひいては光情報記録再生装
置を小型化できる。
第8図に示す実施例3では、全体の構成は実施例1と同
様であるが、導波素子5Bの構成に特徴がある。即ち、
この実施例3に於いて導波素子5Bは、81等の半導体
基板51Aを用い、その上にSiO□等による透明なバ
ッファ層51Bを設け、その上に導波層52が形成され
、グレーティングカップラー53は更にその上に設けら
れている。そして、光検出系540は、実施例1.2と
同じく4つのフォトダイオードで構成されるが、この例
で各フォトダイオードは、バッファ層51Bを一部エッ
チングによ り除去し、この部分で剥き出しになった半
導体基板51Aに不純物を拡散させ、もしくは打ち込ん
で形成されている。半導体基板51.Aは半導体レーザ
ー1からの光を通過させる部分が取り除かれて開口部と
なっている。この開口部形成はアルカリエツチング等の
ウェットエツチングや前述のドライエツチングで行えば
良い。
導波路反射光学系の形状は、前述した実施例1の放物線
形状を採用でき、また導波路反射光学系をなす導波層端
面の状態も第3図、第4図、第5図の何れかの状態とす
ることができ2る。
第9図に示す実施例4に於いて、符号1,2゜3.6は
、実施例1におけると同じく、半導体レーザー、コリメ
ートレンズ、対物レンズ、174波長板を示している。
この実施例4の特徴は、導波素子5Cが反射型である点
にある。即ち、導波素子5Cはその構造が実施例3に示
したものと同様の構成となっている。但し、導波素子5
Cでは、半導体基板51Aは何処も取り除かれていない
半導体レーザー1は、その偏波面がY方向となるように
設定される。半導体レーザー1から放射された光りは、
コリメートレンズ2により平行光束化され、グレーティ
ングカップラー53を略完全に透過し、導波層52、バ
ッファ層51Bを介して半導体基板51Aに入射し、こ
の基板51Aにより反射され、光ディスク4へ向かう。
光ディスク4からの反射光は、174波長板6により偏
波面を図面に直交する方向へ変換され、グレーティング
カップラー53により導波層52に結合され、導波路反
射光学系により反射されて光検出系54に検出される。
導波路反射光学系の形状は、前述した実施例1の放物線
形状を採用でき、また導波路反射光学系をなす導波層端
面の状態も第3図、第4図、第5図の何れかの状態とす
ることができる。
第10図に示す実施例5に於いて、導波素子5Dは半導
体基板51A1バッファ層51B、導波層52、光検出
系5401金属クラッド層510及びプリズム7により
構成されている。
プリズム7と導波層52との間の部分では金属クラッド
層510は除去されてギャップ層511となっており、
このギャップ層511は空気もしくは接着剤等で充たさ
れている。半導体レーザー1は、その放射光の偏波面が
Y方向となるように配設され、放射光はコリメートレン
ズ2により平行光束化されてプリズム7に入射し、ギャ
ップ層511との境界で全反射し、ギャップ層511に
沁みだしたエバネセント波によって導波層52中に導波
光が励起しないようにする。即ち、Y方向の偏波面では
カップリングしないようになっている。全反射された光
は、1/4波長板6、対物レンズ3を介して光ディスク
4へ入射する。光ディスク4からの反射光は174波長
板6により偏波面を90度旋回されプリズム7に入射し
、ギャップ層511の境界で反射される。このときギャ
ップ層511へ沁みだしたエバネセント波は効率よく導
波層52へ結合され、TEモードの波として導波される
このようにするためには、導波層52のTEモード及び
冗モードの等側屈折率NTE、 NTMをN’rゎ≠N
TMどなるように導波層52の層厚、屈折率を設定し、
且つ第10図の光学配置に於いて、プリズム7とギャッ
プ層511の境界への入射光がP偏光ではカップリング
せず、S偏光がTEモードにカップリングするようにす
る。このためにはプリズム7の屈折率をNp、プリズム
、ギャップ層の境界部への入射角をθpとすると、 Np−5in e +):NTE NTEf:NTM の条件が必要である。
この実施例では半導体レーザー1からの光は、ギャップ
層とプリズムの境界部で100%反射され、また、光デ
ィスク4からの反射光は、高効率で導波層52に結合さ
れる。従って非常に効率の良い光情報記録再生装置とす
ることができる。
なお金属クラッド層は、光ディスクからの反射光がプリ
ズムカップリングにより導波光となったのち、再びギャ
ップ層を介してプリズム部に戻る所謂デカップリングを
防止するためにプリズムと導波層との間に設けておくの
である。
導波路反射光学系の形状は、前述した実施例1の放物線
形状を採用でき、また導波路反射光学系をなす導波層端
面の状態も第3図、第4図、第5図の何れかの状態とす
ることができる。
第11図、第12図には、実施例6の特徴部分のみを示
す。これまで説明した実施例では、導波路反射光学系の
形状は、放物線あるいは直線状であって、導波光を全反
射させる形状に形成されていた。
この実施例6では、全反射ではなく通常の反射を利用す
る。即ち、第11図に示すように、この実施例6では導
波素子5Eは、その導波路反射光学系52E、 52F
が導波層52の端面として形成されているが、導波光を
集束性の光束として光検出系54へ向けて反射する。導
波路反射光学系52EはE点を、 また導波路反射光学
系52FはF点を焦点とする放物線形状もしくはこれを
近似する円形状である。この導波路反射光学系52E、
 52Fをなす導波層52の端面は、第12図に示す様
に、透明基板51に対して垂直に切り立っている。この
ような端面ば前述したようにドライエツチングで形成で
きる。この実施例6では、導波路反射光学系への入射条
件が全反射の条件を充たさないので反射面としての導波
層52の端面に接して、第12図に示す様に高反射率の
金属、例えばAl、 Ag、 Au、 Cu等の高反射
率層590を形成している。この金属層の形成は蒸着等
で行なうことができる。また、高反射率層590は、金
属の他、誘電体多層膜、その他の高反射率を有する材料
を用いても良い。
[発明の効果コ 以上、本発明によれば新規な光情報記録再生装置を提供
できる。この装置は上述の如く、導波層に結合された導
波光を導波路反射光学系により反射させて光検出系へと
導くので、光源からの光に波長変化があってもその影響
を受けない。また導波路反射光学系は、導波層の端面、
として形成されるが、この端面の形成は容易であり、且
つその形状もリソグラフィ等の手法で、容易に正確な形
状を実現できるので高度の光学特性を期待できる。
従って、従来の導波素子型の光情報記録再生装置に於い
て問題となっていた、量産性の問題、波長変化に対する
問題が解決され、導波素子型の光情報記録再生装置の実
用化が容易になる。
なお、第5図の構成例に於いて、導波層52の導波路反
射光学系をなす端面には低屈折率層59が接合しており
、導波路反射光学系をなす部分への入射条件が全反射の
条件を満足しないときは、導波光の一部は低屈折率層5
91こも導波される。従ってかかる場合には低屈折率[
59も導波層と呼びうるものであるが、この場合導波路
反射光学系をなす導波層端面とは、あくまでも導波層5
2の端面であり、この端面ば第5図の構成では低屈折率
層59との接合面をなす導波、l152の端面を意味し
、低屈折率層をも導波層と考えるならば導波層の不連続
面とも称すべきものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の1実施例を説明するための図、第2
図は、第1図の実施例の導波素子の平面図、第3図は、
第1図の実施例の導波素子の断端面図、第4図及び第5
図は、導波素子の変形例を説明するための図、第6図及
び第7図は、本発明の別実施例を説明するための図4第
8図は、他の実施例を説明するための図、第9図は1.
さらに他の実施例を説明するための図、第10図は、さ
らに他の実施例を説明するための図、第11図及び第1
2図は、さらに他の実施例を説明するための図である。 111.光源としての半導体レーザー、201.コリメ
ートレンズ、300.対物レンズ、400.光記録媒体
としての光ディスク、516.導波素子、6.、.1/
4波長板、52.、、導波層、53.、、グレーテイン
グカツプラる/ 【 惠2囲 睨 閃 形7閃 、りZ ちび ち4 良 ち5 幕ヂ圀 形6 に

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 光源と、この光源からの光を光記録媒体上へ集光させる
    集光光学系と、導波素子とを有し、光記録媒体に対して
    、光情報の記録・再生を行う装置であつて、 上記導波素子は、導波層と、光記録媒体からの反射光を
    上記導波層に結合させるための光結合手段の少なくとも
    一部と、光結合手段により導波層に結合した導波光を検
    出する光検出系と、上記導波層中を導波される導波光を
    光検出系へ導く導波光学系とを有し、 上記導波光学系が導波層の端面として形成された導波路
    反射光学系であることを特徴とする、光情報記録再生装
    置。
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