JPH0274362U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案による真空装置をスパツタリン
グ装置に適用した一実施例を示す断面図、第２図
は第１図の投光部周辺を示す拡大断面図、第３図
は従来のスパツタリング装置の一例を示す断面図
である。 １……真空室、２……赤外線ランプ、３……タ
ーゲツト、４……基板、５……トレー、６，７…
…トレーガイド、８……カバー、９……投光部、
１０……受光部、１１……被検出部、１２……光
軸、１３……透光孔、１４……投光ケース、１５
……受光ケース、１６……ガラス、１７……導光
部材、１８……パツキン、１９……キヤツプ、２
０……オーリング、２１……投光窓、２２……光
フアイバーケーブル。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 真空室と、 真空室内の上下に対向して設けられ、トレーの
   端部を支持する一対のトレー支持部と、 一対のトレー支持部にトレーを支持した際に、
   トレーの端部及びトレー支持部を覆うカバーと、 一対のトレー支持部にトレーを支持した際に、
   その光軸上にトレーの被検出部が位置するように
   、対向配置された投光部及び受光部とを備え、 この投光部及び受光部が前記カバー内に配置さ
   れたことを特徴とする真空装置。