JPH0275339A - 媒質を紫外線により照射する為の装置 - Google Patents

媒質を紫外線により照射する為の装置

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JPH0275339A
JPH0275339A JP1190387A JP19038789A JPH0275339A JP H0275339 A JPH0275339 A JP H0275339A JP 1190387 A JP1190387 A JP 1190387A JP 19038789 A JP19038789 A JP 19038789A JP H0275339 A JPH0275339 A JP H0275339A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は紫外線源がいわゆるホ０ジテイブ照射形状の原
理に従って媒質が貫流するチューブ片の周りに冠状に、
軸心を互いに平行にした状態で配置されている９例えば
液体および／又はガスの紫外線ｃｉよる殺菌の為の、媒
質の紫外線照射の為の装置に関する。
（従来の技術） 上記原理の装置は独国特許２１１９９６１により公知で
ある。
コストを出来る限り抑えかつ効果を最高にするには照射
室の中の照射強度を最高に保つことが必要である。チュ
ーブ片を以って構成される照射室のあらゆる位置の照射
強度を高めるには殺菌すべき媒質を紫外線を透す石英管
内を貫流させかつチューブ片の外側を取り巻く如く多数
の軸心が互に平行になる如く設けられた紫外線源を設置
することが上記の独国特許２１１９９６１により公知で
ある。
各光源はこの場合チューブ片の中を流れる媒質の照射の
為に利用し得る照射エネルギーを出来る限り高める為に
リフレクタ−が設けられている。
紫外線源をチューブ片に対するこの様な配列は焦点を結
ばせることにより線源からの距離に比例して照射の強度
が増大することをその特徴とする。
この技術分野ではこの種の照射は“ポジティブ照射形態
°°の語で呼ばれている。
この公知の装置は実用上はその効果を実証されている。
しかし、チューブ片へのエネルギーの伝達効率は約５５
％に過ぎない点が短所である。紫外線源から放射される
光線の大部分はこの場合反射により光源に向いかつ吸収
により失われる。
（発明の目的） 発明の目的は紫外線源のエネルギー伝達を最適化しかつ
効率を高めることにより照射強度、即ち処理すべき媒質
中の照射密度を大巾に高めることにある。
この目的を発明は請求の範囲の第１項の記述文の中に於
て前提とされた装置に於て特徴の部分に記載の形態によ
り果すことが出来る。
発明によれば偏平灯を独国特許２１１９９６１←よる装
置に於て液体および／又はガスの照射の為に有利に用い
ることが出来る。
偏平灯は偏平楕円断面の故に各々２つの巾の狭い辺と２
つの巾の広い片を持つことにより優れた照射特性を備え
る： 巾の広い辺での照射量は最大値を持つのに対し狭い巾で
の照射は約３０％に過ぎない。
発明によれば１セツトの偏平灯は主軸が各、々チューブ
片の中心軸と同じ方向を持つような方法でチューブ片の
周りに軸平行の状態に設けられる。
これにより偏平灯の巾の広い片の最大量の照射はチュー
ブ片に圧切の方向を持つ。
特殊リフレクタ−を用いることによりこの直角方向の光
線のみならず又チューブ片とは反対の方向に流れる光線
も又チューブ片に注がれる。
偏平灯を上記の如く配置することによりチューブ片への
エネルギーの伝達効率は独国特許２１１９９６１による
円形灯の公知の用法に比較して大巾に高まる。
例えば、パラボラ状又は楕円状の、特殊形状のリフレク
ターを用いることにより光源に向って逆反射する紫外線
を事実上０％に減らすことが出来る。照射分布の方向性
および照射と反射との角度の関係を考慮することにより
発明による偏平灯およびリフレクタ−の配置を用いる場
合に全照射量の８０％〜９０％を処理すべき媒質内に注
ぐことが可能である。
偏平灯およびリフレクタ−を用いる発明による装置は直
接には媒質の貫流するチューブ体との接触により１間接
にはリフレクター脚により紫外線灯を正接冷却する手段
をも備えている。この為に紫外線灯はその巾の狭い片を
以って一方ではチューブ片に又他方ではリフレクター脚
に接している。
リフレクタ−はそれ自体もチューブ片との接触により熱
を奪い去る。
発明の有利な形態と望ましい形態の改善は従属請求範囲
および下記の説明文から知ることが出来る。
第１図から知ることの出来る。全体を１０の番号で示さ
れている本発明の装置には底面に垂直方向に延びかつそ
の中を殺菌処理されるべき液１４が貫流するチューブ片
１２が含まれる。チューブ片１２の壁体は石英から成り
従って紫外線を透過させる。
チューブ片１２の外部を取巻いて互に等間隔を距でて３
つの偏平灯１６が設けられている。各偏平灯１６は２つ
の巾の狭い辺１８と２つの巾の広い辺２０を持つ。更に
各偏平灯１６には各々が２つのリフレクター脚２６およ
び２８を持つリフレクタ−２４が備えられている。
互に軸が平行になる如く設けられた偏平灯１６は主軸２
２がチューブ片１２に対して放射方向に延びる方向に設
置されている。
巾の狭い辺１８はチューブ片１２に接しかつこれにより
生れる偏平灯１６とチューブ片１２との間の接触によっ
て接触冷却が行われる。
リフレクタ−脚２６．２８はその一方の端が同様にチュ
ーブ片１２に接触し、かつ他方の端が偏平灯１６の外側
の巾の狭い辺１８に接している。従ってリフレクタ−脚
２６および２８によっても接触冷却が可能となる。　　
　− 偏平灯１６の主照射方向は主軸２２に直角の方向を持ち
、即ち大部分が巾の広い辺２０からチューブ片１２に圧
切方向に放射される。リフレクタ−脚２６および２８を
用いることにより圧切方向の照射のみならず又チューブ
片１２とは反対の側に在る外側の巾の狭い辺からの照射
も又チューブ片１２の中に注がれる。
第１図のリフレクター脚２６．２８がほぼ楕円の曲線を
備えているのに対し第２図はリフレクター２４がパラボ
ラ曲線を為す実施形態を示す（図を判り易くする為に第
２図に於ては簡単に１つのリフレクター２４を持つ１つ
の偏平灯１６が示されているに過ぎない）偏平灯１６の
外側の巾の狭い片はこの場合リフレクタ−２４により囲
まれていない。
第３図による別の実施態様に於てはリフレクター脚２６
および２８は直線状を為す。第２図の場合と同様にリフ
レクタ−脚２６．２８により偏平灯１６の接触冷却が可
能である。
テストの結果は本発明による装置を用いた場合に独国特
許２１１９９６１による公知の装置の効率が最高５５％
であるのに対し効率が８０％以上に高められることの可
能なことを実証した。
第４図の発明の別の形態に於ては一列に間隔を距てた多
数の偏平灯３０が示されている。この場合には第１図〜
第３図による偏平灯とは異なり媒質の表面４２が紫外線
照射４０を受けることを主眼としている。
紫外線放射偏平灯３０の主軸３２は表面４２に対して直
角の方向を持つ。
巾の広い片３４および狭い辺３６を持つ各偏平灯には第
１図〜第３図と同様に各々１つのリフレクター４４が対
応している。機械的に補強する為に共通のホールグー３
８が設けられている。
リフレクタ−４４により偏平灯３０の巾の広い辺３４か
ら出る紫外線４０はそれが表面４２にほぼ直角に入射し
得る如く方向を変えて反射される働きが生れる。
示された実施形態は媒質の殺菌に限定されることはなく
様々な他の用途に用いられ、その−例として紫外線によ
り皮膚を焼く為の紫外線浴装置を挙げることが出来る。
（発明の要約） 紫外線による媒質照射の為の装置、液体および／又はガ
スを紫外線により照射する為の装置はその中を照射され
るべき媒質が貫流するチューブ片と少くとも２つの外側
に軸に平行の形で設けられた。各々がリフレクタ−を持
つ紫外線源とを有する。
紫外線源ではその巾の狭い辺をチューブ片に向けている
偏平灯が用いられる。
４　　゛　　の　　　なｉ′日 第１図はチューブ片の周りに設けられた各々が１つのリ
フレクターを備えた３つの偏平灯を持つ本発明の装置の
正面断面図、第２図は第１図と同じであるが異ったリフ
レクターを使用した別の実施例の装置の正面断面図、第
３図は第１図と同じであるがリフレクタ−脚が直線状を
なすリフレクターを使用したさらに別の実施例の装置の
正面断面図、第４図はさらに別の実施形態を示す説明図
である。
１０・・・本発明の装置、　１２・・・チューブ片、１
４・・・殺菌処理されるべき液、　１６・・・偏平灯、
２４・・・リフレクタ−〇 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、紫外線を通す材質を使用した、その中を媒質が貫流
    するチューブ片（１２）およびリフレクターを備えた外
    側に軸に平行に設けられた少くとも２つの紫外線源から
    成り、しかも紫外線源は巾の広い辺と狭い片（１８、２
    ０）を持つその長軸方向に長く、偏平楕円形の断面によ
    り従来の紫外線灯と区別することの出来る紫外線偏平灯
    （１６）をもって構成されることを特徴とする紫外線に
    より媒質を照射するための装置。 ２、紫外線源の主軸（２２）が各々チューブ片の断面の
    中心に向かっていることを特徴とする特許請求の範囲第
    １項に記載の装置。 ３、偏平灯（１６）はそのチューブ片（１２）に向い合
    う狭い辺（１８）を以ってチューブ片（１２）に接して
    いることを特徴とする特許請求の範囲第１又は２項に記
    載の装置。４、リフレクター（２４）が各々２つのリフ
    レクター脚（２６、２８）により形成されていることお
    よびリフレクター脚（２６、２８）はそのチューブ片（
    １２）とは反対の側で偏平灯（１６）に接していること
    を特徴とする特許請求の範囲第１から３項の何れかに記
    載の装置。 ５、リフレクター脚（２６、２８）がそのチューブ片（
    １２）に向き合う端でチューブ片（１２）に接している
    ことを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の装置。 ６、リフレクター（２４）がパラボラ状の形態を持つこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１〜５項の何れかに記
    載の装置。 ７、リフレクター（２４）が円錐断面の形態を持つこと
    を特徴とする特許請求の範囲第１〜５項の何れかに記載
    の装置。 ８、リフレクター（２４）が平面をなすことを特徴とす
    る特許請求の範囲第１〜５項の何れかに記載の装置。 ９、多数の一列に互いに接して設けられている紫外線源
    を持つ、紫外線により媒質又は表面を照射する為の、し
    かも紫外線源が巾の広い辺と狭い辺（３４；３６）を備
    えた長軸方向に長い偏平な断面を持つ紫外線偏平灯（３
    ０）により構成されていること、紫外線偏平灯（３０）
    の主軸（３２）が媒質の表面（４２）に直交しているこ
    と、および各紫外線源（３０）には紫外線（４０）を垂
    直に媒質の方向に向けるリフレクター（４４）が対応し
    ていることを特徴とする装置。
JP1190387A 1988-07-20 1989-07-20 媒質を紫外線により照射する為の装置 Pending JPH0275339A (ja)

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