JPH0278131A - 電子源 - Google Patents

電子源

Info

Publication number
JPH0278131A
JPH0278131A JP1173893A JP17389389A JPH0278131A JP H0278131 A JPH0278131 A JP H0278131A JP 1173893 A JP1173893 A JP 1173893A JP 17389389 A JP17389389 A JP 17389389A JP H0278131 A JPH0278131 A JP H0278131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
electron source
electron
source according
solid object
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1173893A
Other languages
English (en)
Inventor
Claude Weisbuch
クロード・バイスブツク
Bernard Epsztein
ベルナール・エプスタイン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thales SA
Original Assignee
Thomson CSF SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Thomson CSF SA filed Critical Thomson CSF SA
Publication of JPH0278131A publication Critical patent/JPH0278131A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J1/00Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J1/02Main electrodes
    • H01J1/30Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
    • H01J1/308Semiconductor cathodes, e.g. cathodes with PN junction layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J1/00Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J1/02Main electrodes
    • H01J1/30Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
    • H01J1/312Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode having an electric field perpendicular to the surface, e.g. tunnel-effect cathodes of metal-insulator-metal [MIM] type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J23/00Details of transit-time tubes of the types covered by group H01J25/00
    • H01J23/02Electrodes; Magnetic control means; Screens
    • H01J23/04Cathodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
  • Microwave Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野〕 本発明は、電子源の構造及び電子源が適用される、超高
周波及び超大パワーの電磁波を発生する管に係わる。
〔従来の技術〕
多くの分野において電子ビームを生成し得ることが必要
とされ、その際電子ビームのエネルギは、例えば電磁波
の発生といった二次的な現象を生起させるのに用いられ
る。電磁波発生に用いられるのは、通常例えばレーダの
ような電子制御システムの構成要素であるマイクロ波管
の場合である。
現在、上記のような管内で電子ビームを生成する電子源
は、特にジュール効果によって加熱される熱陰極から成
る。この技術は、所望密度の電子の相当容易な放出を可
能にするが、電子密度を変調しなければならない場合に
欠点を有する。なぜなら、電子密度を変調するのに、非
常に大まかに言えば可変電位が印加されるゲートから成
る良く知られた補助電極を上記陰極と共に用いることが
必要となるからである。このような電子源の性能は、走
行時間のために周波数が1MHzを越えると急激に制限
される。
上述の欠点に逃み、克服する方策が幾つか提案されてい
る。そのうちの1つは、光電効果を用いるレーザトロン
の使用である。所望周波数に変調された入射レーザパル
スが、良好な光電子放出特性を有する陰極からの光電子
放出による電子流を励起する。この方策には超高周波に
変調されたレーザと、非常に安定な光電子放出特性を有
する陰極とが必要である。この条件は上記のような電子
源の工業的利用を困難にし、なぜなら電子源が複雑かつ
高価となるからである。
別の1つの方策では半導体材料ベースの固体物体を用い
ることも提案されており、この固体物体は実質的に、ヒ
化ガリウムのような材料から成る2つの層によって構成
されており、その際2つの層は2種の異なるドーピング
を施されており、これらの眉間に電圧が印加される。2
層の一方が一定量の電子の放出を可能にし、放出された
電子は電圧によって形成された電場の作用を受ける。従
って電子は加速されて、電子数の大幅な増加を可能にす
る第2の層に当たる。十分なエネルギを獲得した電子は
固体物体から、特に第2の層によって放射され、その際
第2の層の取り出し機能は核層の外側面上に別の層、例
えばセシウムまたは酸化セシウムの層を付加することに
よって増強される。
この付加的な層は半導体の電子親和力を低下させる目的
で設けられ、即ちこの導電域に到達する電子は総て第2
の層から、従って固体物体から取り出されるのに十分な
エネルギを有し得る。
しかし、この方策は電子の継続的な取り出しかまたは低
周波に変調された取り出ししか可能にせず、特にマイク
ロ波管用の電子源の場合に変調された電磁波の形成を可
能にする連続的な電子゛′パケット′°を得るべく放射
される電子の量を迅速に変調することはなお不可能であ
る。
本発明は、上述の欠点を克服し、多くの分野で用いられ
得る単純な構造の電子源であって、大量使用のための工
業製品化を可能にするコストしか掛からないような電子
源を提供し、特に放出電子の量が非常に容易に変調され
得る電子放出体を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明は特に、固体物体を含む電子源の提供を目的とし
、その際固体物体は電場の作用下に電子を放出し得る第
1の半導体層と、放出された電子の少なくとも一部を部
分的に透過させる性質を固体物体の面の少なくとも1つ
に付与して電子の当該一部が固体物体から放射されるこ
とを可能にする手段とを有し、この固体物体は更に上記
第1の層と少なくとも部分的に電子透過性である面との
間に第1の層と接触した不安定な第2の複合半導体層を
有し、この第2の層は微分負性抵抗の構造を有し、電子
源には固体物体の第1の層及び第2の複合層を用いて電
気的共振空胴を構成する手段が設置されている。
本発明のその他の特徴及び利点は、純粋に説明のための
ものであって本発明の範囲を一切限定しない添付図面を
参照しての以下の説明から明らかとなろう。
〔実施例〕
第1図に示した電子源は固体物体1を含み、この固体物
体1は電場の作用下に電子を放出し得る第1の半導体層
2と、放出された電子の少なくとも一部を透過させる性
質を固体物体の少なくとも1つの面4に部分的に付与し
て当該電子部分の固体物体からの放射を可能にする手段
3とを有する。
固体物体1はまた、第1の層2と少なくとも部分的に電
子透過性である面4との間に層2と接触した第2の複合
半導体層5を有し、この層5は不安定で、微分負性抵抗
の構造を有する。ここに図示した電子源は、第1の層2
及び第2の複合層5を用いて電気的共振空胴を構成する
手段6も含む。
微分負性抵抗を有する不安定な第2の複合半導体層5は
例えば、ダイナミックモードにおいて超高周波電流発振
をもたらす微分抵抗を実現し得る、トンネル効果共振二
重障壁構造かまたはアバランシェ効果及び走行時間制御
を伴う構造を有する。
これらの構造は、例えばp“型半導体材料から成る二次
層を複数積み重ねることによって有利に実現される。図
示したように、二次層の数は5に等しいことが有利であ
り、即ち二次層11.12.13.14及び15が積み
重ねられる6その場合、5つの二次層のうち1番目の層
11.3番目の層13及び5番目の層15はヒ化ガリウ
ムで、2番目の層12及び4番目の層14はアルミノヒ
化ガリウムでそれぞれ形成される。
この実施例において、第1の層2は厚み約1,000〜
10,000人のし化ガリウムから成り、また5つの二
次層11〜15の厚みは各々50人のオーダである。
先に述べたように、電子源は第1の層2及び複合層5を
用いて電気的共振空胴を構成する手段6を有する。この
手段6は例えば2つの電極16.17を有し、電極16
は第1の層2の、複合層5と接触する面19とは反対の
側の面18上に配置されており、電極17は複合層5の
、例えば先に規定した3番目の二次層13に配置されて
いる。2つの電極16.17は、電源20と結合されて
電気的共振空胴を閉じ得る。−例として、2つの電極1
6と17との間に印加される電位は約1.5■である。
電極16.17は、例えば実質的に金、ニッケル、ゲル
マニウムまたはチタンをベースとするそれ自体公知の導
電材料のデポジットによって構成されており、これらの
デポジットに電源20と接続され得る導体21.22が
強固に結合されている。
後述する、第2図に示したような機械的共振空胴が上記
電気的共振空胴と組み合わせられ得る。
電子が高密度で有利に放射され得るように、固体物体1
には更に第3の半導体材料層30が第2の複合層5と接
触するように配置されており、電子源には、複合層5と
第3の層30との間に電場を印加し、第1の層2及び第
2の層5で放出された電子を用いてアバランシェ効果に
より電子の数を増加させる手段31が設置されている。
第3の層30は、例えばヒ化ガリウムであるn゛型半導
体の層である0図示した例では、アバランシェ効果の増
大を可能にする電場は、先に規定した3番目の二次層1
3に配置された電極17と第3の層30に配置された第
3の電極33との間に印加される電圧によってもたらさ
れ、その値は約3■である。
先に述べたように、固体物体1は、固体物体1中で放出
された電子を透過させる性質を部分的に付与された少な
くとも1つの面4を有する1面4の電子透過性は、第3
の層30の、第2の層5と接触する面とは実質的に反対
の側に位置する面上にデポジットされた、負の電子親和
力を有する材料から成る第4の層40によってもたらさ
れる。第4の層40は、例えば酸化セシウムのようなセ
シウムベースの材料から成る。
本発明による電子源を上述と同じ構成の固体物体が幾つ
か並列に取り付けられた形態に製造し、この電子源の適
用上の必要性に従って所与の値の電子放出面を得ること
が可能であるのはきわめて明白である。
ここまで説明した本発明の電子源は次のように機能する
先に規定した構成を有する固体物体1が電子放出電位を
、即ち実際のところ例えば1.5vである低い順電圧を
印加されると第1の層2中で電子が放出され、第2の層
5へ向けて加速される。層5は、不安定であるので、そ
れ自体公知であるトンネル効果により電子を放出する振
動性の電子放出源を構成する。電子は第2の複合層5の
出力に、構成される電気的共振空胴の共振周波数の値の
関数として変調された密度で達し、この密度は所定の変
更を印加えられ得る。
これら電子の連続する“パケット”は第2の層5の出力
面に到達すると第3の層30に当たり、先に述べたよう
に第3の層30の、第2の層5と共通の面とは反対の側
の面と第2の層5の1つの二次層13との間に印加され
た約3vの電圧がもたらすアバランシェ効果によって電
子の数は増加する。このように放出及び加速された電子
は固体物体1から′放射され得、放射は電子が、例えば
酸化セシウムがら成る第4の層40に到達するほど盛ん
となり、その際層40は半導体の電子親和力を低下させ
る機能を有し、この電子親和力はp型のヒ化ガリウムの
場合であっても負となる。即ち、この導電域に進入した
電子は総てこの層40から、従って固体物体1から取り
出されるのに十分なエネルギを有し得る。
即ち、放出される電子は任意の用途に用いられ得、特に
マイクロ波管の電子放出゛陰極パとして非常に有利に用
いられ得る。なぜなら、固体物体1の、先に規定した部
分的電子透過性を有する面によって該固体物体1から取
り出される電子パケットを同−周波数及び同一形態に変
調することが、特に印加電圧値の変調によって非常に容
易に実現されるからである。
第2図に、特に第1図との関連で規定し、説明したよう
な“陰極パ51が用いられたマイクロ波管50を概略的
に示す。
マイクロ波管50は真空外囲器52内に上述の電子源5
1を有し、電子源51の一部電子透過性である放出面5
7は外囲器52の内部53の方へ向けられており、また
電子源51の放出方向54は実質的にアンテナ陽極56
の装入口55への接線方向に一致し、陽極56には例え
ば10kVに等しい大電位が印加され、それによって、
加速して放出された電子パルスが例えばレーダまたは同
様設備のための給電回路で用いられているようなマイク
ロ波型電磁波に公知方法で変換されることが可能となる
第2図の例において、電子源51は機械的共振空胴58
も有し、この共振空胴58は結合手段59を具備し、特
に同軸ケーブルの端部61に設けられたループ60を具
備しており、このことはマイクロ波管50を外部のソー
スと同期化することを可能にする。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による電子源の一例を示す説明図、第2
図は本発明による電子源をマイクロ波管の電子放出陰極
として用いた例を示す説明図である。 1・・・・・・固体物体、2.5・・・・・・半導体層
。 mlt責A−)ムンンーセエスエフ 伐埋入弁理士 船  山   武

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)固体物体を含む電子源であって、前記固体物体は
    電場の作用下に電子を放出し得る第1の半導体層と、放
    出された電子の少なくとも一部を部分的に透過させる性
    質を固体物体の面の少なくとも1つに付与して電子の当
    該一部が固体物体から放射されることを可能にする手段
    とを有し、固体物体が前記第1の層と少なくとも部分的
    に電子透過性である面との間に第1の層と接触した不安
    定な第2の複合半導体層を更に有し、この第2の層は微
    分負性抵抗の構造を有し、第1の層及び複合層を用いて
    電気的共振空胴を構成する手段が設置されていることを
    特徴とする電子源。 (2)微分負性抵抗を有する不安定な第2の半導体層が
    トンネル効果共振二重障壁構造体並びにアバランシェ効
    果及び走行時間制御を伴う構造体の中から選択されるこ
    とを特徴とする請求項1に記載の電子源。 (3)構造体がp^+型半導体材料の二次層を複数積み
    重ねることによって形成されていることを特徴とする請
    求項2に記載の電子源。 (4)二次層の数が5であることを特徴とする請求項3
    に記載の電子源。 (5)5つの二次層のうち1番目、3番目及び5番目の
    層がヒ化ガリウムで、2番目及び4番目の層がアルミノ
    ヒ化ガリウムでそれぞれ形成されていることを特徴とす
    る請求項4に記載の電子源。 (6)固体物体中で放出された電子の少なくとも一部を
    透過させる性質を固体物体の少なくとも1つの面に部分
    的に付与して当該電子部分の固体物体からの放射を可能
    にする手段が電子透過性付与前に固体物体の前記面にデ
    ポジットされた、負の電子親和力を有する材料から成る
    第4の層によって構成されていることを特徴とする請求
    項5に記載の電子源。(7)負の電子親和力を有する材
    料の層がセシウムをベースとする材料で形成されている
    ことを特徴とする請求項6に記載の電子源。 (8)第1の層がn^+型半導体材料で形成されている
    ことを特徴とする請求項6に記載の電子源。 (9)n^+型半導体材料がヒ化ガリウムであることを
    特徴とする請求項8に記載の電子源。 (10)固体物体が第2の層と接触して配置された第3
    の半導体材料層を更に有し、第1及び第2の層から放出
    された電子の数をアバランシェ効果で増加させる電圧を
    第2の層と第3の層との間に印加する手段が設置されて
    いることを特徴とする請求項9に記載の電子源。 (11)第3の層がn^+型半導体層であることを特徴
    とする請求項10に記載の電子源。 (12)第3の層がヒ化ガリウムで形成されていること
    を特徴とする請求項11に記載の電子源。 (13)マイクロ波管用の電子放出陰極を構成すること
    を特徴とする請求項12に記載の電子源。 (14)並列に取り付けられた複数の固体物体を含むこ
    とを特徴とする請求項13に記載の電子源。
JP1173893A 1988-07-05 1989-07-05 電子源 Pending JPH0278131A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8809064A FR2634060B1 (fr) 1988-07-05 1988-07-05 Structure de source d'electrons et application aux tubes d'emission d'ondes electromagnetiques
FR8809064 1988-07-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0278131A true JPH0278131A (ja) 1990-03-19

Family

ID=9368070

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1173893A Pending JPH0278131A (ja) 1988-07-05 1989-07-05 電子源

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4999537A (ja)
EP (1) EP0351263B1 (ja)
JP (1) JPH0278131A (ja)
DE (1) DE68927762D1 (ja)
FR (1) FR2634060B1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4034487A1 (de) * 1990-10-30 1992-05-14 Fimml Hans Verbesserte tunnelkathode mit emissionserhoehung
JP3126158B2 (ja) * 1991-04-10 2001-01-22 日本放送協会 薄膜冷陰極
US5534824A (en) * 1993-03-26 1996-07-09 The Boeing Company Pulsed-current electron beam method and apparatus for use in generating and amplifying electromagnetic energy

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE549199A (ja) * 1955-09-01
US3056073A (en) * 1960-02-15 1962-09-25 California Inst Res Found Solid-state electron devices
DE1252818B (ja) * 1962-03-22 1900-01-01
US3334248A (en) * 1965-02-02 1967-08-01 Texas Instruments Inc Space charge barrier hot electron cathode
EP0257460B1 (en) * 1986-08-12 1996-04-24 Canon Kabushiki Kaisha Solid-state electron beam generator

Also Published As

Publication number Publication date
US4999537A (en) 1991-03-12
DE68927762D1 (de) 1997-03-27
EP0351263B1 (fr) 1997-02-12
FR2634060A1 (fr) 1990-01-12
FR2634060B1 (fr) 1996-02-09
EP0351263A1 (fr) 1990-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2863310B2 (ja) 仮想陰極を用いるマイクロ波発生装置
US2312723A (en) Electron discharge device
US5124664A (en) Field emission devices
US5150067A (en) Electromagnetic pulse generator using an electron beam produced with an electron multiplier
US5227701A (en) Gigatron microwave amplifier
US5164634A (en) Electron beam device generating microwave energy via a modulated virtual cathode
Kompfner Travelling-wave tubes
US2858472A (en) Slow-wave circuit for a traveling wave tube
US4038602A (en) Automodulated realtivistic electron beam microwave source
US5355093A (en) Compact microwave and millimeter wave amplifier
JPH0278131A (ja) 電子源
US3123735A (en) Broadband crossed-field amplifier with slow wave structure
RU2343584C1 (ru) Клистрон
US3760219A (en) Traveling wave device providing prebunched transverse-wave beam
US6633129B2 (en) Electron gun having multiple transmitting and emitting sections
US3274430A (en) Biased-gap klystron
US2922919A (en) High frequency electron discharge device
JP3101713B2 (ja) 電界放射陰極およびそれを用いる電磁波発生装置
US7285915B2 (en) Electron gun for producing incident and secondary electrons
Wilson High pulse power rf sources for linear colliders
RU2157600C1 (ru) Микротрон
US3803442A (en) Travelling wave tube
McINTYRE et al. Gigatron
Zhao et al. Development of a High Power Ka-Band Extended Interaction Klystron
US3668544A (en) High efficiency traveling wave tube employing harmonic bunching