JPH0278932A - 成膜付着力測定装置 - Google Patents

成膜付着力測定装置

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JPH0278932A
JPH0278932A JP23170488A JP23170488A JPH0278932A JP H0278932 A JPH0278932 A JP H0278932A JP 23170488 A JP23170488 A JP 23170488A JP 23170488 A JP23170488 A JP 23170488A JP H0278932 A JPH0278932 A JP H0278932A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
thin film
deflection
peeling
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP23170488A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoji Shimizu
清水 正二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH0278932A publication Critical patent/JPH0278932A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は基板に形成された薄膜の付着強度を測定する成
膜付着力測定装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、薄膜の付着力の測定方法には、間接的に測定する
方法と、置部的に測定する方法がある。
間接的に測定する方法の代表的な方法として、例えば、
薄膜上にテープあるいは口・ソド等を接着し、このテー
プあるいはロッドに力を加えることにより薄膜を剥離さ
せ、この剥離に要した力を測定することにより付着力を
測定する方法がある。
また、直接的に測定する方法として、薄膜に直接的に力
を与え剥離を発生し、そのときの付着力を測定する方法
がある。この方法は、比較的に付着力のある薄膜に適用
されている。
例えば、この方法の代表例の一つとして、成膜された基
板をたわませることにより薄膜に曲げ応力を与え、薄膜
に剥離を生じさせ、このときの曲げ応力を測定すること
により、薄膜の付着力を求める方法がある。
特に、後者の直接的に測定する薄膜の付着力測定装置に
対して、より精度よく測定するために、種々の改善が施
されてきた。
[た明が解決しようとする課題〕 しかしながら、従来のこの種の基板をたわませて薄膜の
付着力を測定する方法は、薄膜の剥離の検出を目視ある
いは顕微鏡等による観察といった視覚的手法を用いてい
たため、剥離の判定基準があいまいであり、しかも付着
力の定量的な測定が困難であった。また、このような視
覚的手法による剥離の検出する方法では、薄膜の微小な
剥離を検出できない等の問題があった。
本発明の目的は、微小な薄膜の剥離を検出できるととも
に定量的に薄膜の付着力を測定できる成膜付着力測定装
置を提供するこである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の成膜付着力測定装置は、成膜された基板を押し
曲げる圧電材からなる圧子と、この圧子に押圧力を与え
る基板加重附加部と、前記基板または薄膜ならびに両者
の界面から発生するアコースチックエミッション(Ac
o−ustic  Emission)を検出する手段
と、前記基板のたわみ量を測定する基板たわみ量検出部
とを備え構成される。
L実施例〕 次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す成膜付着力測定装置の
斜視図である。この成膜付着力測定装置は、測定台11
上に立てられたコラム10と、測定台11上に取り付け
られた基板曲げ機構部4と、コラム10の支持板12及
び13上にそれぞれ取り付けられた基板荷重附加部14
と基板たわみ量検出部15とからなっている。
基板曲げ機構部4は、圧電材料で製作された圧子2及び
支点部材3とからなり、この三点によりにより被試験材
である基板1に曲げ応力を与えるようになっている。ま
た、支点部材3は、三点のねじ17によって上下に調節
可能なテーブル16の上に取り付けられており、このテ
ーブル16の下には、基板1に加えられた荷重を検出す
るロードセル18が取り付けられている。
基板荷重附加部14は、圧子2の他端に取り付けられた
送りねじらと、この送りねじ5に取り付けられた歯車対
7を介して回転を与えるモータ6とからなっている。
基板たわみ量検出部15は、送りねじ5の端面に接続さ
れた変位検出部9と、これに直結された変位変換器8と
でなる。この変位変換器8は基板1のたわみ量を電気的
に変換する。
次に、この装置の動作を説明する。まず、二つの支持部
材3の上に、成膜された基板1を乗せる。
次に、モータ6を回転し、歯車対7を介して、送りねじ
5の一端に取り、付けられたスプライン軸を回転させる
。この回転により、送りねじ5は回転され、コラム10
の支持体20に固定されたす・ント19により、送りね
じ5は下降し、圧子2は基板1を押し曲げ始める。
一方、ロードセル18は、基板に加えられた加重を検知
し、加重の大きさをデジタル信号に変換し、マイクロコ
ンピュータ(図示せず)に送信する。また、基板たわみ
量検出部15により基板1のたわみ量を検出し、同様に
、その検出信号をマイクロコンピュータに送信する。
ここで、前述したよう、に、圧子2が基板1を押し曲げ
始めると、例えば、基板1の成膜側を押した場合には、
基板1の圧子2 Illの表面は圧縮応力、裏面は引張
応力が生じ、この応力の差が押圧力の上昇に伴って大き
くなる。この応力の差により薄膜と基板との界面あるい
は薄膜自身が剥離が起り始める。このときの剥離現象に
伴なって放射される音波、いわゆるアコースチ・ソシエ
ミ・ソションを圧子2が検知する。
このアコースチックエミッションを電気的信号に変換し
、この電気信号をマイクロコンピュータに送信する。こ
のように、剥離し始めたときの加重の大きさ及び基板1
のたわみ量をマイクロコンピュータにより演算し、付着
力及び剥離状態を解析する。
第2図は本発明の成膜付着力測定装置により薄膜の付着
力を測定した例を説明するためのたわみ量とアコースチ
ックエミッション発生数を表すグラフである。ここで、
プラスチック基板上に成膜した金属膜の付着力を測定し
た例を説明する。
第2図のグラフの縦軸はアコースチックエミッションの
発生数(図ではAE発生数と表現する)であり、横軸は
基板のたわみ量である。この図かられかるように、例え
ば、たわみ量が1.4〜2゜0 m rr+のときに、
最初のAEが発生している。このことは、基板あるいは
薄膜の欠陥部分で生ずる黴なりラックあるいは剥離に起
因する。たわみ量が3.6mm以上になると、AEの発
生数が急に増加しており、これは薄膜の均一な剥離に起
因する。すなわち、欠陥部分での剥離がたわみ1.4m
mから開始し、均一な剥離は3.6mmから開始する。
このように、剥離が開始するたわみ量を定量的に測定す
ることができる。また、基板のたわみ量から薄膜にかか
る応力を演算し、剥離が開始し始めたときの、薄膜また
は基板の欠陥部での付着力及び薄膜の均一な付着力を求
めることが出来る。
第3図(a)及び(b)は成膜付着力測定装置の支点部
材の構造例を示す斜視図である。この成膜付着力測定装
置では、第1図で示すように、支点部材3のエツジが固
定された横道で示しであるが、このエツジと基板lとの
間ですべりが起き、しばしば、このすべりによる窄擦音
が雑音として圧子2が検知することがある。
従って、これを防止するために、第3図に示すように、
ブラケット3bの上に、ビン3Cで回転し得るナイフェ
ツジ3−aあるいはローラ21を設け、すべりによる辛
擦音の発生を抑える。
また、別の実施例で、支点部材3の間に、二つの圧子2
を設け、アコ−スナックエミッションの発生個所の位置
を捉えることもできる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の成膜付着力測定装置は、成
膜された基板を、圧電材料で製作された圧子により押し
曲げ、そのときに生ずるアコースチックエミッションを
検出することにより、薄膜の剥離開始を測定できるとと
もに基板のたわみ量と押圧加重との演算により薄膜の付
着力を測定できる。従って、微小な薄膜の剥離を検出で
きるとともに定量的に薄膜の付着力を測定できる成膜付
着力測定装置が得られるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す成膜付着力測定装置の
斜視図、第2図は本発明の成膜付着力測定装置により薄
膜の付着力を測定した例を説明するためのたわみ量とア
コースチックエミッション発生数を表すグラフ、第3図
(a)及び(b)は成膜付着力測定装置の支点部材の構
造例を示す斜視図である。 1・・・基板、2・・・圧子、3・・・支点部材、3a
ナイフエツジ、3b・・・ブラケッI・、3C・・・ピ
ン、4・・・基板曲げ機構部、5・・・送りねじ、6・
・・モータ、7・・・歯車対、8・・・変位変換部、9
・・・変位検出部、10・・・コラム、11・・・測定
台、12.13・・・支持板、14・・・基板荷重附加
部、15・・・基板たわみ量検出部、16・・・テーブ
ル、17・・・ねじ、18・・・ロードセル、19・・
・ナツト、20・・・支持体、21・・・ローラ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 成膜された基板を押し曲げる圧電材からなる圧子と、こ
    の圧子に押圧力を与える基板加重附加部と、前記基板ま
    たは薄膜ならびに両者の界面から発生するアコースチッ
    クエミッション(AcousticEmission)
    を検出する手段と、前記基板のたわみ量を測定する基板
    たわみ量検出部とを備えたことを特徴とする成膜付着力
    測定装置。
JP23170488A 1988-09-14 1988-09-14 成膜付着力測定装置 Pending JPH0278932A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2619140C1 (ru) * 2015-12-22 2017-05-12 Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военная академия Ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого" Министерства обороны Российской Федерации Способ определения зон накопления структурных повреждений металлоконструкций при эксплуатации
US20190178848A1 (en) * 2017-12-07 2019-06-13 Infineon Technologies Ag System and method for examining semiconductor substrates
US10499794B2 (en) 2013-05-09 2019-12-10 Endochoice, Inc. Operational interface in a multi-viewing element endoscope
WO2022032930A1 (zh) * 2020-08-12 2022-02-17 广东工业大学 一种激光冲击层裂缺陷的超声检测方法及装置

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