JPH028006B2 - - Google Patents
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- JPH028006B2 JPH028006B2 JP55108322A JP10832280A JPH028006B2 JP H028006 B2 JPH028006 B2 JP H028006B2 JP 55108322 A JP55108322 A JP 55108322A JP 10832280 A JP10832280 A JP 10832280A JP H028006 B2 JPH028006 B2 JP H028006B2
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 34
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
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Description
【発明の詳細な説明】
［発明の対象］
本発明は、Fe−Ni−Si−Ｂの合金からなる金
属薄帯の熱処理法に関する。
属薄帯の熱処理法に関する。
［従来技術］
非晶質合金からなる金属薄帯の磁気特性を改善
する一般的な方法としては、該金属薄帯をキユリ
ー温度〜結晶化転移温度の範囲で加熱処理する方
法がある。該熱処理は、磁場中で行なわれること
もある。
する一般的な方法としては、該金属薄帯をキユリ
ー温度〜結晶化転移温度の範囲で加熱処理する方
法がある。該熱処理は、磁場中で行なわれること
もある。
しかし、前記熱処理はFe−Ni−Si−Ｂの合金
からなる金属薄帯に対しては効果がないことが本
発明者等の検討で明らかとなつた。
からなる金属薄帯に対しては効果がないことが本
発明者等の検討で明らかとなつた。
Fe−Ni−Si−Ｂの合金からなる非晶質金属の
薄帯は、磁束密度が大きく、かつ、保磁力が小さ
いと云う特性を有する。これらの特性を更に改良
することにより、用途の拡大を図ることができ
る。
薄帯は、磁束密度が大きく、かつ、保磁力が小さ
いと云う特性を有する。これらの特性を更に改良
することにより、用途の拡大を図ることができ
る。
Fe−Ni−Si−Ｂの合金からなる金属薄帯に前
記の熱処理を施すと、磁束密度、角型比および保
磁力がかえつて悪くなる問題があつた。
記の熱処理を施すと、磁束密度、角型比および保
磁力がかえつて悪くなる問題があつた。
［発明の目的］
本発明の目的は、前記課題を解決するためにな
されたもので、Fe−Ni−Si−Ｂの合金からなる
金属薄帯の磁束密度、角型比を高め、かつ保磁力
を小さくする熱処理法を提供することにある。
されたもので、Fe−Ni−Si−Ｂの合金からなる
金属薄帯の磁束密度、角型比を高め、かつ保磁力
を小さくする熱処理法を提供することにある。
［発明の要点］
本発明は、B6〜14原子％、Si8〜14原子％、
Ni4〜12原子％、Fe残部の組成を有し、少なくと
も一方の面が非晶質の合金からなる金属薄帯を、
前記金属のキユリー温度よりも低く、かつ、加熱
示差熱量曲線の示差熱吸収開始温度±25℃で加熱
した後、徐冷することを特徴とする金属薄帯の熱
処理法にある。
Ni4〜12原子％、Fe残部の組成を有し、少なくと
も一方の面が非晶質の合金からなる金属薄帯を、
前記金属のキユリー温度よりも低く、かつ、加熱
示差熱量曲線の示差熱吸収開始温度±25℃で加熱
した後、徐冷することを特徴とする金属薄帯の熱
処理法にある。
まず、前記金属薄帯が非晶質合金であるか否か
を判別する簡略な手段としては、金属薄帯を180
度に折り曲げ、折曲げ部分の両面に割れが生じた
ら非晶質合金ではなく、片面にのみ割れが生じた
ら割れが生じなかつた面が非晶質合金であると判
断する方法がある。本発明は、この方法によつ
て、少なくとも一方の面が非晶質合金であると判
断した金属に対して実施しても、効果が得られる
ものである。
を判別する簡略な手段としては、金属薄帯を180
度に折り曲げ、折曲げ部分の両面に割れが生じた
ら非晶質合金ではなく、片面にのみ割れが生じた
ら割れが生じなかつた面が非晶質合金であると判
断する方法がある。本発明は、この方法によつ
て、少なくとも一方の面が非晶質合金であると判
断した金属に対して実施しても、効果が得られる
ものである。
本発明の前記合金の組成において、Ｂを６原子
％未満、Siを８原子％未満にすると、薄帯の作成
と非晶質化が難しくなる。また、Ｂを14原子％よ
り多く、Siを14原子％より多くすると、磁気特性
が悪くなり、本発明の目的が達成されない。Ni
は４原子％未満にすると薄帯の作成を難しくし、
12原子％よりも多くしてもそれ以上の磁気特性の
改善は望めない。
％未満、Siを８原子％未満にすると、薄帯の作成
と非晶質化が難しくなる。また、Ｂを14原子％よ
り多く、Siを14原子％より多くすると、磁気特性
が悪くなり、本発明の目的が達成されない。Ni
は４原子％未満にすると薄帯の作成を難しくし、
12原子％よりも多くしてもそれ以上の磁気特性の
改善は望めない。
金属薄帯の製造方法は特に限定されないが、一
例として、高速回転するロールの表面に薄帯とす
る金属の溶湯を流延接触させて冷却し凝固させる
ことによつて製造することができる。
例として、高速回転するロールの表面に薄帯とす
る金属の溶湯を流延接触させて冷却し凝固させる
ことによつて製造することができる。
薄帯の厚さも特に限定されない。前記回転ロー
ルによる方法では、通常10〜50μｍの厚さの薄帯
を製造することができるが、本発明はこのような
厚さのものに対して十分に適用することができ
る。
ルによる方法では、通常10〜50μｍの厚さの薄帯
を製造することができるが、本発明はこのような
厚さのものに対して十分に適用することができ
る。
Fe−Ni−Si−Ｂ合金からなる金属薄帯の加熱
示差熱量曲線の一例を第１図に示す。
示差熱量曲線の一例を第１図に示す。
示差熱吸収開始温度Taおよび示差熱放出開始
温度Tb1は、合金の組成によつて多少異なるが大
差はない。
温度Tb1は、合金の組成によつて多少異なるが大
差はない。
第１図の合金は、後述の実施例１と同じもので
あるが、該合金の示差熱吸収開始温度Taは358
℃、示差熱放出開始温度Tb1は435℃、結晶化開
始温度Tb2は493℃である。
あるが、該合金の示差熱吸収開始温度Taは358
℃、示差熱放出開始温度Tb1は435℃、結晶化開
始温度Tb2は493℃である。
また、別に測定したキユリー温度は478℃であ
る。
る。
本発明は、前記示差熱吸収開始温度Ta±25℃
の温度範囲内で加熱した後、徐冷するものであ
り、従来一般に行なわれていたキユリー温度以上
で加熱するものとは熱処理の条件が全く異なるも
のである。
の温度範囲内で加熱した後、徐冷するものであ
り、従来一般に行なわれていたキユリー温度以上
で加熱するものとは熱処理の条件が全く異なるも
のである。
本発明の熱処理温度は、前記示差熱吸収開始温
度Taが最も望ましいが、該温度の±25℃であれ
ば十分に効果がある。Ta＋25℃よりも高温側で
は保磁力が急激に増加する。また、Ta−25℃よ
りも低温側では磁束密度および各型比が熱処理し
ないものに比べて効果がそれほど得られない。
度Taが最も望ましいが、該温度の±25℃であれ
ば十分に効果がある。Ta＋25℃よりも高温側で
は保磁力が急激に増加する。また、Ta−25℃よ
りも低温側では磁束密度および各型比が熱処理し
ないものに比べて効果がそれほど得られない。
また、熱処理温度の違いによる磁気特性のばら
つきは、前記示差熱吸収開始温度Ta±25℃で熱
処理するよりも±10℃の範囲内で熱処理した方が
小さい。従つて、熱処理温度としてはなるべく示
差熱吸収開始温度に近い方がよい。
つきは、前記示差熱吸収開始温度Ta±25℃で熱
処理するよりも±10℃の範囲内で熱処理した方が
小さい。従つて、熱処理温度としてはなるべく示
差熱吸収開始温度に近い方がよい。
本発明の熱処理法により熱処理された前記合金
からなる非晶質の金属薄帯は、IC演算用絶縁ト
ランスのコア等に用いることができる。該金属薄
帯を用いたものは、磁極Ｎ、Ｓの変換に対する応
答性がよいため、前記演算器の応答の高速化を図
ることができる。
からなる非晶質の金属薄帯は、IC演算用絶縁ト
ランスのコア等に用いることができる。該金属薄
帯を用いたものは、磁極Ｎ、Ｓの変換に対する応
答性がよいため、前記演算器の応答の高速化を図
ることができる。
［発明の実施例と効果］
実施例 １
Fe70原子％、Ni8原子％、Si10原子％、B12原
子％よりなる金属薄帯を製造し、温度を変えて熱
処理を行なつた。
子％よりなる金属薄帯を製造し、温度を変えて熱
処理を行なつた。
金属薄帯の製造は、上記組成の1270℃に加熱溶
融した溶湯をノズルより噴出させて、2000rpmで
回転する鋼製のロール表面に落下し、該ロールを
冷却媒体として急速凝固させることにより行なつ
た。上記ノズル内の溶湯は、0.3気圧に加圧して
ノズルより噴出させた。
融した溶湯をノズルより噴出させて、2000rpmで
回転する鋼製のロール表面に落下し、該ロールを
冷却媒体として急速凝固させることにより行なつ
た。上記ノズル内の溶湯は、0.3気圧に加圧して
ノズルより噴出させた。
前記鋼製ロールは、直径300mmでロール幅40mm
である。製造された金属薄帯は、厚さ20μｍ、幅
が５mm、長さ20ｍである。
である。製造された金属薄帯は、厚さ20μｍ、幅
が５mm、長さ20ｍである。
熱処理は、上記金属薄帯をトロイダル状に巻い
た測定用試料を８個作成し、これを270℃〜450℃
で加熱し、該トロイダルコアの磁芯に対して平行
方向に磁場20Oeを印加しながら、それぞれ所定
の温度で１時間保持した後、100℃／時間の速度
で室温まで冷却させた。
た測定用試料を８個作成し、これを270℃〜450℃
で加熱し、該トロイダルコアの磁芯に対して平行
方向に磁場20Oeを印加しながら、それぞれ所定
の温度で１時間保持した後、100℃／時間の速度
で室温まで冷却させた。
磁気特性は、直流における磁束密度（B100、
B10、B1）と角型比（Br／Bm）および保磁力
（Hc）を測定した。
B10、B1）と角型比（Br／Bm）および保磁力
（Hc）を測定した。
第１図は、前記合金の加熱示差熱量曲線であ
る。
る。
上記の加熱示差熱量曲線は、金属薄帯を直径５
mmの円板に切り抜いて、重さ40mgになるまで積層
し、これを加熱装置に設置して５℃／分で加熱
し、標準試料と比較することによつて求めた。標
準試料にはアルミニウムを用いた。
mmの円板に切り抜いて、重さ40mgになるまで積層
し、これを加熱装置に設置して５℃／分で加熱
し、標準試料と比較することによつて求めた。標
準試料にはアルミニウムを用いた。
第２図に金属薄帯の熱処理温度と磁気特性との
関係を示す。
関係を示す。
磁気特性を縦軸にとり、熱処理温度を横軸にと
つて、熱処理温度の違いによる磁気特性の変化を
みたものである。
つて、熱処理温度の違いによる磁気特性の変化を
みたものである。
保磁力は約300℃から次第に改善され350℃で熱
処理したもので30ｍOe以下の値を示す。熱処理
温度が示差熱吸収開始温度Taよりも高くなりと
保磁力は増大し始めるが、375℃ではまだ熱処理
する前よりは若干小さい値を示している。そし
て、400℃以上になると保磁力は急激に増大する。
処理したもので30ｍOe以下の値を示す。熱処理
温度が示差熱吸収開始温度Taよりも高くなりと
保磁力は増大し始めるが、375℃ではまだ熱処理
する前よりは若干小さい値を示している。そし
て、400℃以上になると保磁力は急激に増大する。
磁束密度、角型比は325℃〜400℃の熱処理温度
範囲では熱処理しないときよりも依然として高い
値を有する。
範囲では熱処理しないときよりも依然として高い
値を有する。
本実施例から熱処理温度は示差熱吸収開始温度
Taの近傍が最も望ましいことが分かる。なお、
キユリー温度になると前よりもかえつて悪くなる
ことがわかる。
Taの近傍が最も望ましいことが分かる。なお、
キユリー温度になると前よりもかえつて悪くなる
ことがわかる。
実施例 ２
Fe73原子％、Ni8原子％、Si10原子％、B9％
原子％よりなる金属薄帯を実施例１と同様に製造
し、同じくトロイダルコアを作成して磁気特性を
測定した。
原子％よりなる金属薄帯を実施例１と同様に製造
し、同じくトロイダルコアを作成して磁気特性を
測定した。
第３図に上記組成の合金からなる金属薄帯の加
熱示差熱量曲線図を、また、第４図に該金属薄帯
の磁気特性と熱処理温度との関係を示す。
熱示差熱量曲線図を、また、第４図に該金属薄帯
の磁気特性と熱処理温度との関係を示す。
示差熱吸収開始温度Taは300℃、示差熱放出開
始温度Tb1は408℃、結晶化開始温度Tb2は470℃
およびキユリー温度は452℃であつた。
始温度Tb1は408℃、結晶化開始温度Tb2は470℃
およびキユリー温度は452℃であつた。
第４図から磁気特性は、示差熱吸収開始温度
Taで熱処理したときに最良の特性を示している。
Taで熱処理したときに最良の特性を示している。
以上の実施例から明らかなように、本発明の熱
処理を施すことにより、Fe−Ni−Si−Ｂの合金
からなる非晶質金属薄帯の磁束密度、角型比も増
大し、保磁力を下げることができる。これによつ
て、該金属薄帯を用いたIC演算装置の演算速度
を10〜20％高めることができる。
処理を施すことにより、Fe−Ni−Si−Ｂの合金
からなる非晶質金属薄帯の磁束密度、角型比も増
大し、保磁力を下げることができる。これによつ
て、該金属薄帯を用いたIC演算装置の演算速度
を10〜20％高めることができる。
第１図および第３図は、本発明のFe−Ni−Si
−Ｂの合金の加熱示差熱量を示す曲線図、第２図
および第４図は本発明のFe−Ni−Si−Ｂの合金
の金属薄帯の磁気特性と熱処理温度との関係を示
すグラフである。
−Ｂの合金の加熱示差熱量を示す曲線図、第２図
および第４図は本発明のFe−Ni−Si−Ｂの合金
の金属薄帯の磁気特性と熱処理温度との関係を示
すグラフである。
Claims (1)
- １ B6〜14原子％、Si8〜14原子％、Ni4〜12原
子％、Fe残部の組成を有し、少なくとも一方の
面が非晶質の合金からなる金属薄帯を、前記金属
のキユリー温度よりも低く、かつ、加熱示差熱量
曲線の示差熱吸収開始温度±25℃で加熱した後、
徐冷することを特徴とする金属薄帯の熱処理法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10832280A JPS5735633A (en) | 1980-08-08 | 1980-08-08 | Heat treatment of metallic thin strip |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10832280A JPS5735633A (en) | 1980-08-08 | 1980-08-08 | Heat treatment of metallic thin strip |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5735633A JPS5735633A (en) | 1982-02-26 |
| JPH028006B2 true JPH028006B2 (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=14481763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10832280A Granted JPS5735633A (en) | 1980-08-08 | 1980-08-08 | Heat treatment of metallic thin strip |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5735633A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58158647A (ja) * | 1982-03-16 | 1983-09-20 | Canon Inc | 光導電部材 |
| JPS5961731A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-04-09 | Toshiba Corp | トルクセンサ |
-
1980
- 1980-08-08 JP JP10832280A patent/JPS5735633A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5735633A (en) | 1982-02-26 |
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