JPH0281323A - ロータリーエンコーダ用磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
ロータリーエンコーダ用磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH0281323A JPH0281323A JP23426588A JP23426588A JPH0281323A JP H0281323 A JPH0281323 A JP H0281323A JP 23426588 A JP23426588 A JP 23426588A JP 23426588 A JP23426588 A JP 23426588A JP H0281323 A JPH0281323 A JP H0281323A
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Landscapes
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はロータリーエンコーダ用磁気ディスクの製造方
法に関し、特に、スパタリング蒸着法によりディスク状
基板に磁性薄膜を形成するロータリーエンコーダ用磁気
ディスクの製造方法に関するものである。
法に関し、特に、スパタリング蒸着法によりディスク状
基板に磁性薄膜を形成するロータリーエンコーダ用磁気
ディスクの製造方法に関するものである。
〔従来技術および解決しようとする課題〕従来のロータ
リーエンコーダ用の磁気ディスクには、磁性粉を円板状
に焼結加工するか、磁性合金を円板状に加工するかして
、磁気ディスク２１の全体を磁性材料で構成し、第４図
１ａｌ ｔｂｌのように、磁気ディスク２１の側面、ま
たは表面周縁部に所定の間隔に着磁して磁気パターン２
３を形成したものが知られている。
リーエンコーダ用の磁気ディスクには、磁性粉を円板状
に焼結加工するか、磁性合金を円板状に加工するかして
、磁気ディスク２１の全体を磁性材料で構成し、第４図
１ａｌ ｔｂｌのように、磁気ディスク２１の側面、ま
たは表面周縁部に所定の間隔に着磁して磁気パターン２
３を形成したものが知られている。
しかしながら、一般に磁性材料は高価であるとともに硬
度が大きく加工しにくい材料であるため、前記磁気ディ
スク２１の全体を磁性材料で形成した前記のものにあっ
ては、高価となるとともに、製造が困難で量産性に乏し
いという問題点を有していた。
度が大きく加工しにくい材料であるため、前記磁気ディ
スク２１の全体を磁性材料で形成した前記のものにあっ
ては、高価となるとともに、製造が困難で量産性に乏し
いという問題点を有していた。
これに対し、アルミニウム等の加工が容易な材料で円板
状のディスク状基板２２を形成し、このディスク状基板
２２に、サマリウムコバルトやネオジウム等の希土類元
素を主成分とじた磁性粉を樹脂バインダーに混入した磁
性層＃４２４を塗設して磁気ディスク２１を形成し、こ
の磁性塗料２４を塗設した磁気ディスク２１の側面、ま
たは表面周縁部に、第５図（ａｌ （ｂｌに示すように
所定の間隔に着磁して磁気パターン２３を形成したもの
が知られている。
状のディスク状基板２２を形成し、このディスク状基板
２２に、サマリウムコバルトやネオジウム等の希土類元
素を主成分とじた磁性粉を樹脂バインダーに混入した磁
性層＃４２４を塗設して磁気ディスク２１を形成し、こ
の磁性塗料２４を塗設した磁気ディスク２１の側面、ま
たは表面周縁部に、第５図（ａｌ （ｂｌに示すように
所定の間隔に着磁して磁気パターン２３を形成したもの
が知られている。
上記のようにディスク状基板２２の表面に磁性塗料２４
を塗設した磁気ディスク２１にあっては、全体を磁性材
料で形成するものに比べて、安価で加工性にもすぐれて
いる利点を有している反面、前記樹脂バインダー中に磁
性粉を混入した磁性塗料２４から形成される磁性層が高
温に弱く温度特性が悪くなるという問題点を有していた
。
を塗設した磁気ディスク２１にあっては、全体を磁性材
料で形成するものに比べて、安価で加工性にもすぐれて
いる利点を有している反面、前記樹脂バインダー中に磁
性粉を混入した磁性塗料２４から形成される磁性層が高
温に弱く温度特性が悪くなるという問題点を有していた
。
そして、上記のそれぞれのもつ問題点を解消するために
、スパタリング蒸着によって、強磁性材料の磁性薄膜を
ディスク状基板表面に設ける方法に着目して検討を加え
た。
、スパタリング蒸着によって、強磁性材料の磁性薄膜を
ディスク状基板表面に設ける方法に着目して検討を加え
た。
上記スパタリング蒸着法は、基板と磁性７ｍｌ膜との付
着力が大きく、また、強磁性材料の合金をその合金成分
を大きく変化させることなく基板上に付着させることが
できる利点を有する方法であり、本発明者等は、スバク
リング蒸着法の中でもイオンの生成効率にすぐれたマグ
ネトロンスパタリング法を検討し、中でも最も一般的な
平板型（ブレーナ型）について検討を加えた。
着力が大きく、また、強磁性材料の合金をその合金成分
を大きく変化させることなく基板上に付着させることが
できる利点を有する方法であり、本発明者等は、スバク
リング蒸着法の中でもイオンの生成効率にすぐれたマグ
ネトロンスパタリング法を検討し、中でも最も一般的な
平板型（ブレーナ型）について検討を加えた。
平板型のマグネトロンスパタリング法にあっては、第６
図（４）（ｂｌに示すように構成されていて、第６図（
ａｌにはターゲット３３に非磁性材料を使用した場合の
作用を示し、第６図１ｂｌにはターゲット３３に強磁性
材料を使用した場合の作用について示しである。
図（４）（ｂｌに示すように構成されていて、第６図（
ａｌにはターゲット３３に非磁性材料を使用した場合の
作用を示し、第６図１ｂｌにはターゲット３３に強磁性
材料を使用した場合の作用について示しである。
まず、第６図ｔａ＞に示されたものにあっては、非磁性
材料からなるターゲット３３の下面に、ターゲット３３
の上面側に磁力線３５がアーチを形成するようにＳ極と
Ｎ極とが所定の間隔を有する磁石３４を配設し、前記タ
ーゲット３３の上方から下方に垂直に電場３７を形成す
るようにセントして、アルゴン等の放電ガス３８の雰囲
気下において、クーゲット３３から生成される電子を前
記磁力線３５が示す磁場３６の内部に効率よく捕捉し、
この電子によって前記放電ガス３８を電離して形成する
正イオンの生成効率を向上し、多量の正イオンをターゲ
ット３３に衝突させてスパタリング蒸着するものである
。
材料からなるターゲット３３の下面に、ターゲット３３
の上面側に磁力線３５がアーチを形成するようにＳ極と
Ｎ極とが所定の間隔を有する磁石３４を配設し、前記タ
ーゲット３３の上方から下方に垂直に電場３７を形成す
るようにセントして、アルゴン等の放電ガス３８の雰囲
気下において、クーゲット３３から生成される電子を前
記磁力線３５が示す磁場３６の内部に効率よく捕捉し、
この電子によって前記放電ガス３８を電離して形成する
正イオンの生成効率を向上し、多量の正イオンをターゲ
ット３３に衝突させてスパタリング蒸着するものである
。
一方、第６図１ｂｌに示すターゲット３３゛として強磁
性材料を用いたものの場合には、ターゲット３３の下面
に設けた磁石３４とターゲット３３との間で磁気回路が
ショートして、ターゲット３３の上面に磁場３６が形成
されないため、上記のようなターゲット３３から生成さ
れる電子を捕捉できず、スパタリング蒸着による磁性薄
膜の生成効率が悪いとともに、ターゲット３３で反射さ
れた電子が基板上に一端形成された磁性薄膜に衝突して
磁性薄膜を破損してしまい、ロータリーエンコーダ用磁
気ディスクの製造方法には適用できないものであった。
性材料を用いたものの場合には、ターゲット３３の下面
に設けた磁石３４とターゲット３３との間で磁気回路が
ショートして、ターゲット３３の上面に磁場３６が形成
されないため、上記のようなターゲット３３から生成さ
れる電子を捕捉できず、スパタリング蒸着による磁性薄
膜の生成効率が悪いとともに、ターゲット３３で反射さ
れた電子が基板上に一端形成された磁性薄膜に衝突して
磁性薄膜を破損してしまい、ロータリーエンコーダ用磁
気ディスクの製造方法には適用できないものであった。
本発明は上記のようなもののもつ従来のもののもつ問題
点を解決したものであって、磁気ディスク全体を磁性材
料で構成するよりも加工性にすぐれ、温度特性が良好で
安価に製造できるとともに、強磁性材料をターゲットと
したスパタリング蒸着法による磁性薄膜の生成効率を向
上して、大量生産が可能なロータリーエンコーダ用磁気
ディスクの製造方法を提供することを目的としている。
点を解決したものであって、磁気ディスク全体を磁性材
料で構成するよりも加工性にすぐれ、温度特性が良好で
安価に製造できるとともに、強磁性材料をターゲットと
したスパタリング蒸着法による磁性薄膜の生成効率を向
上して、大量生産が可能なロータリーエンコーダ用磁気
ディスクの製造方法を提供することを目的としている。
上記の目的を達成するために本発明は、所定の間隔で対
向して配設される一対の強磁性材料からなるターゲット
間に、磁場と電場とを同時に作用させてスパタリング蒸
着する対向ターゲット式スパタリング装置の、前記ター
ゲット間の側方に、複数のディスク状基板をその側面が
前記ターゲット面に直交するように配設するとともに、
前記複数のディスク状基板を回転させながらスパタリン
グ蒸着する手段を有している。
向して配設される一対の強磁性材料からなるターゲット
間に、磁場と電場とを同時に作用させてスパタリング蒸
着する対向ターゲット式スパタリング装置の、前記ター
ゲット間の側方に、複数のディスク状基板をその側面が
前記ターゲット面に直交するように配設するとともに、
前記複数のディスク状基板を回転させながらスパタリン
グ蒸着する手段を有している。
本発明は上記の手段を採用したことにより、強磁性材料
の磁性薄膜を複数のディスク状基板の少なくとも側面に
効率的に形成することができることとなる。
の磁性薄膜を複数のディスク状基板の少なくとも側面に
効率的に形成することができることとなる。
以下、図面に示す本発明の実施例について説明する。
第１図ｔａｌ （ｂ）には本発明によるロータリーエン
コーダ用磁気ディスクの製造方法に用いる対向ターゲッ
ト式スパタリング装置の概略説明図が示されていて、こ
の装置は、図示しない真空槽の内部に、・ＦｅＣｒＣｏ
合金等の強磁性材料からなる一対のターゲット３．３を
所定の間隔で対向して配設するとともに、この対向する
一対のターゲット３．３の表面にそれぞれ垂直な磁力線
５を有する磁場６を形成するように、前記各ターゲット
３．３の対向面の反対側に磁石４．４を配設するととも
に、ターゲット３．３間の側方に、アルミニウム等の加
工性が良好な材料で円板状に成形したディスク状基板２
の複数枚（図面では１５枚）をその側面が前記ターゲッ
ト３．３面に直交する状態で回転可能に配設し、このデ
ィスク状基板２の前記ターゲット３．３の反対側に前記
ディスク状基板２の加熱用のランプヒータ９を配設し、
さらに、全体を図示しない真空ポンプにより減圧して放
電ガス８雰囲気を形成可能とするとともに、前記一対の
ターゲット３．３間に矢印の方向に電場７を形成してス
パタリング蒸着が可能となっている。
コーダ用磁気ディスクの製造方法に用いる対向ターゲッ
ト式スパタリング装置の概略説明図が示されていて、こ
の装置は、図示しない真空槽の内部に、・ＦｅＣｒＣｏ
合金等の強磁性材料からなる一対のターゲット３．３を
所定の間隔で対向して配設するとともに、この対向する
一対のターゲット３．３の表面にそれぞれ垂直な磁力線
５を有する磁場６を形成するように、前記各ターゲット
３．３の対向面の反対側に磁石４．４を配設するととも
に、ターゲット３．３間の側方に、アルミニウム等の加
工性が良好な材料で円板状に成形したディスク状基板２
の複数枚（図面では１５枚）をその側面が前記ターゲッ
ト３．３面に直交する状態で回転可能に配設し、このデ
ィスク状基板２の前記ターゲット３．３の反対側に前記
ディスク状基板２の加熱用のランプヒータ９を配設し、
さらに、全体を図示しない真空ポンプにより減圧して放
電ガス８雰囲気を形成可能とするとともに、前記一対の
ターゲット３．３間に矢印の方向に電場７を形成してス
パタリング蒸着が可能となっている。
前記１５枚のディスク状基板２は、それぞれ所定の間隔
をおいて全体で円筒杖になるように配設されている。
をおいて全体で円筒杖になるように配設されている。
また、上記ディスク状基板２は、アルミニウム等の非磁
性材料であっても、磁性材料であってもよく、安価で加
工し易い材料を適宜に選択することができる。
性材料であっても、磁性材料であってもよく、安価で加
工し易い材料を適宜に選択することができる。
次に、上記のものの作用について説明する。
上記のように構成した対向ターゲット式スパタリング装
置において、装置内を図示しない真空ポンプにより所定
の減圧状態とするとともに、放電ガス８雰囲気とし、さ
らに、前記ターゲット３．３間に磁場６と電場７を同時
に作用するようにセットし、スパタリングを開始すると
、まず、前記ターゲット３．３から電子１０が放出され
、この電子ｌＯは前記ｉｆｆ場６と電場７とによって前
記ターゲット３．３間に効率よく捕捉されて閉じ込めら
れるとともに、前記磁力線５の回りをサイクロイド運動
しながら前記ターゲット３．３を往復運動し、放電ガス
８を電離して多くの正イオンを生成し、この正イオンが
前記ターゲット３．３に衝突して強磁性材料からなるタ
ーゲット３．３から薄膜形成原子を生成する。
置において、装置内を図示しない真空ポンプにより所定
の減圧状態とするとともに、放電ガス８雰囲気とし、さ
らに、前記ターゲット３．３間に磁場６と電場７を同時
に作用するようにセットし、スパタリングを開始すると
、まず、前記ターゲット３．３から電子１０が放出され
、この電子ｌＯは前記ｉｆｆ場６と電場７とによって前
記ターゲット３．３間に効率よく捕捉されて閉じ込めら
れるとともに、前記磁力線５の回りをサイクロイド運動
しながら前記ターゲット３．３を往復運動し、放電ガス
８を電離して多くの正イオンを生成し、この正イオンが
前記ターゲット３．３に衝突して強磁性材料からなるタ
ーゲット３．３から薄膜形成原子を生成する。
一方、前記ターゲット３．３間の側方には、１５枚のデ
ィスク状基板２が、その側面を前記ターゲット３．３面
に直交する状態で回転しており、前記一対のターゲット
３．３から出た強磁性材料からなる薄膜形成原子が、前
記１５枚のディスク状基板２の側面および表面周縁部に
付着し、第２ｒｉｌｉに示すようにディスク状基板２上
に強磁性材料からなる磁性薄膜１２が形成され、磁気デ
ィスク１が製造されることとなる。
ィスク状基板２が、その側面を前記ターゲット３．３面
に直交する状態で回転しており、前記一対のターゲット
３．３から出た強磁性材料からなる薄膜形成原子が、前
記１５枚のディスク状基板２の側面および表面周縁部に
付着し、第２ｒｉｌｉに示すようにディスク状基板２上
に強磁性材料からなる磁性薄膜１２が形成され、磁気デ
ィスク１が製造されることとなる。
そして、上記で得られた磁気ディスクｌの磁性薄＃１２
に第３図ｆａｌ ｆｂｌ （ｃｌに示すように所定の着
磁ピッチを有する磁気パターン１１を形成してロータリ
ーエンコーダとして利用することができる。
に第３図ｆａｌ ｆｂｌ （ｃｌに示すように所定の着
磁ピッチを有する磁気パターン１１を形成してロータリ
ーエンコーダとして利用することができる。
上記第３図ｔａｌに示すものは、磁気ディスクｌの側面
と表面周縁部の両方の磁性薄膜１２に着磁したものであ
り、第３図（ｂｌに示すものは、磁気ディスクｌの側面
の磁性薄膜１２のみに着磁したものであり、第３図ｔｅ
ｌに示すものは、磁気ディスクｌの表面周縁部の磁性薄
膜１２のみに着磁したものであり、本発明の方法におい
ては、いずれのものを採用することもできる。
と表面周縁部の両方の磁性薄膜１２に着磁したものであ
り、第３図（ｂｌに示すものは、磁気ディスクｌの側面
の磁性薄膜１２のみに着磁したものであり、第３図ｔｅ
ｌに示すものは、磁気ディスクｌの表面周縁部の磁性薄
膜１２のみに着磁したものであり、本発明の方法におい
ては、いずれのものを採用することもできる。
本発明は上記の方法を用いたことにより、ディスク状基
板２として安価で加工性のよい適宜の材料を選択できる
ので全体のコストを下げることができるとともに、樹脂
バインダーを用いないので温度特性の良好なものが得ら
れ、さらに、平板型スパタリングに比べて、スパタリン
グ蒸着の効率を向上でき、複数のディスク状基板に同時
に磁性薄膜を形成できて量産性も向上できることとなる
。
板２として安価で加工性のよい適宜の材料を選択できる
ので全体のコストを下げることができるとともに、樹脂
バインダーを用いないので温度特性の良好なものが得ら
れ、さらに、平板型スパタリングに比べて、スパタリン
グ蒸着の効率を向上でき、複数のディスク状基板に同時
に磁性薄膜を形成できて量産性も向上できることとなる
。
本発明は上記のような手段としたことにより、平板型ス
パタリングに比べて、スパタリング蒸着の効率を向上で
き、複数のディスク状基板に同時に磁性薄膜を形成でき
て磁気ディスクの量産性にすぐれるとともに、ディスク
状基板として安価で加工性のよい適宜の材料を選択でき
るので全体のコストを下げることができ、樹脂バインダ
ーを用いないので温度特性の良好な磁気ディスクが得ら
れるなどのすぐれた効果を有するものである。
パタリングに比べて、スパタリング蒸着の効率を向上で
き、複数のディスク状基板に同時に磁性薄膜を形成でき
て磁気ディスクの量産性にすぐれるとともに、ディスク
状基板として安価で加工性のよい適宜の材料を選択でき
るので全体のコストを下げることができ、樹脂バインダ
ーを用いないので温度特性の良好な磁気ディスクが得ら
れるなどのすぐれた効果を有するものである。
第１図ｆａ） （ｂｌは本発明によるロータリーエンコ
ーダ用磁気ディスクの製造方法に用いる対向ターゲット
式スパタリング装置を示し、第１図ｔａ＋は概略説明図
、第１図（ｂ）は第１図（ａｌのＡ−Ａ線で切り矢視方
向に見た図、第２図は本発明により製造された磁気ディ
スクの斜視図、第３図（δ）ｆｂｌ ｆｃｌはそれぞれ
第２図の磁気ディスクに異なるタイプの磁気パターンを
着磁した磁気ディスクの斜視図、第４図ｆａｔ （ｂｌ
は従来の一製造方法によって製造された磁気ディスクに
異なるタイプの磁気パターンを着磁した磁気ディスクの
斜視図、第５図＋ａ＋ （ｂ）は従来の他の製造方法に
よって製造された磁気ディスクに異なるタイプの磁気パ
ターンを着磁した磁気ディスクの斜視図、第６図ｔａｌ
ｆｂｌは従来のスパタリング装置の作用説明図を示し
、第６図ｆａ）はターゲットとして非磁性材料を用いた
ときの作用を示す説明図、第６図ｆｂｌはターゲットと
して磁性材料を用いたときの作用を示す説明図である。 ２１・・・・・・磁気ディスク ２２・・・・・・ディスク状基板 ３３・・・・・・ターゲット ３４・・・・・・磁石 ３５・・・・・・磁力線 ３６・・・・・・磁場 ７．３７・・・・・・電場 ８．３８・・・・・・放電ガス ９・・・・・・ランプヒータ １０・・・・・・電子 １１．２３・・・・・・磁気パターン １２・・・・・・磁性薄膜 ２４・・・・・・磁性塗料 第２図 第３図 （ａ） ｌ んａＪトミ耳瞑 第３図 （ｂ） 列３図 （Ｃ） 第４図 第４図 第５図 寞５図 （ｂ） 第６図 （０）６、 第６図 （ｂ） 貴嘱
ーダ用磁気ディスクの製造方法に用いる対向ターゲット
式スパタリング装置を示し、第１図ｔａ＋は概略説明図
、第１図（ｂ）は第１図（ａｌのＡ−Ａ線で切り矢視方
向に見た図、第２図は本発明により製造された磁気ディ
スクの斜視図、第３図（δ）ｆｂｌ ｆｃｌはそれぞれ
第２図の磁気ディスクに異なるタイプの磁気パターンを
着磁した磁気ディスクの斜視図、第４図ｆａｔ （ｂｌ
は従来の一製造方法によって製造された磁気ディスクに
異なるタイプの磁気パターンを着磁した磁気ディスクの
斜視図、第５図＋ａ＋ （ｂ）は従来の他の製造方法に
よって製造された磁気ディスクに異なるタイプの磁気パ
ターンを着磁した磁気ディスクの斜視図、第６図ｔａｌ
ｆｂｌは従来のスパタリング装置の作用説明図を示し
、第６図ｆａ）はターゲットとして非磁性材料を用いた
ときの作用を示す説明図、第６図ｆｂｌはターゲットと
して磁性材料を用いたときの作用を示す説明図である。 ２１・・・・・・磁気ディスク ２２・・・・・・ディスク状基板 ３３・・・・・・ターゲット ３４・・・・・・磁石 ３５・・・・・・磁力線 ３６・・・・・・磁場 ７．３７・・・・・・電場 ８．３８・・・・・・放電ガス ９・・・・・・ランプヒータ １０・・・・・・電子 １１．２３・・・・・・磁気パターン １２・・・・・・磁性薄膜 ２４・・・・・・磁性塗料 第２図 第３図 （ａ） ｌ んａＪトミ耳瞑 第３図 （ｂ） 列３図 （Ｃ） 第４図 第４図 第５図 寞５図 （ｂ） 第６図 （０）６、 第６図 （ｂ） 貴嘱
Claims (1)
- （１）所定の間隔で対向して配設される一対の強磁性材
料からなるターゲット間に、磁場と電場とを同時に作用
させてスパタリング蒸着する対向ターゲット式スパタリ
ング装置の、前記ターゲット間の側方に、複数のディス
ク状基板をその側面が前記ターゲット面に直交するよう
に配設するとともに、前記複数のディスク状基板を回転
させながらスパタリング蒸着することを特徴とするロー
タリーエンコーダ用磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23426588A JPH0281323A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | ロータリーエンコーダ用磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23426588A JPH0281323A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | ロータリーエンコーダ用磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0281323A true JPH0281323A (ja) | 1990-03-22 |
| JPH044530B2 JPH044530B2 (ja) | 1992-01-28 |
Family
ID=16968261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23426588A Granted JPH0281323A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | ロータリーエンコーダ用磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0281323A (ja) |
-
1988
- 1988-09-19 JP JP23426588A patent/JPH0281323A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH044530B2 (ja) | 1992-01-28 |
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