JPH0285353A - Method for coating plastic - Google Patents
Method for coating plasticInfo
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- JPH0285353A JPH0285353A JP23272188A JP23272188A JPH0285353A JP H0285353 A JPH0285353 A JP H0285353A JP 23272188 A JP23272188 A JP 23272188A JP 23272188 A JP23272188 A JP 23272188A JP H0285353 A JPH0285353 A JP H0285353A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はプラスチックのコーティング方法に関し、ざら
に詳しくは、真空蒸着法を用いて、2層に形成された誘
電体物質をベースコート膜とした侵、該膜上に種々の目
的、用途に応じた膜を形成させた場合、基板に対して優
れた密着性を有する蒸着膜を形成することのできるプラ
スチックのコーティング方法に関する。Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for coating plastics, and more specifically, the present invention relates to a coating method for plastics, and more specifically, a method for coating plastics using a vacuum evaporation method to coat dielectric materials formed in two layers as a base coat film. , relates to a plastic coating method that can form a deposited film that has excellent adhesion to a substrate when a film corresponding to various purposes and uses is formed on the film.
[従来の技術およびその課題]
透光性に優れたプラスチック材料は、軽量で機械的強度
に優れていると共に、加工性がよく、かつ自由にデザイ
ンできることから、特にガラスの代替用として、光学分
野等において幅広く用いられている。[Prior art and its problems] Plastic materials with excellent translucency are lightweight, have excellent mechanical strength, are easy to work with, and can be designed freely, so they have been used particularly in the optical field as a substitute for glass. It is widely used in etc.
現在多く使用されている透明プラスチックとしては、熱
可塑性のポリ塩化ビニル(PVC) 、ポリスチレン(
PS)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタク
リレート(PMMA)等や、熱硬化性のポリジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート(CR−39)等が
ある。Transparent plastics that are currently widely used include thermoplastic polyvinyl chloride (PVC) and polystyrene (
PS), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), and thermosetting polydiethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39).
これらのプラスチック類のうち、ポリメチルメタクリレ
ート(PMMA)は光学部品として、透明性、軽量性、
易加工性、耐衝撃性等に優れておリ、特に光の透過率は
他の樹脂と比べて最もよい。Among these plastics, polymethyl methacrylate (PMMA) is used as an optical component due to its transparency, lightweight,
It has excellent processability and impact resistance, and especially has the best light transmittance compared to other resins.
しかしながら、このプラスチック基材には大きな欠点が
2つあり、その第1は、表面硬度が低いため、摩擦や引
っかきなどによってその表面が損傷を受けやすいことで
ある。また第2は、光学特性を与えるために、プラスチ
ック基材に対し、金属層または金属化合物層を形成し、
これを鏡面として使用したり、あるいは導電膜等として
使用することがよく行われているが、密着性耐ヒート試
験において、剥離クラック(膜のひびわれ)等が発生す
るという問題が起きることである。However, this plastic substrate has two major drawbacks; the first is that its surface is easily damaged by friction, scratches, etc. due to its low surface hardness. The second method is to form a metal layer or a metal compound layer on the plastic base material in order to impart optical properties,
This is often used as a mirror surface or as a conductive film, but problems such as peeling cracks (cracks in the film) occur during adhesion heat resistance tests.
そこで、これらの欠点を改善するために、種々の方法が
提案されている。Therefore, various methods have been proposed to improve these drawbacks.
その方法の一つとして、プラスチック基材に金属蒸着模
を形成するに際して、密着強度を高めるため、下地層と
してのアンダーコート(紫外線硬化法、電子線照射硬化
法、熱硬化法等による形成)、あるいは保護膜としての
トップコートを施す方法がある。しかしながら、アンダ
ーコートやトップコートは、ムラが生じたり、異物が付
着することがあって、製造工程におけるクリーン度の維
持が必要であり、製造環境の整備が困難なうえ、大量生
産においての難点もあった。また、被膜の膜厚は通常3
〜51J!Itの範囲で塗膜化されているため、表面精
度を必要とするものには適さない。One of the methods is to form an undercoat as a base layer (formed by ultraviolet curing method, electron beam irradiation curing method, thermosetting method, etc.) in order to increase the adhesion strength when forming a metal vapor deposition pattern on a plastic base material. Alternatively, there is a method of applying a top coat as a protective film. However, undercoats and topcoats can be uneven or have foreign matter attached to them, so it is necessary to maintain a clean level during the manufacturing process, making it difficult to maintain a manufacturing environment and creating difficulties in mass production. there were. In addition, the film thickness of the film is usually 3
~51J! Since it is coated within the It range, it is not suitable for applications that require surface precision.
そのため真空蒸着法でこれらのアンダーコート膜、トッ
プコート膜を形成させ、密着性、ハードコート性を改善
する方法がいくつか報告されているが、これらの報告を
もとに、膜を形成しても十分な密着強度は得られず、実
用に耐える製品は(qられなかった。Therefore, several methods have been reported to improve adhesion and hard coat properties by forming undercoat films and topcoat films using vacuum evaporation methods. However, sufficient adhesion strength could not be obtained, and no product was found to be suitable for practical use.
これは、プラスチック基材がガラス等の無機物質と比較
して含水率、線膨張係数が大きく、また成形された際に
発生する残留応力も大きいことに起因すると考えられる
。そのため、プラスチック基材上に形成された膜につい
て、+70〜−30℃のヒートサイクル試験を行うと、
基材の伸縮に伴って、金属にヘアでクラックが生じたり
、また膜の剥離が起きたりする。This is thought to be due to the fact that the plastic base material has a higher water content and coefficient of linear expansion than inorganic substances such as glass, and also has a higher residual stress generated when molded. Therefore, when a heat cycle test at +70 to -30°C is performed on a film formed on a plastic base material,
As the base material expands and contracts, hairs may cause cracks in the metal, and the film may peel off.
以上のような真空蒸着の問題点を解決する手段としてプ
ラズマイオンブレーティング法や、蒸着の前に行うイオ
ンボンバード洗浄法がある。これらは共にガス(反応性
ガス、不活性ガス)を導入し、真空中で気体放電(励起
)させ、蒸発源から基材に入射してくる蒸発物をイオン
化することにより、真空蒸着では得難い特性の薄膜を形
成することができる。As means for solving the problems of vacuum evaporation as described above, there are a plasma ion blating method and an ion bombardment cleaning method performed before evaporation. Both of these are achieved by introducing a gas (reactive gas, inert gas), causing a gas discharge (excitation) in a vacuum, and ionizing the evaporated matter that enters the substrate from the evaporation source, resulting in characteristics that are difficult to obtain with vacuum evaporation. can form a thin film of
気体放電を発生させる方法には、マトツクス法、RF励
起法、多陰極法、ホロカソード法、バイアスプローグ法
等があり、どれも励起された反応性、もしくは不活性ガ
スのイオンや、励起粒子、ラジカル粒子等が真空槽内に
発生している。そして、この電荷をもつ粒子(蒸着分子
)を基材側の電圧により加速させ、引きつけ、これによ
り密着性の優れた膜をプラスチック基材上に形成させる
が、反面、蒸着槽に付着している他の蒸着分子も一緒に
スパッタされることとなる。そのため蒸着回数を何回も
重ねた真空槽内では、こういった活性化してはならない
イオンが増えるために、本来の目的とした膜の中に入り
込み、密着性が低下する原因になる場合がある。Methods for generating gas discharge include the matrix method, RF excitation method, multi-cathode method, holocathode method, and bias prog method, all of which use excited reactive or inert gas ions, excited particles, or radicals. Particles etc. are generated in the vacuum chamber. These charged particles (evaporation molecules) are then accelerated and attracted by the voltage on the substrate side, forming a film with excellent adhesion on the plastic substrate, but on the other hand, they adhere to the vapor deposition tank. Other vapor deposition molecules will also be sputtered together. Therefore, in a vacuum chamber where evaporation is repeated many times, these ions that should not be activated increase and may enter the intended film, causing a decrease in adhesion. .
以上の点から、プラスチック基材に、直接真空蒸着にて
金属膜を形成させることや、該表面との密着性の良いコ
ーテイング膜を形成することは困難でめった。From the above points, it has been difficult and difficult to form a metal film on a plastic substrate directly by vacuum deposition or to form a coating film with good adhesion to the surface.
[課題を解決するための手段]
本発明者は、最近ガラスからの代替用として需要の急増
しつつあるプラスチックレンズに、種々の目的に応え得
る光学膜また導電膜を形成させることを目的として鋭意
研究の結果、プラスチック基材の表面上に真空蒸着法に
て目的とする金属、誘電体物質等を形成させる際、ベー
ス膜としてシリコン(Si)含有物質を形成し、次いで
その上にセリウム(Ce)含有物質、タンタル(Ta)
含有物質または亜鉛(Zn)含有物質を形成させること
により、密着性、耐摩耗性ならびに耐ヒート性を著しく
向上し得ることを見い出して本発明を完成した。[Means for Solving the Problems] The present inventor has made extensive efforts with the aim of forming an optical film or a conductive film that can meet various purposes on plastic lenses, which have recently seen a rapid increase in demand as an alternative to glass. As a result of research, when forming a target metal, dielectric material, etc. on the surface of a plastic base material by vacuum evaporation, a silicon (Si)-containing material is formed as a base film, and then a cerium (Ce)-containing material is formed on the base film. ) containing substance, tantalum (Ta)
The present invention was completed by discovering that adhesion, abrasion resistance, and heat resistance can be significantly improved by forming a zinc (Zn)-containing substance or a zinc (Zn)-containing substance.
即ち本発明は、プラスチック基材の表面上に下記[1]
からなる物質を膜厚10〜10000人で真空蒸着して
第1の膜を形成した後、該第1の膜上に下記[2]から
なる物質を真空蒸着して第2の膜を形成し、前記第1お
よび第2の膜をベースコート膜として用いてなることを
特徴とするプラスチックのコーティング方法である。That is, the present invention provides the following [1] on the surface of a plastic base material.
After forming a first film by vacuum evaporating a substance consisting of 10 to 10,000 layers in thickness, a second film is formed by vacuum evaporating a substance consisting of the following [2] on the first film. , a plastic coating method characterized in that the first and second films are used as base coat films.
■シリコン単体またはシリコン含有酸化物■セリウム含
有酸化物あるいは沸化物、タンタル含有酸化物、または
亜鉛含有酸化物あるいは硫化物を60重量%以上含む誘
電体物質本発明は、特にセリウム(ce)含有物質等が
プラスチックおよびシリコンに対して共に相性が良いと
いう知見に基づいてなされたもので、このベース膜を介
在させ、目的とされる金属、誘電体物質等の単層もしく
は多層蒸着された導電膜、光学膜は、密着性、耐摩耗性
、耐ヒート試験等に優れた結果を示す。■ Simple silicon or silicon-containing oxide ■ Dielectric material containing 60% by weight or more of cerium-containing oxide or fluoride, tantalum-containing oxide, or zinc-containing oxide or sulfide The present invention particularly applies to cerium (ce)-containing materials. This was based on the knowledge that these materials are compatible with both plastics and silicon, and with this base film interposed, a conductive film of the desired metal, dielectric material, etc. is deposited in a single layer or in multiple layers, The optical film shows excellent results in adhesion, abrasion resistance, heat resistance tests, etc.
本発明の方法において用いられるプラスチック基材とし
ては、例えば、熱可塑性樹脂のポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル
、メチルメタクリレートと他のビニル七ツマ−との共重
合体等、また熱硬化性樹脂のポリジエチレングリコール
ビスアリルカーボネート等が挙げられ、これらの樹脂を
射出成形法またはキャスト成形法によって製造された板
またはレンズである。このうち、透光性に優れたポリメ
チルメタクリレートは特に好ましいものである。Plastic substrates used in the method of the present invention include, for example, thermoplastic resins such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyvinyl chloride, copolymers of methyl methacrylate and other vinyl heptamers, and thermosetting resins. Examples of such resins include polydiethylene glycol bisallyl carbonate, etc., and plates or lenses manufactured from these resins by injection molding or cast molding. Among these, polymethyl methacrylate, which has excellent translucency, is particularly preferred.
これらのプラスチック基材の表面に、真空蒸着にて膜を
形成する際には、基材表面上に、やけ、指紋、油等の汚
れが存在する場合があるため、中性洗剤やフロン等にて
洗浄し、脱脂、および表面の水の脱水を行う。またプラ
スチック基材の種類によっては吸水率の非常に高いもの
があるため、洗浄終了後、予備乾燥をしておくことが望
ましい。When forming a film on the surface of these plastic substrates by vacuum deposition, there may be stains such as burns, fingerprints, and oil on the surface of the substrate, so do not use neutral detergents, Freon, etc. Clean, degrease, and dehydrate the surface. Furthermore, since some types of plastic substrates have very high water absorption rates, it is desirable to pre-dry them after washing.
こうして前工程を終えた基材を真空蒸着するわけである
が、この時用いる蒸着装置は公知のものでよく、排気系
については拡散ポンプ、クライオポンプどちらでもよく
、特に指定はない。また、この時の条件としては、開始
真空度2 X 10−5 Torr以下が望ましい。The base material that has undergone the previous step is subjected to vacuum evaporation, and the evaporation equipment used at this time may be of any known type, and the exhaust system may be either a diffusion pump or a cryopump, and is not particularly specified. Further, as the conditions at this time, it is desirable that the starting degree of vacuum is 2×10 −5 Torr or less.
また、本発明の方法において使用される誘電体物質とし
ては、例えば、二酸化チタン(Ti02)、酸化ジルコ
ニウム(、ZrO2) 、アルミナ(Al2O3>、二
酸化ケイ素(5i02 ) 、フッ化マグネシウム()
I(]F2 ) 、その他誘電体物質同士の混合物等が
挙げられるが、特に物質に限定はない。Furthermore, examples of dielectric materials used in the method of the present invention include titanium dioxide (Ti02), zirconium oxide (ZrO2), alumina (Al2O3>, silicon dioxide (5i02), and magnesium fluoride ()).
Examples include I(]F2) and mixtures of other dielectric substances, but the substance is not particularly limited.
また金属としては、M、 Cr、八g、 Cu、 Bi
、 In。Also, as metals, M, Cr, 8g, Cu, Bi
, In.
Hg、 Ni、 Se、丁e、 Ti、 AU、その他
金属同士の混合物等が挙げられるが、特に物質に限定は
ない。Examples include Hg, Ni, Se, Te, Ti, AU, and mixtures of other metals, but the substance is not particularly limited.
[実施例] 次に本発明の実施例について説明する。[Example] Next, examples of the present invention will be described.
実施例1〜2.比較例1〜3
基材として、1.492(20℃時)の屈折率を有する
PMMA樹脂を用い、これを超音波洗浄を通した後、ア
ニール乾燥したものを真空蒸着装置内のドームに取付け
、真空にした。このとき基板温度70℃にセットし、真
空度2.0X10−5TOrrまで排気した。Examples 1-2. Comparative Examples 1 to 3 A PMMA resin having a refractive index of 1.492 (at 20°C) was used as a base material, and after being subjected to ultrasonic cleaning, it was annealed and dried, and then attached to a dome in a vacuum evaporation device. , vacuum was applied. At this time, the substrate temperature was set at 70° C., and the vacuum was evacuated to a degree of vacuum of 2.0×10 −5 TOrr.
次に、下記の表−1に示す5種の条件にて反射防止層を
形成した。Next, an antireflection layer was formed under five conditions shown in Table 1 below.
得られた各アクリル板について、以下に示す各条件で環
境試験を行った。Environmental tests were conducted on each of the obtained acrylic plates under the following conditions.
■テープテスト:
粘着テープの剥離試験 20回
■ヒートテスト:
温度70℃の雰囲気中に48hr放置
その結果を併せて表−1に示す。なお、表中、層数は基
材よりの層数を示す。■Tape test: Peeling test of adhesive tape 20 times ■Heat test: Leaving in an atmosphere at a temperature of 70°C for 48 hours.The results are also shown in Table 1. In addition, in the table, the number of layers indicates the number of layers from the base material.
(以下余白)
表−1かられかるように、実施例1と2は、密着性およ
び耐ヒート性において、いずれもよい結果を示した。(The following is a blank space) As can be seen from Table 1, Examples 1 and 2 both showed good results in terms of adhesion and heat resistance.
比較例1においては密着性、耐ヒート性共に悪く、比較
例2においては、基板に直接Ce含有物質を使用したた
め、密着性は良好だが、Siを介在させていないため、
ヒートテストにて微細なりラックが発生した。比較例3
においては、1層目の5i02の物理的膜厚がi i
、 300人と多過ぎのため、密着性が悪い。In Comparative Example 1, both adhesion and heat resistance were poor, and in Comparative Example 2, the adhesion was good because the Ce-containing substance was used directly on the substrate, but since no Si was interposed,
A minute rack occurred during the heat test. Comparative example 3
, the physical thickness of the first layer 5i02 is i i
, There were too many people (300 people), so the close contact was poor.
各実施例および比較例で1qられた蒸着膜の部分断面図
をそれぞれ第1図(a)(実施例1)、第1図(b)(
実施例2)、第1図(C)(比較例1)、第1図(d)
(比較例2)および第1図(e)(比較例3)に示す。Partial cross-sectional views of the deposited films 1q in each Example and Comparative Example are shown in FIG. 1(a) (Example 1) and FIG. 1(b)(
Example 2), Figure 1(C) (Comparative Example 1), Figure 1(d)
(Comparative Example 2) and FIG. 1(e) (Comparative Example 3).
図中、1は基材、2は5i02.3はCeF3.4はH
(JFz 、5はCeO2,6はceo2十TiO2(
20%)である。In the figure, 1 is the base material, 2 is 5i02.3 is CeF3.4 is H
(JFz, 5 is CeO2, 6 is CEO2 + TiO2 (
20%).
また、第2図にこれらの光学特性図を示す。図中、A−
B、C−Eはそれぞれ実施例1,2、比較例1,2.3
に対応する。なお、Fは反射防止層がない場合の反射率
を示す。Further, FIG. 2 shows a diagram of these optical characteristics. In the figure, A-
B and C-E are Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.3, respectively.
corresponds to Note that F indicates the reflectance when there is no antireflection layer.
実施例3.比較例4
本例ではグイクロコート(ZnS/ )fgF2の交互
層10層)を形成させる際、本発明によるベース膜を介
在させた場合と、させない場合との比較試験を行った。Example 3. Comparative Example 4 In this example, a comparative test was conducted between the case where the base film according to the present invention was interposed and the case where the base film according to the present invention was not interposed when forming Gicrocoat (10 alternating layers of ZnS/)fgF2).
実施例1と同じ条件にて排気し、以下の膜構成にて蒸着
を行い、密着性テストを行った。Evacuating under the same conditions as in Example 1, vapor deposition was performed with the following film configuration, and an adhesion test was conducted.
実施例3
基材I 5i02/ CeO2/ ZnS/ H(J
F2 / ZnS/ HgF2 / ZnS/ H!J
F2 / ZnS/ MOF2 /2nS/ H(]F
2 I空気 とベースコート膜を含む12層コートを
行った。Example 3 Base material I 5i02/CeO2/ZnS/H(J
F2 / ZnS / HgF2 / ZnS / H! J
F2 / ZnS/ MOF2 /2nS/ H(]F
A 12 layer coating including 2 I air and a base coat film was performed.
膜厚は5i02、ceo2は各1/8・λ0(λo=
550nm)
ZnS、 HgF2は各1/4・λ0(λo= 55
0nm)
(このとき使用したCeO2は、CeO2+Ti02(
5%)配合)
比較例4
基材I ZnS/ H(lFz / ZnS/ Hg
F2/ ZnS/M(JF2/ ZnS/ H(]F2
/ ZnS/ HClF2 l空気と10層コート
を行った。The film thickness is 5i02, and CEO2 is each 1/8・λ0 (λo=
550nm) ZnS and HgF2 are each 1/4・λ0 (λo=55
0nm) (CeO2 used at this time was CeO2+Ti02(
Comparative Example 4 Base material I ZnS/H (lFz/ZnS/Hg
F2/ZnS/M(JF2/ZnS/H(]F2
/ZnS/HClF2 l air and 10 layers coating was performed.
膜厚は各1/4・λ0 (λo= 550nm)得られ
たダイクロ膜を有するアクリル樹脂板の性能評価をした
ところ、表−2に示すような結果が得られた。The film thickness was 1/4·λ0 (λo=550 nm). When the performance of the obtained acrylic resin plate with the dichroic film was evaluated, the results shown in Table 2 were obtained.
表−2
本2)密着性テスト:
ダイクロ膜層に1mm間隔のioxlommのゴバンの
目をカッターナイフで線を入れ、これにセロハンテープ
を貼り剥したとき、剥れ落らた個数である(分子は残っ
た数でおる)。Table 2 Book 2) Adhesion test: When lines are made with a cutter knife at 1 mm intervals of ioxlomm on the dichrome film layer and cellophane tape is applied and peeled off, this is the number of pieces that peeled off (molecular is the remaining number).
83)撮動テスト:
約2分間隔の速度で連続的に変化する単弦調和撮動(2
0〜60H2周期)を上下、左右方向に各々20分間、
計1時間行う。この時、蒸着膜が基板から落ちない場合
を良好、基板から落ちた場合を不良とする。83) Imaging test: Single-chord harmonic imaging (2
0 to 60H2 cycles) for 20 minutes each in the vertical and horizontal directions.
It will last for a total of 1 hour. At this time, the case where the deposited film does not fall off the substrate is judged as good, and the case where it falls off the substrate is judged as bad.
実施例4
本例では金属コーティングを行う際、ベース膜(5i0
2 / CeF3)を介在させた時の密着性を調べた。Example 4 In this example, when performing metal coating, a base film (5i0
2/CeF3) was interposed.
熱硬化性樹脂のポリジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネイト(CR−39>の角板(縦100mm。A square plate (height: 100 mm) of thermosetting resin polydiethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39).
横100mm、板厚3mm)を超音波洗浄にて中性洗剤
−純水−フロンで洗浄を行った。次いで、蒸着面を下に
向け、真空槽に装填した。基板温度を70〜80℃に維
持しつつ2X10−5丁orrまで排気し、ベース膜と
して5i02を膜厚100人、CeF3 100%を膜
厚200人蒸着した後、金属CuおよびCrをそれぞれ
1000人の膜厚でコートした。(width: 100 mm, board thickness: 3 mm) was ultrasonically cleaned using neutral detergent, pure water, and Freon. Then, it was loaded into a vacuum chamber with the vapor deposition side facing down. While maintaining the substrate temperature at 70 to 80°C, the temperature was evacuated to 2X10-5 orr, and after evaporating 5i02 as a base film with a thickness of 100 layers and 100% CeF3 with a thickness of 200 layers, metals Cu and Cr were deposited with a thickness of 1000 layers each. It was coated with a film thickness of
密着性テストを実施例3と同じ条件にて行ったが、結果
は100/ 100と優れた結果を示した。An adhesion test was conducted under the same conditions as in Example 3, and the results showed an excellent result of 100/100.
実施例5,6
本例では、アクリル成形品上に、ベース膜として、5i
02 /丁a205を介在させた場合(実施例5)およ
び5i02 / ZnOを介在させた場合(実施例6)
の耐ヒート性を調べた。Examples 5 and 6 In this example, 5i was used as a base film on the acrylic molded product.
02/Cho a205 (Example 5) and 5i02/ZnO (Example 6)
The heat resistance of the material was investigated.
熱可塑性樹脂のポリメチルメタクリレート(P)f)f
A )の角板(l 100mm1横100mm 、板厚
3mm)を超音波洗浄にて中性洗剤−純水−フロンで洗
浄を行った後、蒸着面を下に向け、真空槽に装填した。Thermoplastic resin polymethyl methacrylate (P)f)f
A square plate (100 mm x 100 mm, plate thickness: 3 mm) was ultrasonically cleaned with neutral detergent, pure water, and chlorofluorocarbons, and then loaded into a vacuum chamber with the deposition surface facing down.
以下、実施例4と同じ条件にて排気し、表−3の通り蒸
着を行った。Thereafter, the vacuum was evacuated under the same conditions as in Example 4, and vapor deposition was performed as shown in Table 3.
(以下余白)
表−3
λo= 550nlll (5500人)蒸着後、4
8時間経過後、下記に示すヒートサイクルテストを行っ
たが、実施例5,6共にクラックの発生がなく、異常は
認められなかった。(Left below) Table 3 λo = 550nllll (5500 people) After deposition, 4
After 8 hours had elapsed, a heat cycle test as shown below was conducted, but in both Examples 5 and 6, no cracks were generated and no abnormalities were observed.
ヒートサイクルテスト条件:
+70〜−30℃X10サイクル
上記ヒ一トサイクルテスト条件を図示すると第3図のよ
うになる。同図は、縦軸に温度、横軸に時間をとったも
のである。Heat cycle test conditions: +70 to -30°C x 10 cycles The above heat cycle test conditions are illustrated in FIG. 3. In the figure, the vertical axis represents temperature and the horizontal axis represents time.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明のコーティング方法によっ
てプラスチック基材に蒸着された光学膜、導電膜等は密
着性および耐摩耗性等に優れ、基材の面精能を下げるこ
となく、所望の光学特性、電気特性等を満足することが
でき、特に密着性においては、優れた結果を示す。[Effects of the Invention] As explained above, the optical film, conductive film, etc. deposited on a plastic base material by the coating method of the present invention has excellent adhesion and abrasion resistance, and does not reduce the surface precision of the base material. However, the desired optical properties, electrical properties, etc. can be satisfied, and especially excellent results are shown in terms of adhesion.
第1図は本発明の実施例によって得られた蒸着膜の部分
断面図、第2図はそれらの光学特性図、第3図はヒート
サイクル条件を示す図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a vapor deposited film obtained according to an example of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing their optical characteristics, and FIG. 3 is a diagram showing heat cycle conditions.
Claims (1)
物質を膜厚10〜10000Åで真空蒸着して第1の膜
を形成した後、該第1の膜上に下記[2]からなる物質
を真空蒸着して第2の膜を形成し、前記第1および第2
の膜をベースコート膜として用いてなることを特徴とす
るプラスチックのコーティング方法。 [1]シリコン単体またはシリコン含有酸化物[2]セ
リウム含有酸化物あるいは沸化物、タンタル含有酸化物
、または亜鉛含有酸化物あるいは硫化物を60重量%以
上含む誘電体物質(1) After forming a first film by vacuum-depositing a substance consisting of the following [1] to a film thickness of 10 to 10,000 Å on the surface of a plastic base material, a substance consisting of the following [2] is deposited on the first film. vacuum depositing a substance to form a second film;
A method for coating plastics, characterized in that the film is used as a base coat film. [1] Single silicon or silicon-containing oxide [2] Dielectric material containing 60% by weight or more of cerium-containing oxide or fluoride, tantalum-containing oxide, or zinc-containing oxide or sulfide
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23272188A JPH0285353A (en) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | Method for coating plastic |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23272188A JPH0285353A (en) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | Method for coating plastic |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0285353A true JPH0285353A (en) | 1990-03-26 |
Family
ID=16943746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23272188A Pending JPH0285353A (en) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | Method for coating plastic |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0285353A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010077483A (en) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Shincron:Kk | Method for manufacturing optical filter |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62134601A (en) * | 1985-12-06 | 1987-06-17 | Olympus Optical Co Ltd | Reflection reducing film for optical parts and its preparation |
| JPS63111167A (en) * | 1986-10-30 | 1988-05-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of plastic article coated with inorganic thin film |
-
1988
- 1988-09-19 JP JP23272188A patent/JPH0285353A/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62134601A (en) * | 1985-12-06 | 1987-06-17 | Olympus Optical Co Ltd | Reflection reducing film for optical parts and its preparation |
| JPS63111167A (en) * | 1986-10-30 | 1988-05-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of plastic article coated with inorganic thin film |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010077483A (en) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Shincron:Kk | Method for manufacturing optical filter |
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