JPH0288785A - 電解電極材の製造方法 - Google Patents
電解電極材の製造方法Info
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- JPH0288785A JPH0288785A JP63240032A JP24003288A JPH0288785A JP H0288785 A JPH0288785 A JP H0288785A JP 63240032 A JP63240032 A JP 63240032A JP 24003288 A JP24003288 A JP 24003288A JP H0288785 A JPH0288785 A JP H0288785A
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Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電解電極材の製造方法に関し、特に耐食性の
優れた電解電極材の製造方法に係わる。
優れた電解電極材の製造方法に係わる。
[従来の技術及び課題]
例えば、海水を電解して次亜塩素酸
(Na C)O)を発生させ、該海水をプラントの冷却
水、下水道などの滅菌に使用して水路が海洋生物によっ
て閉塞されるのを防ぐ方法は、広く採用されている。こ
の電解においては、陽極で塩素を発生させて次亜塩素酸
ナトリウムが生成されるが、同時に酸素発生を起こし易
いため、電解に用いる電極材は激しい腐蝕性環境に曝さ
れ、しかも高い電極活性が求められる。かかる環境に耐
える結晶質金属としては、従来より白金族金属が使用さ
れている。しかしなから、白金族金属は高価であるため
、経済性の観点から他の代替材料の開発が要望されてい
る。
水、下水道などの滅菌に使用して水路が海洋生物によっ
て閉塞されるのを防ぐ方法は、広く採用されている。こ
の電解においては、陽極で塩素を発生させて次亜塩素酸
ナトリウムが生成されるが、同時に酸素発生を起こし易
いため、電解に用いる電極材は激しい腐蝕性環境に曝さ
れ、しかも高い電極活性が求められる。かかる環境に耐
える結晶質金属としては、従来より白金族金属が使用さ
れている。しかしなから、白金族金属は高価であるため
、経済性の観点から他の代替材料の開発が要望されてい
る。
このようなことから、電解電極材をアモルファス合金に
より製造することが検討されている。アモルファス合金
の中には、極めて高い耐食性を有するものがあり、塩素
を含む環境下でも腐蝕劣化を抑制できることが知られて
いる。しかしなから、アモルファス合金は通常、液体急
冷法で作られているため、その手法から形状的に薄帯、
細線、粉末等に制約される。このため、目的とする電解
電極材を製造することが困難であった。
より製造することが検討されている。アモルファス合金
の中には、極めて高い耐食性を有するものがあり、塩素
を含む環境下でも腐蝕劣化を抑制できることが知られて
いる。しかしなから、アモルファス合金は通常、液体急
冷法で作られているため、その手法から形状的に薄帯、
細線、粉末等に制約される。このため、目的とする電解
電極材を製造することが困難であった。
一方、活性の高いTI基材をPt−1rからなる合金層
で被覆したTi系電解電極材が知られているが、電流効
率が80%程度に止まるという問題があった。また、高
活性である酸化ルテニウム、酸化イリジウム又は酸化ス
ズからなる酸化物層でT1基材を被覆したTi系電解電
極材が知られており、この電極材では85%以上の電流
効率を示すものの、前記酸化物膜の基材からの離脱によ
る経時変化が認められ、使用初期のみにしか高電流効率
を実現できないとう問題があった。
で被覆したTi系電解電極材が知られているが、電流効
率が80%程度に止まるという問題があった。また、高
活性である酸化ルテニウム、酸化イリジウム又は酸化ス
ズからなる酸化物層でT1基材を被覆したTi系電解電
極材が知られており、この電極材では85%以上の電流
効率を示すものの、前記酸化物膜の基材からの離脱によ
る経時変化が認められ、使用初期のみにしか高電流効率
を実現できないとう問題があった。
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたも
ので、比較的低い陽極電位において高い電流効率を示し
、かつ耐食性及び耐久性に優れた電解電極材を製造し得
る方法を提供しようとするものである。
ので、比較的低い陽極電位において高い電流効率を示し
、かつ耐食性及び耐久性に優れた電解電極材を製造し得
る方法を提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、金属基材の表面に少なくとも1種以上の鉄族
元素(FeSN1%Co)とTi 1Zr %Nb及び
Taから選ばれる少なくとも1種以上の金属元素と少な
くとも1種以上の白金族元素との合金からなるアモルフ
ァス合金層を前記合金の蒸着と同時に前記鉄族元素、金
属元素、白金族元素又は不活性ガスのイオンを照射する
イオンビームミキシング法により形成する工程と、この
アモルファス合金層を酸で処理する工程とを具備したこ
とを特徴とする電解電極材の製造方法である。
元素(FeSN1%Co)とTi 1Zr %Nb及び
Taから選ばれる少なくとも1種以上の金属元素と少な
くとも1種以上の白金族元素との合金からなるアモルフ
ァス合金層を前記合金の蒸着と同時に前記鉄族元素、金
属元素、白金族元素又は不活性ガスのイオンを照射する
イオンビームミキシング法により形成する工程と、この
アモルファス合金層を酸で処理する工程とを具備したこ
とを特徴とする電解電極材の製造方法である。
上記鉄族元素としては、F e SN I s Coを
挙げることかできる。
挙げることかできる。
上記白金族元素としては、Pt、Pd、Ir、Rh s
Ru s Osを挙げることができる。
Ru s Osを挙げることができる。
上記合金の蒸着手段としては、各種の蒸着法を採用し得
るが、特に高真空度での成膜が可能な電子ビームによる
真空蒸着又はターゲットを利用したイオンビームスパッ
タ法が好ましい。
るが、特に高真空度での成膜が可能な電子ビームによる
真空蒸着又はターゲットを利用したイオンビームスパッ
タ法が好ましい。
また、本発明はアモルファス層の金属基材表面への形成
に先立ち、該基材表面に少なくとも1種以上の鉄族元素
、又はT I 、Z r −、N b及びTaから選ば
れる少なくとも1種以上の金属元素のイオンを照射して
イオン注入層を形成することを特徴とするものである。
に先立ち、該基材表面に少なくとも1種以上の鉄族元素
、又はT I 、Z r −、N b及びTaから選ば
れる少なくとも1種以上の金属元素のイオンを照射して
イオン注入層を形成することを特徴とするものである。
更に、本発明は金属基材の表面に少なくとも1種以上の
鉄族元素とTi%Z r SN b及びTaから選ばれ
る少なくとも1種以上の金属元素との合金の蒸着と同時
に少なくとも1種以上の白金族元素イオンを照射するイ
オンビームミキシング法によりアモルファス合金層を形
成する工程と、このアモルファス合金層を酸で処理する
工程とを具備したことを特徴とする電解電極材の製造方
法である。
鉄族元素とTi%Z r SN b及びTaから選ばれ
る少なくとも1種以上の金属元素との合金の蒸着と同時
に少なくとも1種以上の白金族元素イオンを照射するイ
オンビームミキシング法によりアモルファス合金層を形
成する工程と、このアモルファス合金層を酸で処理する
工程とを具備したことを特徴とする電解電極材の製造方
法である。
[作用]
本発明によれば、少なくとも1種以上の鉄族元素とT1
、Zr5Nb及びTaから選ばれる少なくとも1種以上
の金属元素と少なくとも1種以上の白金族元素との合金
を電子ビームによる真空蒸着法などの蒸着手段により成
膜することによって、前記合金からなる高純度のアモル
ファス合金層を金属基材表面に形成できる。また、蒸着
と同時に鉄族元素、金属元素、白金属元素又は不活性ガ
スをイオン照射してイオンビームミキシングを行なうこ
とによって、前記アモルファス合金層の基材に対する密
着性を向上でき、しかもイオンビームの照射条件は独立
して制御できるため該アモルファス合金層の緻密化、平
滑化等を達成し易くなる。
、Zr5Nb及びTaから選ばれる少なくとも1種以上
の金属元素と少なくとも1種以上の白金族元素との合金
を電子ビームによる真空蒸着法などの蒸着手段により成
膜することによって、前記合金からなる高純度のアモル
ファス合金層を金属基材表面に形成できる。また、蒸着
と同時に鉄族元素、金属元素、白金属元素又は不活性ガ
スをイオン照射してイオンビームミキシングを行なうこ
とによって、前記アモルファス合金層の基材に対する密
着性を向上でき、しかもイオンビームの照射条件は独立
して制御できるため該アモルファス合金層の緻密化、平
滑化等を達成し易くなる。
こうしたアモルファス合金層の表面では、原子配列が乱
雑無秩序にかつ高密度で入り乱れた状態となっているた
め、該アモルファス合金層の形成後に酸で処理すること
によって、該合金層表面において白金属元素は腐蝕され
ず、他の金属成分のみが選択的かつ均一に腐蝕、溶出し
て表面に白金属元素が均一に残留する。従って、基材上
に表面に白金属元素が均一に露出し、かつ無数の微細な
凹凸を有すると共に前記原子配列の乱れをもつ極めて表
面活性の高いアモルファス合金層を形成できるため、比
較的低い陽極電位において高い電流効率を示し、かつ該
アモルファス合金層による耐食性及び耐久性が付与され
、更に形状的な制約を受けず任意形状の電解電極材を製
造できる。
雑無秩序にかつ高密度で入り乱れた状態となっているた
め、該アモルファス合金層の形成後に酸で処理すること
によって、該合金層表面において白金属元素は腐蝕され
ず、他の金属成分のみが選択的かつ均一に腐蝕、溶出し
て表面に白金属元素が均一に残留する。従って、基材上
に表面に白金属元素が均一に露出し、かつ無数の微細な
凹凸を有すると共に前記原子配列の乱れをもつ極めて表
面活性の高いアモルファス合金層を形成できるため、比
較的低い陽極電位において高い電流効率を示し、かつ該
アモルファス合金層による耐食性及び耐久性が付与され
、更に形状的な制約を受けず任意形状の電解電極材を製
造できる。
また、アモルファス合金層の金属基材表面への形成に先
立ち、該基材表面に少なくとも1種以上の鉄族元素、又
はTi、Zr、Nb及びTaから選ばれる少なくとも1
種以上の金属元素のイオンを照射することによって、イ
オン注入の打ち込み効果と基材の深さ方向に成分組成が
段階的に変化した構造を有する密着性の優れたイオン注
入層(界面Jiii)を形成できるため、この後にアモ
ルファス層を形成し、酸で処理することにより、基材に
対して表面に白金属元素が均一に露出したアモルファス
合金層を一層密着性よく、かつ全体的に耐剥離性の富ん
だ電解電極材を製造できる。
立ち、該基材表面に少なくとも1種以上の鉄族元素、又
はTi、Zr、Nb及びTaから選ばれる少なくとも1
種以上の金属元素のイオンを照射することによって、イ
オン注入の打ち込み効果と基材の深さ方向に成分組成が
段階的に変化した構造を有する密着性の優れたイオン注
入層(界面Jiii)を形成できるため、この後にアモ
ルファス層を形成し、酸で処理することにより、基材に
対して表面に白金属元素が均一に露出したアモルファス
合金層を一層密着性よく、かつ全体的に耐剥離性の富ん
だ電解電極材を製造できる。
更に、金属基材の表面に少なくとも1種以上の鉄族元素
とTi 、Zr s Nb及びTaから選ばれる少なく
とも1種以上の金属元素との合金の蒸着と同時に少なく
とも1種以上の白金族元素イオンを照射するイオンビー
ムミキシング法によりアモルファス合金層を形成した後
、該アモルファス合金層を酸で処理することによって、
既述した方法と同様、基材上に表面に白金属元素が均一
に露出し、かつ無数の微細な凹凸を有すると共に前記原
子配列の乱れをもつ極めて表面活性の高いアモルファス
合金層を形成できるため、比較的低い陽極電位において
高い電流効率を示し、かつ該アモルファス合金層による
耐食性及び耐久性が付与され、更に形状的な制約を受け
ず任意形状の電解電極材を製造できる。
とTi 、Zr s Nb及びTaから選ばれる少なく
とも1種以上の金属元素との合金の蒸着と同時に少なく
とも1種以上の白金族元素イオンを照射するイオンビー
ムミキシング法によりアモルファス合金層を形成した後
、該アモルファス合金層を酸で処理することによって、
既述した方法と同様、基材上に表面に白金属元素が均一
に露出し、かつ無数の微細な凹凸を有すると共に前記原
子配列の乱れをもつ極めて表面活性の高いアモルファス
合金層を形成できるため、比較的低い陽極電位において
高い電流効率を示し、かつ該アモルファス合金層による
耐食性及び耐久性が付与され、更に形状的な制約を受け
ず任意形状の電解電極材を製造できる。
[実施例]
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例1
まず、基材としての20x 20X 211mの寸法の
Ti板を用意し、この片面を鏡面研磨し、超音波洗浄を
施した後、イオン照射と蒸着機能を備えた真空チャンバ
内に設置した。つづいて、このチャンバ内を5 X 1
O−6torrに真空引きした後、イオン源からA「イ
オンを加速電圧5 keVの条件でTi板の鏡面に5分
間照射して表面清浄化のための前処理を施した。次いで
、Ni −40at%Nb −1,5at%Pdの組成
のターゲットを用い、加速電圧3keV、イオン電流1
.5AのA「イオンでイオンビームスパッタ蒸着を行な
うと同時に別のイオン源からArイオンを引きだし、加
速電圧150keV、イオン電流密度2.0mA/dの
条件でイオン照射して厚さ8μmで前記ターゲットとほ
ぼ同組成のアモルファス合金層が被覆された複合材料を
製造した。
Ti板を用意し、この片面を鏡面研磨し、超音波洗浄を
施した後、イオン照射と蒸着機能を備えた真空チャンバ
内に設置した。つづいて、このチャンバ内を5 X 1
O−6torrに真空引きした後、イオン源からA「イ
オンを加速電圧5 keVの条件でTi板の鏡面に5分
間照射して表面清浄化のための前処理を施した。次いで
、Ni −40at%Nb −1,5at%Pdの組成
のターゲットを用い、加速電圧3keV、イオン電流1
.5AのA「イオンでイオンビームスパッタ蒸着を行な
うと同時に別のイオン源からArイオンを引きだし、加
速電圧150keV、イオン電流密度2.0mA/dの
条件でイオン照射して厚さ8μmで前記ターゲットとほ
ぼ同組成のアモルファス合金層が被覆された複合材料を
製造した。
実施例2
前記実施例1でのアモルファス合金層の形成に先立ち、
質量分離型イオン源からNbイオンを引きだし、加速電
圧180 k e V、ビーム電流1.5mAでTl板
表面に照射してNbイオン注入層を形成した以外、実施
例1と同様な方法によりNi −40at%Nb −1
,5at%Pdの組成のアモルファス合金層が被覆され
た複合材料を製造した。
質量分離型イオン源からNbイオンを引きだし、加速電
圧180 k e V、ビーム電流1.5mAでTl板
表面に照射してNbイオン注入層を形成した以外、実施
例1と同様な方法によりNi −40at%Nb −1
,5at%Pdの組成のアモルファス合金層が被覆され
た複合材料を製造した。
実施例3
実施例1と同様な研磨、表面清浄化処理を施したTi板
の表面にN1−40at%Nbの組成のターゲットを用
いて加速電圧3keV、イオン電流1.5 AのArイ
オンでイオンビームスパッタ蒸着を行なうと同時に別の
イオン源からPdイオンを引きだし、加速電圧150k
eV、イオン電流密度0.5mA/dの条件でイオン照
射して厚さ3μmでN1−40at%Nb −1,5a
t%Pdの組成のアモルファス合金層が被覆された複合
材料を製造した。
の表面にN1−40at%Nbの組成のターゲットを用
いて加速電圧3keV、イオン電流1.5 AのArイ
オンでイオンビームスパッタ蒸着を行なうと同時に別の
イオン源からPdイオンを引きだし、加速電圧150k
eV、イオン電流密度0.5mA/dの条件でイオン照
射して厚さ3μmでN1−40at%Nb −1,5a
t%Pdの組成のアモルファス合金層が被覆された複合
材料を製造した。
比較例1
実施例1と同様な研磨、表面清浄化処理を施したTi板
を市販のマグネトロンスパッタ装置により厚さ3 μm
のNi −40at%Nb −1,58t%Pdのアモ
ルファス合金層を形成して複合材料を製造した。
を市販のマグネトロンスパッタ装置により厚さ3 μm
のNi −40at%Nb −1,58t%Pdのアモ
ルファス合金層を形成して複合材料を製造した。
しかして、本実施例1〜3及び比較例1のアモルファス
合金層被覆複合材料について断面組織をSEXで観察し
た。その結果、本実施例1〜3はいずれもアモルファス
合金層の組織が緻密で均一な相を有し、T1板との界面
にも何等の欠陥も認められなかった。これに対し、比較
例1の複合材料ではアモルファス合金層の組織に不均一
な相が一部認められ、またTiとの界面にボアー発生が
認められ、良質なアモルファス合金層とは評価し得なか
った。
合金層被覆複合材料について断面組織をSEXで観察し
た。その結果、本実施例1〜3はいずれもアモルファス
合金層の組織が緻密で均一な相を有し、T1板との界面
にも何等の欠陥も認められなかった。これに対し、比較
例1の複合材料ではアモルファス合金層の組織に不均一
な相が一部認められ、またTiとの界面にボアー発生が
認められ、良質なアモルファス合金層とは評価し得なか
った。
また、本実施例1〜3及び比較例1のアモルファス合金
層被覆複合材料を80℃、pH4の4M−NaCノ溶液
中に浸漬して電解試験を行なったところ、比較例の複合
材料ではTi板との境界面で腐蝕が進行し、剥離状態と
なっが、本実施例1〜3の複合材料ではTi板の境界面
での特別な腐蝕が進行する現象は認められず、界面での
耐久性の良好さが観察された。
層被覆複合材料を80℃、pH4の4M−NaCノ溶液
中に浸漬して電解試験を行なったところ、比較例の複合
材料ではTi板との境界面で腐蝕が進行し、剥離状態と
なっが、本実施例1〜3の複合材料ではTi板の境界面
での特別な腐蝕が進行する現象は認められず、界面での
耐久性の良好さが観察された。
更に、本実施例1〜3のアモルファス合金層被覆複合材
料を8重量%濃度のフッ酸溶液に数分間浸漬して処理し
、表面にPdが均一に露出し、かつ表面に無数の微細な
凹凸を有するアモルファス合金層が被覆された電解電極
材を製造し、これら電極材について以下に説明する試験
により電流効率及び寿命を測定した。その結果、実施例
1〜3の電極材の電流効率はいずれも飽和かんこう電極
を基準電位とした時の陽極電位が1.30V/SCEで
90%、寿命は10day以上であった。
料を8重量%濃度のフッ酸溶液に数分間浸漬して処理し
、表面にPdが均一に露出し、かつ表面に無数の微細な
凹凸を有するアモルファス合金層が被覆された電解電極
材を製造し、これら電極材について以下に説明する試験
により電流効率及び寿命を測定した。その結果、実施例
1〜3の電極材の電流効率はいずれも飽和かんこう電極
を基準電位とした時の陽極電位が1.30V/SCEで
90%、寿命は10day以上であった。
■、電流効率の測定
海水電解の条件を擬似した3 vt%NaCノ水溶液2
00 M (温度=25℃)を電解液とし、陽極に本実
施例の電極材を、陰極にステンレス板(縦3CM×横4
c11)を用いて直流電流密度1500A / m 2
、電気量100クーロンの条件で電解した後、電解液中
の次亜塩素酸濃度を滴定法によって測定し、その結果か
ら塩素発生効率(%)を計算することにより電流効率を
求めた。なお、前記直流電流密度を得るに必要な陽極電
位は、飽和かんこう電極(SCE)を基準電位とし、電
解開始5分間後に電位計を用いて測定した。
00 M (温度=25℃)を電解液とし、陽極に本実
施例の電極材を、陰極にステンレス板(縦3CM×横4
c11)を用いて直流電流密度1500A / m 2
、電気量100クーロンの条件で電解した後、電解液中
の次亜塩素酸濃度を滴定法によって測定し、その結果か
ら塩素発生効率(%)を計算することにより電流効率を
求めた。なお、前記直流電流密度を得るに必要な陽極電
位は、飽和かんこう電極(SCE)を基準電位とし、電
解開始5分間後に電位計を用いて測定した。
■、電極寿命の測定
前記電流効率の測定終了後の陽極電極(電極材)を、電
解槽内の3 wt%Na(、j?水溶液に浸漬し、この
電解槽を超音波水槽内に設置した後、電流密度5000
A / m 2で電解して飽和かんこう電極基準で2.
2M以上のに電圧が必要になった時を電極寿命とし、こ
の寿命に達するまでの日数を求めて寿命を評価した。
解槽内の3 wt%Na(、j?水溶液に浸漬し、この
電解槽を超音波水槽内に設置した後、電流密度5000
A / m 2で電解して飽和かんこう電極基準で2.
2M以上のに電圧が必要になった時を電極寿命とし、こ
の寿命に達するまでの日数を求めて寿命を評価した。
実施例4〜30
実施例1と同様な研磨、表面清浄化処理を施したTi板
の表面に下記第1表〜第3表に示す条件で厚さ3μmの
アモルファス合金層を形成した。
の表面に下記第1表〜第3表に示す条件で厚さ3μmの
アモルファス合金層を形成した。
但し、第1表〜第3表中でのスパッタ蒸着時でのArイ
オンの照射は加速電圧3keV、イオン電流1.5 A
の条件で、ミキシングためのイオン照射は加速電圧12
0〜150 k e V、イオン電流密度0.5〜2.
0mA/dの条件で夫々行なった。つづいて、TI板上
の各アモルファス合金層を3重量%濃度のフッ酸溶液に
数分間浸漬して処理することによって28種の電解電極
材を製造した。
オンの照射は加速電圧3keV、イオン電流1.5 A
の条件で、ミキシングためのイオン照射は加速電圧12
0〜150 k e V、イオン電流密度0.5〜2.
0mA/dの条件で夫々行なった。つづいて、TI板上
の各アモルファス合金層を3重量%濃度のフッ酸溶液に
数分間浸漬して処理することによって28種の電解電極
材を製造した。
しかして、本実施例4〜30の電解電極材について前述
した■、■の方法に従って電流効率及び電極寿命を測定
した。その結果を同第1表〜第3表に併記した。なお、
第3表中には実施例1と同様な研磨、表面清浄化処理を
施したTI板表面に厚さ3μmのPt−1r合金層を形
成した電極材(比較例2)及び同Ti板表面に厚さ8μ
mのRu 02層を形成した電極材(比較例3)の電流
効率及び寿命の測定結果を併記した。
した■、■の方法に従って電流効率及び電極寿命を測定
した。その結果を同第1表〜第3表に併記した。なお、
第3表中には実施例1と同様な研磨、表面清浄化処理を
施したTI板表面に厚さ3μmのPt−1r合金層を形
成した電極材(比較例2)及び同Ti板表面に厚さ8μ
mのRu 02層を形成した電極材(比較例3)の電流
効率及び寿命の測定結果を併記した。
[発明の効果]
以上詳述した如く、本発明によれば表面に白金属元素が
均一に露出し、かつ表面に無数の微細な凹凸を有するア
モルファス合金層で被覆され、比較的低い陽極電位にお
いて高い電流効率を示し、かつ耐食性及び耐久性に優れ
た任意形状の電解電極材を製造し得る方法を提供できる
。
均一に露出し、かつ表面に無数の微細な凹凸を有するア
モルファス合金層で被覆され、比較的低い陽極電位にお
いて高い電流効率を示し、かつ耐食性及び耐久性に優れ
た任意形状の電解電極材を製造し得る方法を提供できる
。
Claims (3)
- (1)、金属基材の表面に少なくとも1種以上の鉄族元
素とTi、Zr、Nb及びTaから選ばれる少なくとも
1種以上の金属元素と少なくとも1種以上の白金族元素
との合金からなるアモルファス合金層を前記合金の蒸着
と同時に前記鉄族元素、金属元素、白金族元素又は不活
性ガスのイオンを照射するイオンビームミキシング法に
より形成する工程と、このアモルファス合金層を酸で処
理する工程とを具備したことを特徴とする電解電極材の
製造方法。 - (2)、アモルファス合金層の金属基材表面への形成に
先立ち、該基材表面に少なくとも1種以上の鉄族元素、
又はTi、Zr、Nb及びTaから選ばれる少なくとも
1種以上の金属元素のイオンを照射してイオン注入層を
形成することを特徴とする請求項1記載の電解電極材の
製造方法。 - (3)、金属基材の表面に少なくとも1種以上の鉄族元
素とTi、Zr、Nb及びTaから選ばれる少なくとも
1種以上の金属元素との合金の蒸着と同時に少なくとも
1種以上の白金族元素イオンを照射するイオンビームミ
キシング法によりアモルファス合金層を形成する工程と
、このアモルファス合金層を酸で処理する工程とを具備
したことを特徴とする電解電極材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63240032A JPH0288785A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 電解電極材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63240032A JPH0288785A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 電解電極材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0288785A true JPH0288785A (ja) | 1990-03-28 |
| JPH036234B2 JPH036234B2 (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=17053453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63240032A Granted JPH0288785A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 電解電極材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0288785A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5142229A (en) * | 1990-12-26 | 1992-08-25 | Biomagnetic Technologies, Inc. | Thin-film three-axis magnetometer and squid detectors for use therein |
| JPH05311402A (ja) * | 1992-05-11 | 1993-11-22 | Limes:Kk | 複合耐食材料及びその製造方法 |
| WO2009097962A1 (de) * | 2008-02-04 | 2009-08-13 | Uhde Gmbh | Nickel legierung und nickel elektrode mit konzentrationsgradient im randbereich |
| WO2018000795A1 (zh) * | 2016-06-29 | 2018-01-04 | 中国科学院金属研究所 | 一种废水处理用铁基非晶电极材料及其应用 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6296634A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-05-06 | Daiki Rubber Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金およびその活性化処理方法 |
| JPS6296633A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-05-06 | Daiki Rubber Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金及びその活性化処理方法 |
| JPS6296636A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-05-06 | Daiki Rubber Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金およびその活性化処理方法 |
| JPS6296635A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-05-06 | Daiki Rubber Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化過飽和固溶体合金 |
| JPS62153290A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Sagami Chem Res Center | 2,6−エポキシ−3,4,5,6,11,12−ヘキサヒドロ−2H−ナフタセノ〔1,2−b〕オキソシン−9,16−ジオン誘導体 |
-
1988
- 1988-09-26 JP JP63240032A patent/JPH0288785A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6296634A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-05-06 | Daiki Rubber Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金およびその活性化処理方法 |
| JPS6296633A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-05-06 | Daiki Rubber Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金及びその活性化処理方法 |
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| JPS62153290A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Sagami Chem Res Center | 2,6−エポキシ−3,4,5,6,11,12−ヘキサヒドロ−2H−ナフタセノ〔1,2−b〕オキソシン−9,16−ジオン誘導体 |
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| WO2009097962A1 (de) * | 2008-02-04 | 2009-08-13 | Uhde Gmbh | Nickel legierung und nickel elektrode mit konzentrationsgradient im randbereich |
| WO2018000795A1 (zh) * | 2016-06-29 | 2018-01-04 | 中国科学院金属研究所 | 一种废水处理用铁基非晶电极材料及其应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH036234B2 (ja) | 1991-01-29 |
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