JPH0293073A - シートプラズマ式ｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はシートプラズマ弐〇ＶＤ装置に関するものであ
る。

（従来の技術） 従来、大面積の基板に均質な薄膜を付ける装置として、
第２図に示す縦型両面プラズマ装置が知られている。

ずなわら、図中、ｌは処理室、２はパレット、３は基板
、４は原料ガス供給管、５は高周波電極、６は排気管、
７はヒータである。

処理室Ｉ内には、高周波電極５が対向して配置されてい
る。そして、高周波電極５．５の対向面には多数の小穴
が設けられており、原料ガス供給管４より供給された原
料ガスは放電空間中に放出されるようになっている。ま
た、前記基板３に均質な膜を付けるために、パレット２
および基板３がヒータ６により加熱されるように構成さ
れている。

その他の従来例としては、例えば、特開昭６１−２８４
５７９号公報、特開昭６１−１１９６７６号公報、特開
昭５９−８８８２０号公報等が知られている。

特開昭６１−２８４５７９号公報に開示のものは、基板
にプラズマを集中させ、基板部に原料ガスを供給するし
のであり、特開昭６１−１１９６７６号公報、特開昭５
９−８８８２０号公報に開示のものはシートプラズマと
レーザ光または分子ビームを併用したものである。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、前述の縦型プラズマ装置においては、プ
ラズマが高周波プラズマであるため、プラズマ密度が低
く、原料ガスの電離が充分に行われないために、緻密性
のよい膜が得られないばかりか成膜速度が遅い。また、
各基板列に応じてそれぞれ高周波電極が必要であり高価
となる。

特開昭６１−２８４５７９号公報のものは、基板にプラ
ズマを集中させ、基板部に原料ガスを供給するものであ
って、供給されるガスのイオン化率が低く、成膜速度が
遅いために生産性が悪い。

さらに、特開昭６１−１１９６７６号公報、特開昭５９
−８８８２０号公報のものは、シートプラズマとレーザ
光あるいは分子ビームを発生させる機器が必要であり高
価である等の問題点を有している。

（課題を解決するための手段） 本発明は以」二の問題点を解決するために、シトプラズ
マ弐〇ＶＤ装置を、処理室内に基板を装着したパレット
を垂直状態で対向配置し、前記パレットの対向面に基板
を装着するとともに、処理室天井部の前記パレットのほ
ぼ中間位置に上方からホロー放電陰極、中間電極および
永久磁石を前記順序で配設し、かつ、陰極側と前記パレ
ット下方に設けた陽極側とにそれぞれ電磁コイルを配設
し、前記パレット間の空間にシートプラズマを形成ずろ
一方、原料ガスの導入管を陰極近傍に設けた構成とした
ものである。

（実施例） 本発明に係る実施例を第１図を参照して説明する。

図において、処理室ｌの天井部には、上方からポロー放
電陰極ＩＩ、永久磁石１２ａとコイル１２ｂからなる中
間電極１２．永久磁石１３．プラズマ制御コイル１４ａ
、ガス導入管１５が順次設けられている。

一方、下方側には排気口６ならびにプラズマ制御コイル
１４ｂ、また、前記ホロー放電陰極ＩＩと対向する位置
に陽極＋６．永久磁石１７が配置されている。

さらに、前記処理室ｌ内には、基板３を内面に取り付け
たパレット２が下記するように発生するシートプラズマ
を中心として、垂直状態で対向配設されている。

前記構成からなるため、いま、排気口６より排気して、
処理室ｌ内を真空状態にする。そして、ホロー放電陰極
１１に電圧を印加するととしに披イオンガス（ｒ（、ガ
ス等）を供給すると、円柱状のプラズマが発生する。こ
の円柱状のプラズマは永久磁石１３によって伸縮させら
れ、所望の幅、厚さ、密度をもつシートプラズマを形成
する。

そして、このシートプラズマは、プラズマ制御コイル１
４ａ、１４ｂで外方に広がるのを規制され、陽極に収束
することになる。

なお、中間電極１２は、永久磁石１２ａとコイル１２ｂ
とからなり、陰極領域と陽極領域に圧力差を付け、陽極
領域からのイオンの逆流を防止して、陰極の損傷を防止
するしのである。

また、ガス導入管１５から５ｉｏ４等の原料ガスが前記
ソートプラズマ中に供給されろと、この原料ガスはソー
トプラズマによりイオン化し、しかしそのイオン化はパ
レット２の全長にイつたって行なわれるため１、大面積
を有する基板３に均一で密着性の良いａ−９ｉ膜等の薄
膜を形成することができる。

以上のように、プラズマはホロー放電陰極１１から陽極
１Ｇに向かって縦方向に形成されるので、パレット２を
垂直方向に大きくすることにより、原料ガスの通過距離
を長くすることが可能である。

なお、前記彼イオンガスにＨ２ガスを使用すれば、基板
３の洗浄度が向上するとともに、添加ガスとしての０２
量か軽減する。

（発明の効果） 以上の説明で明らかなように、本発明に係るノートプラ
ズマ式ＣＶＤ装置によれば、シートプラズマを縦長に発
生さＵｏることかできるので、大面積で原料ガスをイオ
ン化する事ができる。

したがって、大面積あるいは複数個の基板を一度に成膜
でき、生産性が向上する。

また、原料ガスの通過距離を長くできるため、ノートプ
ラズマによりイオン化率が高くなり、緻密性のよい薄膜
が得られる上、原料ガスを軽減することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る実施例の構成図、第２図は従来の
縦型両面プラズマ装置の構成図である処理室、２・・・
パレット、３・・基板、４・・・ガス供給管、５・高周
波電極、６・・排気口、１１・・ホロー放電陰極、１２
・・中間電極、１３・・・永久磁石、１４ａ　　１４ｈ
　・・プラズマ制御コイル、１５・・ガス導入管。 特　許　出　願　人　中外炉工業株式会社代　理　人　
弁理士　前出　葆　はか１名第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）処理室内にパレットを垂直状態で対向配置し、前
   記パレットの対向面に基板を装着するとともに、処理室
   天井部の前記パレットのほぼ中間位置に上方からホロー
   放電陰極、中間電極および永久磁石を前記順序で配設し
   、かつ、陰極側と前記パレット下方に設けた陽極側とに
   それぞれ電磁コイルを配設し、前記パレット間の空間に
   シートプラズマを形成する一方、原料ガスの導入管を陰
   極近傍に設けたことを特徴とするシートプラズマ式ＣＶ
   Ｄ装置。