JPH0293605A - 導波路の製造方法 - Google Patents

導波路の製造方法

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JPH0293605A
JPH0293605A JP63246928A JP24692888A JPH0293605A JP H0293605 A JPH0293605 A JP H0293605A JP 63246928 A JP63246928 A JP 63246928A JP 24692888 A JP24692888 A JP 24692888A JP H0293605 A JPH0293605 A JP H0293605A
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waveguide
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adhesion layer
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Takao Shioda
塩田 孝夫
Koichi Takahashi
浩一 高橋
Tatsuya Sakano
坂野 達也
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Optoelectronics Technology Research Laboratory
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Optoelectronics Technology Research Laboratory
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、光ファイバとの結合を良好にした導波路の
製造方法に関する。
「従来の技術」 近時、種々の導波形光デバイスが提案され、光スィッチ
などに応用されている。このような導波形光デバイスの
基礎となる三次元光導波路(以下、導波路と略称ずろ)
としては、例えば第5図に示すようにニオブ酸リチウム
製導波路基板lにヂタンを拡散せしめて三次元導波層(
以下、導波層と略称する。)2を形成したものが知られ
ている。
ところで、このようなチタン拡散ニオブ酸リチウム先導
波路を作製するには、導波層が導波路中において同一の
幅となり、かつ均一な比屈折率差となるようにして作製
するのが普通である。
「発明が解決しようとする課題」 しかしながら、上記のようにして得られた導波路にあっ
ては、光ファイバに接続するにあたって第5図ウニ点鎖
線で示すように導波層2におけるスポット3が楕円形状
となるため、円形のスポットを有する光ファイバとはモ
ード不整合となって結合効率が低くなり、したがって結
合損失が大きくなるといった問題がある。
一方、このような導波路を例えば光スィッチに適用ずろ
にあたり、導波層を導波路基板中で湾曲して作製した場
合には、導波層の断面積が大きいほどその湾曲部分にお
いて大きな導波損失が生ずるといった問題がある。
よって、導波路を光スィッチ等に応用するに際し上述し
たような損失を少なくするには、光ファイバとの結合部
分で導波層の断面(スポットサイズ)を大きくし、かつ
導波層の湾曲する部分で断面を小さくすれば良いと考え
られるが、その場合規格化周波数を変えずに上記両方の
条件を満足するような導波路を作製する方法が現在のと
ころ提供されておらず、したがって現状ではこのような
しのを得るのは不可能である。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、結合損失、導波損失が少なく、かつ規
格周波数が安定した導波路を製造し得る方法を提供する
ことにある。
「課題を解決するtこめの手段」 この発明の導波路の製造方法では、導波路基板に、屈折
率を高める物質を付着せしめて一定の幅の定幅部と、こ
の定幅部と同一の軸を有しかつ該定幅部より漸次幅の広
くなる変幅部とからなる第1の付着層を形成し、次にこ
の第1の付着層を導波路基板中に拡散せしめ仮導波層を
形成し、次いで該導波路基板の仮導波層側に屈折率を低
める物質を付着せしめて第2の付着層を形成し、かつこ
の第2の付着層をその非付着部が上記第1の付着層と同
一の軸となるように形成するとともに、該非付着部が第
1の付着層における定幅部と変幅部との上および周辺に
形成され、かつ定幅部上およびその周辺においては上記
変幅部の最大幅と同一の幅となり、変幅部上およびその
周辺においては該変幅部とその長さ方向で逆のパターン
となるように形成し、その後該第2の付着層を拡散せし
めて導波層を形成することを上記課題の解決手段とした
以下、この発明の一例について詳しく説明する。
ます、第1図に示すように導波路基板lOに、屈折率を
高める物質をスパッタ法や蒸着法などにより付着し、リ
フトオフにより以下に述べるパターンで厚さ600〜9
00人程度の第1の付着層11を形成する。第1の付着
層11は、一定の幅の定幅部12と、この定幅部と同一
の軸を有しかつ該定幅部12より漸次幅の広くなる変幅
部13とからなるものである。ここで導波路基板IOと
しては、L iN bO3、IJr T a O!l、
PLZT[PZT(チタン酸・ジルコン酸鉛固溶体Pb
’r io3・PbZr03)のPbの一部をLaで置
換した透光性圧電材料)等の電気光学結晶や、あるいは
ガラス(コーニング7059)、石英などの材料からな
るものが用いられる。
また、屈折率を高める物質としては、Ti、Fe、Ta
Nb、Ag等の元素あるいはこれら元素を含む化合物が
用いられる。
次に、上記第1の付着層11を形成した導波路基板10
を加熱し、屈折率を高める物質を導波路基板lO中に拡
散せしめて仮導波層14を形成する。この場合に加熱条
件としては、水蒸気雰囲気にて950〜1050℃程度
で4〜IO時間程度が好適とされる。
次いで、第2図に示すように屈折率を低める物質をスパ
ッタリング等によって導波路基板lOおよび仮導波層1
4上に付着せしめ、リットオフにより以下に述べるパタ
ーンで厚さ500〜1000人程度の第2の付@層15
を形成する。第2の付着層15は、その屈折率を低める
物質が付着されない非付着部16が、第2図ウニ点鎖線
で示す上記第1の付着層と同一の軸となるように形成さ
れたものである。非付着部16は、第1の付着層11に
おけろ定幅部12と変幅部13との上および周辺に形成
されたちので、定幅部12上およびその周辺においては
上記変幅部13の最大幅と同一の幅となるよう形成され
、また変幅部13上およびその周辺においては該変幅部
13とその長さ方向で逆のパターンとなるように形成さ
れたものである。ここで屈折率を低める物質としては、
Mg、Na、AI、F等の元素あるいはこれら元素を含
む化合物が用いられる。
その後、上記第2の付着層15を形成した導波路基板1
0を加熱し、屈折率を低める物質を導波路基板10およ
び教導波層14中に拡散せしめて教導波層14を導波層
17とする。この場合に加熱条件としては、不活性雰囲
気にて850〜950℃程度で5〜8時間程度が好適と
される。
このようにして得られた導波路にあっては、導波層17
の一方に大きな断面(スポットサイズ)を存し、他方を
小さな断面としているため、大きい方を光ファイバとの
結合部とすればその結合損失が少なくなり、また小さい
方を湾曲した場合にその導波損失が少なくなる。
さらに、第1の付着層11における変幅部13に対応す
る部分での導波層17の比屈折率差が、第2の付着層1
5の拡散により幅が狭くなるにしたがって大きくなり、
かっ定幅部12に対応する部分での比屈折率差が変幅部
13の最小幅に対応する部分での比屈折率差と同一に形
成されているので、導波層17全長に亙ってほぼ規格化
周波数が一定になる。
また、このようにして得られた導波路を例えば光スィッ
チに適用する場合、導波層17の大きな断面(スポット
サイズ)側を光ファイバとの結合部とし、かつ小さな断
面側を湾曲せしめるようにすれば、結合損失、導波損失
ともに少なく、しがもその全長に亙ってほぼ規格化周波
数が一定なものとなる。
「実施例」 以下、実施例によりこの発明をさらに具体的に説明する
まず、厚さ4mm、直径3インチのニオブ酸リチウム(
1−lN bo 3 )製ウェファを用意し、これの上
にスパッタリングによってTiを厚さ850人に被覆し
、さらにこれをリフトオフによって第3図に示したパタ
ーンの第1の付着層18を形成した。
この場合に、第3図において幅w、をlOμJI% W
eを8μ肩、長さ乙を2π肩、Qtを4肩肩とした。
次に、このウェファを水蒸気中にて1050°Cで6時
間加熱し、付着したTiをウェファ中に拡散せしめた。
次いで、このウェファのTiを拡散させた側の面に、ス
パッタリングによってMgOを厚さ500人に均一に被
覆し、さらにこれをリフトオフによって第4図に示した
パターンの第2の付着層19を形成した。この場合に、
第2の付着層19をその非付着部20が第1の付着層と
同一の軸となるように形成し、かつ第4図において幅w
3を8μL W4を10μz、長さa3を2■、(1,
ヲ4 xrttトL タ。
その後、このウェファをアルゴン雰囲気にて900℃で
5時間加熱し、付着したMgOを拡散せしめて導波層を
形成し、導波路を得た。
このようにして得られた導波路のスポットサイズを調べ
たところ、第3図に示す第1の付着層18の幅広側の端
部18a (出射端)におけるスポットサイズは、ウェ
ファの幅方向で6μm1厚さ方向で4.6μ肩であった
。また、第1の付着層18の定幅部18b(導波路部)
のスポットサイズは、ウェファの幅方向で4.8μ肩、
厚さ方向で3.7μ肩であった。
さらに、上記出射端(端部18a)の端面をARをを施
し、その後光ファイバとの結合性を調べたところ、結合
損失は0 、1 dB以下であった。また、導波路部(
定幅印部18b)の屈曲損失を調べたところ、30 R
でO,ldB/am以下、2ORで0.4dB/x肩で
あった。
「発明の効果」 以上説明したように、この発明の導波路の製造方法によ
れば、導波層の一方の断面(スポットサイズ)を大きく
、かつ他方を小さくするとともに、その全長に亙って比
屈折率差をほぼ均一にすることができる。したがって得
られた導波路は、スポットサイズの大きい方を光ファイ
バとの結合部とすればその結合損失が少ないものとなり
、また小さい方を湾曲した場合にはその導波損失が少な
いものとなる。また、これによりこの導波路は、光スィ
ッチ、光変調器等の光デバイスに好適に用いることがで
きるものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第4図はこの発明に係わる図であって、第
1図および第2図はこの発明の詳細な説明するための平
面図、第3図および第4図はこの発明の一実施例を説明
するための平面図、第5図は従来の導波路の一例を示す
概略構成図である。 10・・・・・・導波路基板、11(18)・・・・・
・第1の付着層、12・・・・・・定幅部、13・・・
・・・変幅部、14・・・・・・教導波層、15(19
)・・・・・第2の付着層、16(20)・・・・・・
非付着部、17・・・・・導波層。 出願人 光技術研究開発株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 導波路基板に、屈折率を高める物質を付着せしめて一定
    の幅の定幅部と、この定幅部と同一の軸を有しかつ該定
    幅部より漸次幅の広くなる変幅部とからなる第1の付着
    層を形成し、次にこの第1の付着層を導波路基板中に拡
    散せしめ仮導波層を形成し、次いで該導波路基板の仮導
    波層側に屈折率を低める物質を付着せしめて第2の付着
    層を形成し、かつこの第2の付着層をその非付着部が上
    記第1の付着層と同一の軸となるように形成するととも
    に、該非付着部が第1の付着層における定幅部と変幅部
    との上および周辺に形成され、かつ定幅部上およびその
    周辺においては上記変幅部の最大幅と同一の幅となり、
    変幅部上およびその周辺においては該変幅部とその長さ
    方向で逆のパターンとなるように形成し、その後該第2
    の付着層を拡散せしめて導波層を形成することを特徴と
    する導波路の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0427904A (ja) * 1990-04-27 1992-01-30 Teiji Uchida 光表面実装回路用基板の製造方法
US6442315B1 (en) 1997-11-18 2002-08-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical waveguide chip and method of formation thereof
JP2007079225A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 波長変換素子の接続方法および接続部材

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0269702A (ja) * 1988-09-06 1990-03-08 Fujikura Ltd 導波路とその製造方法および光スイッチ

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