JPH0294605A - 磁気パルス圧縮回路を含む励起回路 - Google Patents

磁気パルス圧縮回路を含む励起回路

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JPH0294605A
JPH0294605A JP63246745A JP24674588A JPH0294605A JP H0294605 A JPH0294605 A JP H0294605A JP 63246745 A JP63246745 A JP 63246745A JP 24674588 A JP24674588 A JP 24674588A JP H0294605 A JPH0294605 A JP H0294605A
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JP
Japan
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magnetic
saturable reactor
excitation
pulse compression
circuit
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JP63246745A
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English (en)
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Shuntaro Watabe
俊太郎 渡部
Susumu Nakajima
晋 中島
Kiyotaka Yamauchi
山内 清隆
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Proterial Ltd
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Hitachi Metals Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は放電励起レーザ、加速装置等に必要なパルス励
起回路のうち、特に可飽和リアクトルを用いた磁気パル
ス圧縮回路を含む励起回路に関するものである。
〔従来の技術〕
エキシマレーザ、銅蒸気レーザ、TEA(工ransv
ersely  E xcited   人tmosp
hericP ressure)  COz レーザ、
TEMA (工ran3Ve−rsely旦xcite
d  Multi−Atmospheric−Pres
sure) −COx レーザ等の放電励起レーザ、イ
ンダクタンス ては、電圧波高値数+kV以上、電流波高値数にへ以上
、パルス幅数百ns以下の高電圧高エネルギパルスを高
繰り返しで長時間、安定に発生させることが必要である
このような要求を満たす励起回路としてU、S。
Pat、No、4,275.317 ; 4,646,
027  ; 4,698,518  ;4.707,
619  、 4,730,166;西独Pat、33
35690等に開示される可飽和リアクトルを用いた磁
気パルス圧縮回路を含む励起回路が用いられている。
第1図は前記従来の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路
を放電励起レーザの1つであるエキシマレーザに適用し
た場合の回路構成を示したものである。同図において、
1は直流電源、2は充電抵抗、3はサイラトロン、4は
サイラトロン3の主電極を流れる電流iIを時定数を定
めるためのインダクタンス、5は主コンデンサ、6.1
0はピーキングコンデンサ、7は可飽和リアクトル、8
は充電用インダクタンス、9.12は配線により生ずる
浮遊インダクタンス、11はU■予備電離用ギャップ、
13はレーザ主放電電極である。
第2図は第1図の回路においてコンデンサ5の容1tc
I、コンデンサ6の容量C2,コンデンサ10の容1c
zを同一とし、コンデンサ5から10へのエネルギ転送
効率100%、かっUV予備?itM用ギャップ11を
常に短絡と仮定したときの外部電圧、電流波形を理想化
して示したものである。同図においてv5.v、、v、
。は各々コンデンサ5,6.10の端子電圧+  ’l
 はコンデンサ5から6へ流れる電流、12はコンデン
サ6がら10へ流れる電流である。また++a、  1
2mは各々前記電流’l+’tの波高値、Eは電源電圧
τ1.τオは各々電流’l++2のパルス幅である。
上記のような回路において、第2図斜線部分で示す電圧
時間積を可飽和リアクトル7が阻止するため5サイラト
ロン3を流れる電流11のパルス幅τ1を拡げるととも
に、その波高値Eraを低下させることが可能となり、
サイラトロン3のスイッチング損失、特にピーク損失を
低下させることができる。このためサイラトロンの長寿
命化が図れるとともに、大出力、高繰り返し化が容易に
行える。
上記可飽和リアクトル7が阻止する電圧時間積は第2図
において次式で与えられる。
−=N−Ae  ・ΔB N :可飽和リアクトルの主巻線巻数 Ae:         有効断面積(m”)ΔB: 
        動作磁束密度1 (T)また、エキシ
マレーザを初めとする放電励起レーザに用いられる他の
磁気パルス圧縮回路を含む励起回路としては2例えば第
3図から第7図に示す励起回路が用いられている。
第3図は直流電源21より充電抵抗22.及びインダク
タンス24を介して図示の極性に並列的に接続充電され
たコンデンサ25.26のうちのコンデンサ25の電荷
をサイラトロン23をオンさせることにより2図示矢印
に示す放電電流i。
を時定数を定めるインダクタンス24を通して流し、前
記コンデンサ25を極性反転させることにより、サイラ
トロン23がオンする直前に前記2個のコンデンサに印
加されていた電圧の加算値を図示V 111−□、の向
きで発生させ、これを可飽和リアクトル27を用いて磁
気パルス圧縮するものである。同図において28は充電
インダクタンス。
29.32は配線による浮遊インダクタンス。
30はピーキングコンデンサ、31はU■予備電離用ギ
ャップ、33はレーザ主放電電極である。
本回路によれば変圧器を用いることなしに入力電源電圧
以上の高電圧パルスが得られる。
第4図は、変圧器を使用することにより高電圧パルスを
発生すると同時に磁気パルスを圧縮するための回路構成
であり、41は直流電源、42は充電抵抗、43はサイ
ラトロン、44,48゜52はコンデンサ、45は変圧
器、46は変圧器の1次巻線、47は変圧器の2次巻線
、49は可飽和リアクトル、50は充電インダクタンス
51.54は配線による浮遊インダクタンス。
53はUv予備電離用ギャップ、55はレーザ主放電電
極である。
また、第5図から第7図は夫々前記第1図、第3図およ
び第4図の回路における磁気パルス圧縮回路を多段化し
たものであり、特に大出力あるいは高繰り返し化が必要
なときに用いられる。これらの図において、同一部分は
第1図、第3図および第4図と同一の参照符号で示す。
なお第5図における6−1,6−2,−、6−nおよび
7−17−2.・・・、7−nは夫々の段のピーキング
コンデンサおよび可飽和リアクトルを示す。同様に第6
図および第7図における3 4−1.・・・、34n−
1および27−1. 27−2.−、 27−nならび
に48−1.48−2.・・・、48−nおよび49−
1.49−2.・・・、49−ロも夫々の段のピーキン
グコンデンサおよび可飽和リアクトルを示す。また↑、
5hia+ada et al:”^n all 5o
lidstate magnetic switchi
ng circuit for pumpingexc
imer 1asers + Rev、Sc1.In5
trun、56+ pp、2018〜2020 (19
85)には第7図に示す回路方式においてサイラトロン
43をサイリスタとした報告もなされている。
以上述べた各回路方式における可飽和リアクトル磁心と
しては、数十μs〜数十ns程度の時間領域における飽
和領域を含むマイナーループ動作時に、不飽和領域にお
ける透磁率と飽和領域における透磁率との比が大、磁心
損失小、動作磁束密度量ΔBが大であることが要求され
る。
従来、このような要求をある程度溝たすものとして、前
記U、S、Pat、No、4.646.027  ;4
,730,166 。
あるいはC,11,Sm1th :“Metallic
 Glasses forMagnetic 5w1t
ches 、 IEE[! Conf−Record 
15thPo@er Modulator Symp、
、pp−22−27(1982)に示されるFe基非晶
質磁性薄帯をポリイミド・フィルム。
ポリエステル・フィルム等の高分子フィルム、あるいは
Mg O,S i Ox等を用いて層間絶縁して構成さ
れた巻磁心が主に用いられていた。
〔発明が解決しようとするi!l!題〕上記従来技術の
磁気パルス圧縮回路を含む励起回路においては、第1の
問題点として可飽和リアクトル磁心の損失が大きいため
、初段の主コンデンサに蓄積されたエネルギと最終段の
ピーキングコンデンサに転送されたエネルギの比である
エネルギ転送効率が大幅に低下してしまう、従って入力
電源が大形化するとともに、高繰り返し動作時には可飽
和リアクトル磁心の磁心損失による発熱を抑制するため
の冷却装置が大形化したり5繰り返し周波数の上限が可
飽和リアクトル磁心の温度上昇により制限されるという
問題があった。
第2に可飽和リアクトル磁心の飽和特性が良好でないた
め、磁気パルス圧縮回路として用いた場合に出力される
電圧パルスの立上り時間が遅く。
特に立上りの速い励起の必要な用途に用いるのは問題が
あった。
例えば放電励起レーザの1つであるエキシマレーザの中
でもKrFエキシマレーザ、あるいはArFエキシマレ
ーザ等の短波長のものは高速励起が必要であるが、この
ような用途に前記従来方式の磁気パルス圧縮回路を含む
励起回路を用いた場合には効率が著しく低下する。また
、インダクシッンライナックにおいてはアクセラレータ
・セルと呼ばれる電子ビーム加速用変圧器に入力する電
圧は、立上りおよび立下りが急峻かつ波高値の平坦な矩
形波であることが望ましい、このための励起回路として
は、前記U、S、Pat、 No、4,646,027
゜および11.S、Pat、No、4,730,166
に示される磁気パルス圧縮回路とパルス整形回路とを組
み合わせた励起回路が用いられている。しかし可飽和リ
アクトル磁心の飽和特性が良好でないため、Dル、Bi
rxet at  :  ”The applicat
ion of magnetic pulsecoo+
pression to the grid syst
em of the ETA/ATAaccelera
tor * IEEE Conf、  Record 
15th powermodulator sya+p
osiu+w、pp、10〜13(1982)に示され
るようなNi−Znフェライトを用いたS harpn
etと呼ばれる磁心を用いて立上り特性の改善を図らざ
るを得ない状態である。
第3の問題点としては磁歪の影響による磁気特性変化が
上げられる。前記従来方式の可飽和リアクトル磁心に用
いられているFe基非晶質磁性薄帯の磁歪定数は20X
10−”程度以上にも達するため、外部応力によりその
磁気特性が大きく変化することが良く知られている。ま
た本用途においては非常に大きなエネルギパルスが可飽
和リアクトル磁心に加わるため、同磁心が機械的に振動
するが、この際の振動によって動作特性は、 V、J、
Thottuvelil et al:+旧gh−fr
equency Characteristics o
r A+l1orphous Metallic−al
loy Tape−wound Co−res 、 I
E[!E Power Electronics 5p
ecialist Conference、 1983
 Record、pp、168−180に示されるよう
に太き(変動し、ジッタの発生等の原因となる。
さらに長時間の動作に伴う振動の影響により同磁心の経
時変化が生ずることは容易に理解できる通りである。
本発明の目的は、&Ii心損失の大幅な低減を図るとと
もに、飽和特性の改善を行い、かつその磁歪定数の大幅
な低減を図り、エネルギ転送効率が高く、出力パルスの
急峻しかも外部応力の影響を受けにり<、取り扱いも容
易で経時安定性に優れた磁気パルス圧縮回路を含む励起
回路を提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するため7本発明においては。
磁気パルス圧縮回路を含む励起回路において1組成が(
Co 1−、 Mm ) +o。−2X2.ここでM:
Fe、Mn、Ni、Cr、Nb、Mo、V、Ta、Wの
うち1種以上、X:B、またはBおよびSi、0<α≦
0.24. 12≦β≦26である非晶質磁性材料から
なる薄帯を積層し、この薄帯の層間を絶縁して形成した
可飽和リアクトル磁心を使用する。という技術的手段を
採用した。
上記組成において1Mは短パルス駆動時のけ心損失を低
下させるため、および経時変化を極力抑えるために添加
される元素であり、αが0.24より大きくなるとキュ
リー温度TCが低くなるため実用上問題となる。Xは非
晶質金属を得るために必須の元素であり、βが12未満
でも26を越えても非晶質化が困難となり好ましくない
また、前記可飽和リアクトル磁心としてその直流磁化曲
線における8004/mの磁化力における磁束密度B1
10゜を0.5T〜0.8Tの範囲とした場合には、そ
のキュリー温度TCが実用上問題のない180℃程度以
上が得られる。また短パルス駆動時の磁心損失も従来使
用されていたFes+ B+3.SSi++、s Cz
の組成を有するFe基非晶質磁性薄帯を用いて層間絶縁
して構成した磁心に比べ1/2程度以下と改善すること
ができ好ましい。
前記可飽和リアクトル磁心としてその直流磁化曲線にお
ける800A/nの磁化力における磁束密度B、。。を
0.5T〜0.7Tの範囲とした場合には。
そのキュリー温度TCが前記の如く実用上問題ないレベ
ルにある。また短パルス駆動時の磁心損失も前記Fe基
非晶質磁性薄帯を用いて層間絶縁して構成した磁心に比
べ173程度以下と著しく改善することができ好ましい
前記可飽和リアクトル磁心として5その直流磁化曲線に
おける磁化力800A/m時の磁束密度B、。。
と残留磁束密度Brの比Br/Be。。が0.80以上
ある磁心を用いた場合にはパルス幅50μs〜5013
の領域において、非飽和時の透磁率と飽和時のi3磁率
の比を前記Fe基非晶質磁性薄帯を用いて層間絶縁して
構成した磁心の10倍以上とすることができるとともに
、経時変化も著しく小さくできることなどの点から好ま
しい。
前記可飽和リアクトル磁心として、前記組成範囲におい
て、その磁歪定数が−IXIO−’〜+1×l0−4の
範囲にある非晶質磁性薄帯を用いた場合には、動作時の
機械的振動による磁気特性の劣化を著しく低減すること
ができる点で好ましい。
可飽和リアクトルに入力される電圧パルスが。
直流電源より抵抗若しくはインダクタンスを介して充電
された第1のコンデンサの電荷をスイッチ素子をオンさ
せることにより放電の時定数を定めるインダクタンスを
通して第2のコンデンサに移行することにより発生させ
た電圧パルスであるような磁気パルス圧縮回路を有する
容量移行回路に。
前記可飽和リアクトル用磁心を用いることにより。
初段のコンデンサから最終段のコンデンサへのエネルギ
転送効率を高くすることができ、しかも最終コンデンサ
の電圧の立上りが急峻な励起回路を得ることができ好ま
しい。
また可飽和リアクトルに入力される電圧パルスが、直流
電源より抵抗若しくはインダクタンスを介して並列的に
接続され充電された第1と第2のコンデンサのうちの一
方のコンデンサの電荷をスイッチ素子をオンさせること
により放電の時定数を定めるインダクタンスを介して逆
極性に移行させ、これによって前記2個のコンデンサの
電圧を直列的に加算させるようにして発生させた電圧パ
ルスであるような磁気パルス圧縮回路を有するLC反転
回路に、前記可飽和リアクトル用磁心を用いることによ
り、初段の2個のコンデンサから最終段のコンデンサへ
のエネルギ転送効率が高くかつ最終段のコンデンサの電
圧の立上りが急峻な励起回路を得ることができ好ましい
更に可飽和リアクトルに入力される電圧パルスが、変圧
器の1次側に設けられたパルス発生回路により同変圧器
の2次側に誘起した電圧パルスであるような昇圧変圧器
を用いた磁気パルス圧縮回路を有する容量移行回路に前
記可飽和リアクトル用磁心を用いることにより、初段の
コンデンサから最終段のコンデンサへのエネルギ転送効
率が高く、かつ最終段のコンデンサの電圧の立上りが急
峻な励起回路を得ることができ好ましい。
前記組成範囲の非晶質磁性薄帯を用い、層間絶縁して構
成した可飽和リアクトル磁心を用いた磁気パルス圧縮回
路を多段に用いて構成した励起回路を用いることにより
、初段のコンデンサから最終段のコンデンサへのエネル
ギ転送効率が高(。
最終段のコンデンサの電圧の立上りが急峻で、スイッチ
素子のオン時間を長くしてスイッチ素子の負担を著しく
軽減した励起回路を得ることができ好ましい。
前記組成範囲の非晶質磁性薄帯を用い、層間絶縁して構
成した可飽和リアクトル磁心を磁気パルス圧縮回路に用
いた励起回路を放電励起レーザに用いるこ、とにより、
従来用いられていた磁気パルス圧縮回路を含む励起回路
に比べて効率が高く。
前記可飽和リアクトル磁心の磁心損失による発熱も少な
く、高繰り返し化も容易な放電励起レーザを得ることが
でき好ましい。
前記組成範囲の非晶質磁性薄帯を用い0層間絶縁して構
成した可飽和リアクトル磁心を用いた磁気パルス圧縮回
路を含む励起回路をエキシマレーザに用いることにより
、従来の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路を用いた場
合に比べて効率が高く、高繰り返し、大出力化が容易と
なり好ましい。
前記組成範囲の非晶質磁性薄帯を用い、層間絶縁して構
成した可飽和リアクトル磁心の形状をレース・トラック
形としたものを用いることにより。
磁心飽和後のインダクタンスを減少することができ、最
終段のコンデンサの電圧の立上りをより急峻にすること
ができ、前記最終段のコンデンサ電圧の立上りを犠牲に
することなく圧縮比を大とすることができ好ましい。
前記組成範囲の非晶質磁性薄帯を用い1層間絶縁して構
成した可飽和リアクトル磁心を用いた磁気パルス圧縮回
路を含む励起回路を、インダクタンス により、アクセラレータ・セルに印加される矩形波電圧
の立上り、および立下りが急峻で、波高値の平坦度も良
好となり、更に磁心損失も減少するため、高繰り返し化
も容易となるので好ましい。
〔実施例〕
以下本発明の実施例について詳しく説明するが。
本発明はこれら実施例に限るものではない。
(実施例1) 第1図に示す励起回路をKrFエキシマレーザに使用し
、電源1の電圧E=30kV、コンデンサ5.6.10
の容量C+、Cx、Csを夫々15nF。
16nF、15.nF、  レーザ主、放電電極13の
有効長28Ω・111m、電極1闇路!!l 20 a
s、ガス圧力2.6気圧、ガス組成Kr:3.5%、F
t  :0.13%、残部Heとする6次に可飽和リア
クトル磁心として(C6+−−M 、) +。。−ex
eで示される組成系においてMをFe、Mn、Mo、N
b、XをSi。
Bとし、βJIc9〜29%の範囲で変えたとき得られ
る磁性薄帯を用い、ポリエステルフィルムで層間絶縁し
て構成した外径15511N、内径6Q・mum。
厚さ25+msの磁心を各組成毎に夫々6個装作し。
これを巻数1ターンで使用したときの単位重量当たりの
磁心損失Pcを第8図に示す、なおこの時のSt、Hの
組成比は59:41とした。同、図よりβが12〜26
%の範囲外の場合にはPcが大幅に増加することがわか
る。この原因は前記βが12〜26%の範囲外の場合、
前記磁性薄帯には非晶質相の他に結晶相を含んでいるた
めである。
従って磁心損失を低下させ、励起回路におけるエネルギ
転送効率を高めるためには、上記組成系においてβを1
2〜26%の範囲に選定することが必要である。また本
実施例では2MとしてFe。
Mn、Nb、Moを用いたが、この他にNi。
Cr、V、Ta、Wを加えた9種類の元素のうちのいず
れか1種類以上を用いれば同一の結果を得られることが
わかった。またXについても本実施例ではBとSiを同
時に用いたが、Bのみを用いた場合も同一の結果が得ら
れることがわかった。
第9図は、前記第8図の場合と同一条件、同−組成系に
おいて、βを前記12〜26%の範囲内に選定したとき
にαをθ〜0.32の範囲で変えたときに得られる非晶
質磁性薄帯を、ポリエステル・フィルムで層間絶縁して
構成した前記第8図の場合と同一形状の磁心を各々6個
巻数1ターンで用いたときの磁心温度23℃における動
作磁束密度量ΔB(23℃)と、同80℃における動作
磁束密度量ΔB(80℃)の比ΔB(80℃)/ΔB(
23℃)を示したものである。ここでMとしてFe、 
Mn。
Nbを用いたときの組成比は、原子%でFehMn@@
Nb、であり、Fe、Mn、Moを用いた時の組成比は
原子%でFetbMnt+Mo2である。
同図よりαが0.24を超えると前記ΔB(80℃)/
△B(23℃)が0.7よりも小となり、高温動作時。
例えば繰り返し動作による磁心損失による発熱が無視し
得ないような高繰り返し時での使用が必要となる場合、
圧縮比が低下する問題が生じるため好ましくない、従っ
て高温動作時における圧縮比の低下を実用上問題ないレ
ベルに抑えるためには。
前記ΔB(80℃)/ΔB(23℃)が0.7よりも大
となるようにαを0.24以下とする必要のあることが
わかった。なお1本実施例では1MとしてFa。
Mn、Nb、Moを用いた場合を示したが、前記元素に
Ni、Cr、V、Ta、Wを加えた9種類の元素中のい
ずれかtm類以上を加えれば同一の効果が得られること
がわかった。またXについても、B単独で用いた場合に
も同一の効果が得られることを見出した。
(実施例2) 第1表に示す4種類の可飽和リアクトル磁心を各々6個
巻数1ターンで第1図に示す励起回路を有するKrFエ
キシマレーザに通用した場合の各部波形を第1O図〜第
13図に示す。駆動条件は実施例1の場合と同一であり
1図中+  v6+ vIll +vl++  ’2 
+  vloは各々第1図に示す各部の電圧。
および電流に対応している。可飽和リアクトル磁心#1
〜#3を用いた本発明における実施例を示す第10図〜
第12図に示される最終段のコンデンサ10.即ちC1
電圧V、。の立上り特性が可飽和リアクトル磁心#4を
用いた従来例を示す第13図におけるvl。の立上り特
性に比べ急峻であり、エキシマレーザ用励起回路として
要求される励起回路の出力電圧の立上りの良さという面
で優れていることがわかる。
第 表 由各非晶f磁性薄帯の板厚は約25μm、 131間絶
縁には厚さ6μmのポリエステル・フィルムイ吏用、磁
尤1形状155φ×60φX 25  (m) m B
sea 、  B r、  Br/asssは6個の磁
心の平NL また上記本発明による励起回路の各部波形を示す第10
図〜第12図における各々のvk +  vIll” 
vl I +および12波形より求めた各可飽和リアク
トル磁心の動作磁化曲線を第14図に示す。また第1O
図に示す本発明に用いた可飽和リアクトル磁心#1と、
第13図に示す従来例に用いた可飽和リアクトルの動作
磁化曲線の比較を第15図に示す。本発明における可飽
和リアクトル磁心#1〜#3は従来例における可飽和リ
アクトル磁心#4に比べいずれも急峻な飽和特性を示す
ことがわかる。
第2表は1本実施例において、第1表に示す各種可飽和
リアクトル磁心を用いた場合毎の緒特性を示したもので
ある。
以下余白 第 表 (1)コンデンサ容量: C+/Ci/Cs−15/1
6/15 nP、入力電圧:E=30kV入力エネルギ
:6.8J、  レーザ主放電電極:有気1糸め−、電
棒鰐資璃lO關C2電圧立上り時間は波高値の10%か
ら90%に達するまでの1lnfl。
本発明によれば従来例に比べて可飽和リアクトル磁心の
磁心損失が少ないため、エネルギ転送効率が改善される
とともに、前記の如く最終段のコンデンサC3電圧の立
上り時間も速くなるため。
レーザ出力を入力コンデンサ6.即ちCIに入力される
エネルギで割った総合効率も大幅に改善される。また本
発明における可飽和リアクトル磁心#2.あるいは#3
のようにBa1l。の比較的低い磁心を用いた場合には
可飽和リアクトル磁心の大きさを特に大きくしなくても
サイラトロン損失を大幅に増加させることなく、可飽和
リアクトル磁心損失を低減できるとともに、総合効率も
改善できるため、前記磁心損失による磁心温度上昇の制
限に起因する繰り返し周波数の上限も高めることができ
ることがわかった。
(実施例3) 第16図は、前記実施例2と同一の条件において、非晶
質磁性薄帯の組成系が (Co I−# Ma ) 11111−# X# 、
ここにMはFe。
Mn、Ni、Cr、Nb、Mo、V、Ta、Wのうちの
1種以上、XはB、又はBおよびSiOくα≦0.24
. 12≦β≦26である非晶質磁性薄帯を、ポリエス
テル・フィルムで層間絶縁して構成したB、。。の異な
る7種類の外径155mm。
内径6(1g+w、厚さ25mmの可飽和リアクトル磁
心を各々6個使用したときの単位重量当たりの磁心損失
PcとB1゜。の関係を示したものである。いずれも図
中破線で示す従来例#4のPcの値よりも小さいことが
わかる0本発明における可飽和リアクトル磁心のうちB
ee。が0.8T以下の磁心では、同図1点鎖線で示す
従来例#4のPcの1/2の値よりも小さくなり、その
改善効果が顕著であり、励起回路の高効率化、および可
飽和リアクトル磁心の冷却機構がコンパクト化できる等
の点で優れることがわかった。特に、Be。。が0.7
T以下の磁心のPcは同図に示す如く、従来例#4のP
cの1/3の値を示す2点鎖線以下の値を示しており、
特に小形化を図りつつ高効率化。
高繰り返し化を行う場合に可飽和リアクトル磁心の冷却
機構が著しく小形化できるため、従来例に比べて特に優
れることがわかった。なお2本実施例において88゜。
が0.5 T以下となる可飽和リアクトル磁心の場合に
は、キエリー温度が150℃以下となるため、高温動作
時の圧縮比が十分とれなくなり、実用上問題であること
もわかった。
(実施例4) 第17図は、前記実施例1〜3と同−条件下で前記実施
例1〜3と同一組成系で磁歪の異なる非晶質磁性薄帯を
用い、同一の層間絶縁方法を用い同一形状で夫々6個用
い9繰り返し周波数200Hzにて連続動作させたとき
の磁心損失Pcの変化を示したものである。同図から明
らかなように。
実線および破線で示す本発明のものはPcの経時変化が
小であり、磁歪定数λSが−txio’〜+lX10−
’の範囲内にある場合にはPcの経時変化が殆ど認めら
れず、特に信頼性の高い励起回路を得ることができる。
一方従来例#4においてはその磁歪定数λ3が27X1
0−’と大きいため。
Pcが大幅に増加する問題のあることもわかった。
(実施例5) 第18図は、前記実施例4と同一条件下で前記実施例1
で良好な特性の得られた組成系の非晶質磁性薄帯を用い
、前記実施例1と同一手法で製作したBr/B++o。
の異なる同一形状の磁心を各々6個使用したときの磁心
損失Pcの経時変化を調べたものである。同図よりBr
/Bs。。が0.8程度以下のものにおいてPcの著し
い変化のあることがわかる。このため経時変化の少なく
信頼性の高い励起回路を得るためにはBr/Bs。。を
0.8以上とすることが特に有効なことがわかった。
(実施例6) 第1図に示す励起回路をKrFエキシマレーザに使用し
、電源1の電圧E=30kV、コンデンサ5.6.10
の容量C+、 Ct、 Cxを全て30nF。
レーザ主放電電極13の有効長600mm、電橋闇路R
20mn、ガス圧力2.6気圧、ガス組成Kr:3.5
%、 F、  :0.13%、残部Heとし、第1表に
示すトロイダル形状の可飽和リアクトル磁心と。
第19図および第3表に示すレース・トラック形状の可
飽和リアクトル磁心を用いたときの緒特性の比較を第4
表に示す。
第 表 第 表 (1)各非晶質磁性薄帯の板厚は約25μm、層間絶縁
には厚さ6μmのポリエステル・フィルム使用。磁心形
状は第19図参照、Bl。。、  Br、 Br/Be
。。は平埋九由コンデンサ容量: Cl =Cz=Cs
= 3 Orr F、入力電圧:E=30kV人力エネ
ルギ:13.5J、  レーザ主B」i尉蚤:を助長6
00m簿、電君?街し聰2−〇、電圧立上り時間は波高
値の10%から90%に達するまでの時間。
第4表より1本発明におけるレース・トラック形の可飽
和リアクトル磁心#5〜#7を用いた場合には2Mi心
形状が大となるため2本発明#l〜#3の場合に比べて
磁心損失が増加し、エネルギ転送効率が低下するが、最
終段のコンデンサ10即ちC1電圧の立上りを急峻とす
ることができるため、総合効率を上昇させ得ることがわ
かる。この理由は、レーザ主放電電極の形状が可飽和リ
アクトル磁心の端面方向に対して横長の構造をしている
ため、同磁心をレース・トラック形状とすることにより
磁心飽和後のインダクタンスを低下させることができる
ためである。特に、コンデンサ容量が大きい場合、ある
いは例えば可飽和リアクトル磁心の端面方向に対して横
長の負荷形状をしている場合には、上記のように可飽和
リアクトル磁心の形状をレース・トラック形状とするこ
とが有効なことがわかった。
なお5本実施例ではU■予備電MKrFエキシマレーザ
への適用例を示したが、スパイカ・サステーナ方式(本
方式については、  C,I(、Fisheretal
:”lligh efficiency XeCl  
1aser with 5pikerand magn
etic 1solation” Appl、phys
、LefL、48(23)9 June 1986.p
p、1574〜1576参照)等の他の励起方式あるい
は他の放電レーザに用いても同一の効果が得られる。
(実施例7) 本発明における多段磁気パルス圧縮回路を含む励起回路
の1実施例として第20図に示す回路構成を有するイン
ダクタンス 起回路について以下説明する。第20図において。
61は直流電源、62は充電抵抗、63はサイラ1−ロ
ン、64.68はコンデンサ、65は変圧器。
66は変圧器65の1次巻線、67は変圧器65の2次
巻線、69.71は可飽和リアクトル。
70はパルス整形回路、72はアクセラレータ・セルで
ある。第21図は第20図の回路における各部波形の概
念図を示したものであり、同図におけるV、はコンデン
サ68の端子電圧+vff。はパルス整形回路70の入
力電圧、■、2はアクセラレータ・セルフ2の入力端子
波形である。本実施例では第20図の回路において、第
5表に示す仕様を満足するように第6表に示す可飽和リ
アクトル磁心を用い、第7表に示すように各部定数を選
定して、動作実験を行った。
第5表 第 表 以下余白 由各非晶質磁性薄帯の板厚は約15μm、N間絶縁には
厚さ6μmのポリイミド・フィルム使用、磁心形状40
0φ×以預φX50(m)、 B、。。、Br、Br/
Be。。は平j頭九第  7  表 これらの図より1本発明1〜3によるv7□波形は従来
例によるv?!波形に比べて著しく立上り、および立下
り特性が改善されており、アクセラレータ・セルの負荷
となる電子ビーム等の荷電粒子ビームを効率よく加速で
きることがわかった。
また、このときの第21図で定義されるv、8゜vtt
波形の時間幅τ1.τ2.および可飽和リアクトル磁心
69,71の磁心損失PC69,およびPc71の比較
を第8表に示す。
第8表 第5表に示す仕様の出力電圧波高値15kVとなるよう
に電源61の電圧値を設定したときに。
第7表に示す本発明1〜3.および従来例の4つの場合
におけるアクセラレータ・セルフ20入力電圧vttの
波形を夫々第22図〜第25図に示す。
同表より9本発明1〜3はいずれも従来例に比べて、が
小さくサイラトロン63の損失は大となるが、可飽和リ
アクトル磁心の損失は低減可能であることがわかる。
前記本発明1〜3におけるτ1が従来例に比べて小さい
ことを改善するため、第26図に示すように磁気パルス
圧縮回路をさらに1段追加し、第9表の本発明4〜6の
ように構成したときの第27図で定義される”/ 0.
V AI+  vl。波形の時間幅τ0.τ1.τ2お
よび可飽和リアクトル磁心74.69.71の磁心損失
Pctnt PC491PCy+を第1O表に示す。
以下余白 第 表 第io表 これらの表より本発明5,6は磁気スイッチを1段追加
することにより、τ。を前記第8表に示す従来例のτ1
より長くすることができ、サイラトロン63の損失を前
記従来例より小とすることができることがわかった。ま
た2本発明5,6における可飽和リアクトル磁心損失の
合計は前記従来例よりも小となっており、高効率化が図
れるとともに、可飽和リアクトル磁心の冷却も容易とな
るため従来例で困難であった高繰り返し化も可能となる
なお、可飽和リアクトル磁心として第6表に示−#9を
用いた場合にも、さらに磁気圧縮回路を」加することに
より、前記本発明5.6の場合と1様にサイラトロン損
失、および効率ともに従来1より改善できることもわか
った。なお、この場ヲには可飽和リアクトル磁心の磁心
損失が従来例二比べ著しく減少するため、特に高繰り返
しを要はされる場合には極めて有利となることがわかっ
本実施例においては、1個の励起回路に使用する可飽和
リアクトル磁心を、何れも同一組成、同一特性および同
一形状のものとしたが、これらを異なるものの組み合わ
せによっても同一の効果が得られる。また本実施例では
多段磁気パルス圧縮回路を用いた励起回路への本発明の
実施例として。
インダクシジン・アクセラレータへの応用例を示したが
、エキシマレーザを初めとする放電励起レーザ等へ通用
した場合も同一の効果が得られることは言うまでもない
。また磁気パルス圧縮回路を多段化することにより、サ
イリスク等の固体素子をスイッチ素子として用いること
も可能となる。
〔発明の効果〕
以上説明したように9本発明によれば従来の磁気パルス
圧縮回路を含む励起回路において9問題であった可飽和
リアクトル磁心損失によるエネルギ転送効率の低下、お
よび同磁心発熱による温度上昇抑制用冷却装置の大形化
、高繰り返し動作限界の制限、可飽和リアクトル磁心の
飽和特性が良好でないために生ずる出力電圧パルスの立
上り時間の悪さ等の対策が可能となるとともに、長時間
動作、寿命の要求される用途で問題であった可飽和リア
クトル磁心の磁歪による経時変化を防止できる効果も有
する。
【図面の簡単な説明】
第1図、第3図、第4図、第20図、および第26図は
夫々本発明の対象である電気回路図、第2図は第1図に
おける電圧および電流の波形を示す図、第5図ないし第
7図は夫々第1図、第3図および第4図における磁気パ
ルス圧縮回路を多段化した場合の電気回路図、第8図は
Si、Bの組成βと磁心損失Pcとの関係を示す図、第
9図はΔB(80℃)/ΔB(23℃)とαとの関係を
示す図。 第10図ないし第13図は夫々磁心#1ないし#4を使
用 した場合の電圧および電流の波形を示す図、第 1
4図および第15図は各々動作磁化曲線の比較図、第1
6図はPcとB、。。との関係を示す図、第17図およ
び第18図は各々Pcとショフト数との関係を示す図、
第19図は本発明の実施例における可飽和リアクトルの
形状を示す図、第21図は第20図における主要部の電
圧波形を示す図、第22図ないし第25図は夫々第20
図に示すアクセラレータ・セルの入力電圧波形を示す図
、第27図は第26図における主要部の電圧波形を示す
図である。 7.7−1.7−2.7−n、27.27−1゜27−
2.27−n、49.49−1.49−2゜49−n、
69,71.14:可飽和リアクトル。 昂 図 第 5 m 第 2 図 27、乙q 、を1會きキロリア2ト1し第 凹 7−1,7−2.7−7L :  豆P憤こ3口り了フ
l−+し第 図 :S0 .1Q−1,庄q−2,6q−n :  可1亡40す
アクトlし島 図 27−1.27−2.27−7L : 可噌亡柑9了2ト1し /3(%) O 0,1 0,2 0,5 へ 第 100 ns/d、iv。 ん瓜(井2 第 図 too M s/ div。 ≦W、鳴\、、:lI 第 so /r1.s / L v。 4式℃ 斗さ 弗 100 ws/ciiv。 j;腹・(14 第 図 H(A/n) 第 凹 )f(A/rYL) 第 G 閏 B、r、o(”’r) 第 1V 口 第 q 口 第 閏 ′/ヨツトt((x +06) 尾 第 凹 弗 咋 閲 (10引s/div、 ) 弗 図 咋 問 (10/nsA;v、) 馬 図 q 71.74゜ 正P鴎二tロリ了2ト1V 第 目 Bi I”1ffi (IOnS/(Liv、)吊 図 ’r FIF!(10ns/cl;v、 )弗 図 H〒 側

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 組成が(Co_1_−_αM_α)_1_0_
    0_−_βX_β,ここでM:Fe,Mn,Ni,Cr
    ,Nb,Mo,V,Ta,Wのうち1種以上,X:B,
    またはBおよびSi,0<α≦0.24,12≦β≦2
    6である非晶質磁性材料からなる薄帯を積層し,この薄
    帯の層間を絶縁して形成した可飽和リアクトル磁心を使
    用したことを特徴とする磁気パルス圧縮回路を含む励起
    回路。
  2. (2) 可飽和リアクトル磁心の,直流磁化曲線におけ
    る磁化力800A/m時の磁束密度を0.5〜0.8T
    とした請求項(1)記載の磁気パルス圧縮回路を含む励
    起回路。
  3. (3) 可飽和リアクトル磁心の,直流磁化曲線におけ
    る磁化力800A/m時の磁束密度を0.5〜0.7T
    とした請求項(1)記載の磁気パルス圧縮回路を含む励
    起回路。
  4. (4) 可飽和リアクトル磁心の,直流磁化曲線におけ
    る磁化力800A/m時の磁束密度と残留磁束密度との
    比が0.80以上である請求項(1)記載の磁気パルス
    圧縮回路を含む励起回路。
  5. (5) 非晶質磁性材料からなる薄帯の磁歪定数が−1
    ×10^−^6〜+1×10^−^6である請求項(1
    )記載の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路。
  6. (6) 可飽和リアクトルに入力される電圧パルスが,
    直流電源より抵抗若しくはインダクタンスを介して充電
    された第1のコンデンサの電荷をスイッチ素子をオンさ
    せることにより放電の時定数を定めるインダクタンスを
    通して第2のコンデンサに移行することにより発生させ
    た電圧パルスである磁気パルス圧縮回路を含む励起回路
  7. (7) 可飽和リアクトルに入力される電圧パルスが,
    直流電源より抵抗若しくはインダクタンスを介して並列
    的に接続され充電された第1と第2のコンデンサのうち
    一方のコンデンサの電荷をスイッチ素子をオンさせるこ
    とにより放電の時定数を定めるインダクタンスを介して
    逆極性に移行させ,これによって前記2個のコンデンサ
    の電圧を直列的に加算するようにして発生させた電圧パ
    ルスである請求項(1)記載の磁気パルス圧縮回路を含
    む励起回路。
  8. (8) 可飽和リアクトルに入力される電圧パルスが,
    変圧器の1次側に設けられたパルス発生回路により同変
    圧器の2次側に誘起された電圧パルスである請求項(1
    )記載の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路。
  9. (9) 磁気パルス圧縮回路を多段に使用する請求項(
    1)記載の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路。
  10. (10) 最終段の可飽和リアクトル磁心の形状がレー
    ス・トラック形である請求項(1)記載の磁気パルス圧
    縮回路を含む励起回路。
  11. (11) 励起回路が放電励起レーザ用である請求項(
    1)記載の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路。
  12. (12) 放電励起レーザがエキシマレーザである請求
    項(11)記載の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路。
  13. (13) 励起回路が加速装置用である請求項(1)記
    載の磁気パルス圧縮回路を含む励起回路。
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