JPH03101708A - 反射結像光学装置 - Google Patents

反射結像光学装置

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JPH03101708A
JPH03101708A JP1239551A JP23955189A JPH03101708A JP H03101708 A JPH03101708 A JP H03101708A JP 1239551 A JP1239551 A JP 1239551A JP 23955189 A JP23955189 A JP 23955189A JP H03101708 A JPH03101708 A JP H03101708A
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JP
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spherical
concentric
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JP1239551A
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Yutaka Ichihara
裕 市原
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Nikon Corp
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/082Catadioptric systems using three curved mirrors
    • G02B17/0832Catadioptric systems using three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which not all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry, e.g. at least one of the mirrors is warped, tilted or decentered with respect to the other elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70233Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
    • GPHYSICS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は反射結像光学系、特に縮小投影が可能な反射結
像光学装置に関する 〔従来の技術〕 従来、LSIや超LSI等の半導体素子の製造に用いら
れる露光装置においては、その光源として水銀ランプが
用いられてきた。そして、半導体素子パターンの一層の
微細化に対応するために、露光光源としてより短波長の
エキシマレーザも用いられるようになってきている。し
かし通常の光を用いるかぎり、単波長化にはおのずと限
界があり、0.2μm以下の線幅パターンを露光するた
めにはX線を用いる必要がある。
X線を用いる露光装置も既に開発されているが、これら
はすべてマスクの影絵をウエハーに転写する所謂プロキ
シミテイ一方式であって投影倍率は等倍である。このた
め、投影原版としてのマスク自体を極めて微細なパター
ンに仕上げておくことが不可欠であり、具体的には0.
2μmの線幅で0.5μm以下の位置精度でマスクを作
ることが必要となってくる。このような微細パターンを
有するマスクを加工することは極めて困難であり、X線
を用いたとしてもプロキシミティ一方式では実用にはな
らないものであった。
〔発明が解決すべき課題〕
そこで、X線を用いて縮小投影露光できる装置が望まれ
ているわけであるが、通常のレンズはX線を透過しない
ために使用できず、光学系としては反射系のみ使用可能
である。勿論非球面の反射系を用いればこのようなX線
反射縮小投影光学系は設計可能である。しかしながら、
X′a領域では極めて高い加工精度が必要となるため、
非球面の反射系は到底製造できるものではない。
従って、実用的に使用できる反射面は球面のみである。
球面のみで構成された反射光学系としては古くからンユ
ワルツシルド型が知られている。これは第8図に示すよ
うに同心の凹面鏡lと凸面鏡2との2枚の球面反射鏡に
よって構威される光学系であり、非常に優れた光学系で
ある。しかし唯一とも言える欠点は、同心光学系である
ため物体面及び像面が反射鏡の球心を中心として球面状
に湾曲していることである。
物体面を平面にとれば像而はさらに湾曲してしまう。こ
のため、広い露光面積を必要とする半導体製造装置には
使用できないものであった。
本発明の目的は、球面のみからなる簡単な構成でありな
がら、広い領域にわたって平坦な結像面を形戒でき、縮
小投影が可能な反射結像光学装置を提供することにある
〔問題点を解決する為の手段〕
本発明は、少なくとも1組の同心光学系を含む複数の球
面反射光学系を有する光学装置において、前記複数の球
面反射光学系により形威される中間像の少なくとも1ケ
所の中間像位置近傍に球面反射鏡を配置したものである
。具体的には、同心光学系として所謂ンユワルツシルド
光学系を用い、その中間像付近に像面湾曲補正用の球面
しらなる凹面反射鏡を配置したものである。
〔作用〕
本発明によれば、少なくとも1組の同心光学系によって
発生する補正しきれない像面湾曲を、中間結像面の近傍
に配置した球面反射鏡によって良好に補正することがで
きる。この像面湾曲補正用球面鏡の設計法は以下の通り
である。
いま、例えば第1図に示した第1実施例の如き2つの同
心光学系S .. S !を組み合わせるものとする。
そして、全系による縮小投影倍率をM分のIとし、倍率
引分の1の第1光学系Sと、倍率m2分の1の第2光学
系S,とを組合せてM分の1の縮小投影光学系を得るこ
ととする。
すなわち、M=m+Xm*とする。
そして、引分の1の倍率の第l光学系Slを考えその物
体面01を平面とする。次に、m7分の1の倍率の第2
光学系S2の像面■,を平面とし、その像a,の大きさ
は第1光学系の物体a0のM分のlとする。第2光学系
S,の物体と像の配置は第1光学系の逆とし、各々の光
学系の光軸を一致させ第l光学系S1の像面■と第2光
学系S2の物体面O,とを光軸上で一致させる。すると
第2図に示す如く、第1光学系の像面■1と第2光学系
の物体面O,とはそれぞれおおよそ球面状に湾曲してお
り、互いの大きさは等しいが、湾曲の度合は異っている
第l光学系による像面Lと第2光学系についての物体面
02との対応する点の中点を結んでできる曲面Mを考え
るとこれもほぼ球面状となり、この面Mを鏡面とすると
、第l光学系の像面I1と第2光学系の物体面O,とが
反射面Mを介して共役となる。
その結果、第1光学系の物体面01上の平面物体a0は
、第2光学系の像面I,上にM分の1の平面像a+とじ
て結像され、平面物体の平坦な像が所望の倍率にて像面
湾曲なしに形成されるのである。
尚、同心光学系における光軸Aは、物体面及び像面を与
えたとき、同心中心を通り物体面及び像面に垂直な直線
として定義するものとする。
ところで、像面湾曲補正用球面鏡の設計について上記と
は別の説明をすると、像面湾曲のない光学系とはペッツ
バール和がOの光学系である。いま、各同心光学系にお
いて各反射面の曲率半径をrl. r2.・・・・・・
,r7とするとき、ペッツバール和Pは、 P=1/r++l/r,+1/rs+−・−−−−+ 
1/r.  (11となるから、この(1)式の値が0
であることが侃面湾曲のない条件となる。
従って、各同心光学系が2つの同心反射面からなるシュ
ワルツシルド光学系であるとすれば、r+、rzを第1
のシュワルツシルド光学系の曲率半径、r,、r,を第
2のシュワルツシルド光学系の曲率半径とするとき、中
間像位置付近に置く像面蒲正用球面MMの曲率半径rは
、 で与えられる。
このf11式は、第k面の入射光側の屈折率をN1、射
出光側の屈折率をNk′ とし、補正反射面の入射光側
の屈折率をN(0,射出光側の屈折率をN1  とする
とき、より厳密には以下のとおりとなる。
k−1    ,, ここで、屈折率N.’ ,Nk等は1又は=1であり、
その符号は後記する反射面間隔と同様に光線の向きが左
側である場合を正、右側である場合を負としている。
この球面が第2図にて前述した像面補正用反射鏡と一致
するのは勿論である。
同様に、同心光学系を含む全系の反射面の曲率半径をr
l+ rl+ ・・・・・・,reとし、そのうちの第
1番目の反射面が中間像位置近傍に配置される像面補正
用反射面であるとすると、その曲率半径ryは、一般に k−1    r,      k−+4   ,,で
与えられる。
そして実際上は、シュワルツシルド光学系やそれに組み
合わされる光学系における残存収差とのバランスに応じ
て、上記(31式によって決定される像面補正用反射面
の曲率半径を適宜修正することが必要である。その場合
、最終的な像面補正用反射面の曲率半径の値rは、(2
)式や(3)式で決定される値rMに対して、 λ の範囲に設定することが有効である。
ここで、λは波長、Yは最終像の像高、NAは最終像面
における結像光束の開き角に対応する開口数である。
上記(4)の条件は、3次収差論により求められるベッ
ツバール像面のガウス像面からのズレ量Δ=−Y’(N
k’P)と、回折限界の光学系におけるjQ点深度 Δ
Z=±λ/2(NA)’との関係に基づいて決定した条
件であり、上記の範囲を超える場合には、像面補正用の
反射面において発生する高次収差が著しくなりすぎるた
め良好な結像を得ることが難しくなる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
第I図は本発明の第1実施例の構威を示す断面光路図で
あり、物体a.の軸上点から発する主光線が最終像a+
に達する様子を示している。
図示のように、第1実施例は、C1を球心とする凸面鏡
の第1反射鏡R.と凹面鏡の第2反射鏡R,とからなる
第lシュワルツシルド型同心光学系S,、像面補正MM
としての第3反射#lIR,、及びctを球心とする凹
面鏡の第4反射鏡R4と凸面鏡の第5反射鏡R,とから
なる第2シュワルツシルド型同心光学系S2とで構成さ
れている。ここで、第lシュワルツシルド型同心光学系
は縮小系であり、第2シェフルッシルド型同心光学系は
拡大系である。
物体a6からの光束は、第1反射面としての凸面鏡R+
、第2反射面としての凹面鏡R2で反射されて中間像a
,を形戒する。中間像a1は湾曲しているが、中間像a
1の近傍に配置された第3反射鏡としての凹面鏡R,に
よってさらに曲げられ像a!を形威する。中間像a,の
近傍に配置された第3反射鏡としての凹面鏡R,での反
射を受けた光束は、第4反射面としての凹面鏡R,、第
5反射面としての凸面鏡R,で反射されて最終(l a
 tを形戒する。
像面補正鏡Mとしての第3反射MR,によって、中間像
a1が第2図について説明した如く、反射像a2として
適度に曲げられているため、第1及び第2シュワルツシ
ルド光学系で生じる像面湾曲は補正され、最終像a,は
平面に形成される。このような構戊において、更に最終
像a,を形或する主光線が光軸にほぼ平行となるように
像餌でのテレセントリック性を良くするためには、像面
補正鏡としての第3反射鏡R,をわずかに傾けることが
有効である。
上記の第1実施例は、最終像を縮小結像するために、第
1シュワルツシルド光学系を縮小系とし、1g2シュワ
ルツシルド型同心光学系を拡大系として組み合わせたが
、本発明においてはこのような組合せに限られるもので
はない。すなわち、シュワルツシルド型同心光学系の拡
大と縮小は適宜選択して組み合わされるべきものであり
、同心光学系としては凹面反射鏡と凸面反射鏡とからな
る等倍の所謂オフナー型を用いることも可能である。
第3図に示した第2実施例の構戒は、2つのシュワルツ
シルド型同心光学系を、共に縮小系として組合せたもの
である。すなわち、物体a。から光路に沿って、第1反
射鏡としての凸面反射鏡R,と同心中心C,を有する第
2反射面としての凹面鏡R,からなる第lシュワルツシ
ルド光学系Slにより、中間像a1が形成され、像面捕
正鏡Mでの反射を介して、第4反射鏡としての凸面反射
#IR1と同心中心C,をぎする第5反射面としての凹
面M R +からなる第2シュワルツシルド光学系S2
により最終像alが形成される。
また、第4図に示した第3実施例の構戊は、第1のンユ
ワルッシルド光学系SIを拡大系とし、第2のシュワル
ツシルド光学系S2を縮小系として組み合わせたもので
ある。すなわち、物体a0から光路に沿って、第1反射
鏡としての凹面反射鏡R1と同心中心C,を有する第2
反射面としての凸面鏡R,からなる第lシュヮルツシル
ド光学系Slにより、中間像alが形威され、像面補正
鏡Mでの反射を介して、第4反射鏡としての凸面反射M
RI と同心中心Ctを有する第5反射面としての凹面
鏡R,からなる第2シュワルツシルド光学系S,により
最終像a,が形成される。
これらの実施例においても、像面補正用反射MMの曲率
半径は上記(2)式によって与えられ、平面物体a0の
平坦な縮小像a,が鮮明に形或される。
第5図に示した第4実施例は、物体側に縮小系のンユワ
ルツシルド光学系S1を用い、像側に等倍の同心系S,
を用いている。等倍系はシュワルツシルド型ではなく、
凹面鏡と凸面鏡との組合せからなり凸面鏡での反射の前
後で1回づづ凹面鏡で反射させる構戒の所謂オフナー型
を用いている。具体的には、物体a,から光路に沿って
、第1反射鏡としての凸面反射鏡Rと同心中心C1を有
する第2反射面としての凹面鏡Rlからなる第1同心光
学系としてのシュワルツシルド光学系SIにより、中間
像a1が形成され、像而補正鏡Mでの反射を介した後、
同心中心C,を有する第4反射面としての凹面反射鏡R
.と第5反射面としての凸面反射itRSからなるオフ
ナー型第2同心光学系S2によって、最終像a,が形威
される。ここで、第2同心光学系S,が等倍のオフナー
光学系であるため、最終像alが光軸外に位置すること
になるが、中間像はal湾曲しているのに対し、最終像
a,ほこの平面内に位置する平坦な像として形成される
ことは前述の実施例と同様である。
そして、この第4実施例においては、最終像a,に達す
る主光線を像面に対して垂直になる状態を維持するため
に、物体面a0を光軸に対して傾けておくことが有効で
ある。
以上のとおり、複数の同心光学系を組み合わせて所望の
縮小倍率の投影光学装置が構成されるが、第1図に示し
た第1実施例の構成が、最も大きな領域にわたって平坦
な像を得ることができ、露光面積を大きくするのに有利
である。
第1図に示した2つのシュワルツンルド型同心光学系を
組み合わせた具体的横威例を第6図に示しす。
第6図において、MSは前記物体a0に対応するマスク
(レチクル)等の披投影物体であり、WFは前記最終像
a,が転写されるウエハ面等の露光面である。M(Rs
)が像面湾曲補正面でり、その他第1図と同一機能の部
材には同一の記号を付した。第6図に示した構成では、
像面補正用の第3反射面と第4反射面との間の光路中に
、絞りSを配置している。また、平面鏡M0は最終像が
第1反射鏡R1と機械的に接触するのを避けるために設
けられている。
第6図に示したように、光線が左から右に進方向を正と
し、左側に凸面を向けた反射面の曲率半径rを正、左側
に凹面を向けた反射面の曲率半径rを負とし、面間隔d
は光線の進行方向が正である媒質中は正とし、光線の進
行方向が負である媒質中では負とするものとし、その諸
元の値を以下の表に示す。尚、表中、d0は第6図に示
した如く、物体面から第1反射面の頂点までの距離であ
り、d6は第5反射面の頂点から最終像面までの距離で
ある。
倍率−1/3  NA=0.02 像高 Y = 201am j,=  595.27679 r2=2163.40741 r= 一−300. 90422 ( M :像面補正
用反射面)r+= 4347.90820 rs=  426.12529 d.=  2059.02029 d  =−1575.26720 dz=  2634.39929 ds=  −222.74000 d4=−4459.64835 ds=  3945.38501 d*=  −238.79334 像面サイズφ= 20+nn+ 上記の具体的数値例において、物体面は平面であり、像
而も平面となっており、第1同心光学系SIによる像筒
の曲率半径R1.は410.625 、また第2同心光
学系S,についての物体面の曲率半径R。.は−236
.213である。従って、像面湾曲補正用反射面として
の第3反射面の曲率半径r3の値は、上記各曲率半径の
はぼ中間の値となっていることがわかる。
また、ペッツバール和に関連した上記(4)式の条件に
ついてみれば、(3)式で求まる像面補正用反射面の曲
率半径rwの値は、 r M =299. 90502 となる。そして、本実施例においては、波長λ=100
人 、最終像高Y = 20mm,最終結像光束の開口
数NA= 0. 02であるから、上記(4)式の右辺
の値は、次のとおりである。
λ rv’ =5.6mm Y ” (NA)” これに対し上記のとおり像面補正用反射面(第3反射面
)の曲率半径r.は−300. 90422であり、左
辺の値は、 r−rw  =0.9992 となるから、上記条件(4)が満たされていることが分
かる。
上記の諸元の構成における最終像についての非点収差、
歪曲収差及び横収差を第7図に示した。
第7図から分かるように、像面は像高20mmにわたっ
てほぼ良好に補正されており、歪曲収差も横収差も極め
て良好に浦正されており、3分の1の縮小倍率にて優れ
て結像性能であることが明らかである。
〔発明の効果〕
以上の様に本発明よれば、球面のみからなる簡単な構成
でありながら、広い領域にわたって平坦で高解像の像を
得ることができ、縮小投影が可能な反射結像光学装置が
達戊され、屈折系を用いることのできないxvin光装
置として極めて有用なものである。また、補正用球面反
射鏡又は物体面を傾けることにより像側のテレセントリ
ック性を向上させることが可能であり、露光装置として
より適したものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による第l実施例の構或図、第2図は像
面湾曲補正用反射鏡の機能を説明するための図、第3図
は第2実施例の構成図、第4図は第3実施例の構成図、
第5図は第4実施例の構成図、第6図は第1図に示した
第1実施例の具体的数値構戊例を示す図、第7図はその
諸収差図、第8図は公知のシュワルツシルド光学系を例
示する図である。 〔主用部分の符号の説明〕 S1・・・第1同心光学系 S,・・・第2同心光学系 R ,, R *, R s. R +, R i・・
・球面反射鏡M ・・・像面補正用反射鏡

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)少なくとも1組の同心光学系を含む複数の反射球面
    光学系を有する光学装置において、前記複数の球面反射
    光学系により形成される中間像の少なくとも1ヶ所の中
    間像位置近傍に球面反射鏡を配置したことを特徴とする
    反射結像光学装置。 2)前記球面反射鏡は凹面反射面であり、その曲率半径
    は、前記複数の球面光学系の合成系による像面湾曲に対
    応する値であることを特徴とする請求項1記載の反射結
    像光学装置。
JP1239551A 1989-09-14 1989-09-14 反射結像光学装置 Pending JPH03101708A (ja)

Priority Applications (2)

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US07/578,787 US5071240A (en) 1989-09-14 1990-09-07 Reflecting optical imaging apparatus using spherical reflectors and producing an intermediate image

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JP1239551A JPH03101708A (ja) 1989-09-14 1989-09-14 反射結像光学装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0850246A (ja) * 1994-05-23 1996-02-20 Hughes Aircraft Co 補正ミラーを有する軸を外れた3ミラーアナスチグマート装置
EP1901106A3 (en) * 2006-09-15 2008-04-16 Ricoh Company, Ltd. Optical projection system having two sub-systems and forming an intermediate image there between

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