JPH03102795A - Shutter for protection of launcher - Google Patents
Shutter for protection of launcherInfo
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- JPH03102795A JPH03102795A JP24009089A JP24009089A JPH03102795A JP H03102795 A JPH03102795 A JP H03102795A JP 24009089 A JP24009089 A JP 24009089A JP 24009089 A JP24009089 A JP 24009089A JP H03102795 A JPH03102795 A JP H03102795A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は大電力マイクロ波による加熱,加工処理,プラ
ズマ生成などに利用の際必要となるマイクロ波発射ラン
チャを保護するためのランチャ保護用シャッタに関する
。[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention is intended to protect a microwave launcher necessary for use in heating, processing, plasma generation, etc. using high-power microwaves. This invention relates to a shutter for protecting the launcher.
(従来の技術)
電磁波の一種であるマイクロ波を誘電体に照射してかつ
,加工処理を行ったり、気体に照射してプラズマを生成
する装置は、マイクロ波を発射するランチャ部分を有す
る。(Prior Art) A device that irradiates a dielectric material with microwaves, which are a type of electromagnetic waves, to perform processing or irradiate a gas to generate plasma has a launcher portion that emits the microwaves.
第2図はその一例を模式的に図示したもので、マイクロ
波発振器1で生成されたマイクロ波は導波管4に導かれ
、照射体3を閉じ込めているチャンバ16の入口ポート
6に設けたランチャ2に到達する。このランチャ2から
発射されたマイクロ波が照射体3に入射し加熱作用,プ
ラズマ生成作用を生ぜしめる。発振器lとランチャ2と
の間にはランチャ2から見た照射体3のインピーダンス
と導波管4のインピーダンスを整合させる整合器5およ
び導波管4を通過するマイクロ波電力を測定するパワー
モニタ15などを必要に応じて設けることがある。ここ
で、ランチャ2,整合器5,導波管4等のマイクロ波回
路は周波数によって様々な形状を取り得るものである。FIG. 2 schematically shows an example of this, in which microwaves generated by a microwave oscillator 1 are guided to a waveguide 4 provided at an inlet port 6 of a chamber 16 that confines an irradiator 3. Reach launcher 2. The microwave emitted from the launcher 2 enters the irradiator 3 and causes a heating effect and a plasma generation effect. Between the oscillator 1 and the launcher 2, there is a matching device 5 that matches the impedance of the irradiator 3 seen from the launcher 2 and the impedance of the waveguide 4, and a power monitor 15 that measures the microwave power passing through the waveguide 4. etc. may be provided as necessary. Here, the microwave circuits such as the launcher 2, matching device 5, waveguide 4, etc. can take various shapes depending on the frequency.
すなわち、UHF帯ではランチャ2はホーン型アンテナ
が適しているが、100GHzを越えるミリ波帯では電
磁波は光のように反射しながら進むことも可能で、ラン
チャ2は複数の鏡面をもつ反射ミラーで置き替えること
もある。In other words, in the UHF band, a horn-type antenna is suitable for the launcher 2, but in the millimeter wave band exceeding 100 GHz, electromagnetic waves can propagate while being reflected like light, and the launcher 2 is a reflective mirror with multiple mirror surfaces. It may be replaced.
さて、これらのランチャから大電力マイクロ波を発射さ
せようとすると、以下のような課題が生じてくる。Now, when trying to emit high-power microwaves from these launchers, the following problems arise.
まず、マイクロ波が導波管4ないしはランチャ2内を伝
播するときには導体表面にも高周波電流が流れるが、こ
の変位電流は表面近傍に限られていて、その厚みは周波
数とともに薄くなる。例えば、100GHzのマイクロ
波に対し銅の表面からわずか0.2μmの厚さである。First, when the microwave propagates within the waveguide 4 or the launcher 2, a high frequency current also flows on the surface of the conductor, but this displacement current is limited to the vicinity of the surface, and its thickness decreases with frequency. For example, for microwaves of 100 GHz, the thickness is only 0.2 μm from the copper surface.
大電力マイクロ波を伝播させようとすると高周波電流も
大きくなるので、前述の表皮は伝導性のすぐれた導体で
切れ目なく覆い、抵抗損失を極力小さくする必要がある
。When trying to propagate high-power microwaves, the high-frequency current also increases, so the skin needs to be covered with a highly conductive material without any breaks to minimize resistance loss.
また、導波管4ないしはランチャ2内部の空間には電場
が立ち、大電力マイクロ波の場合には向き合う導体表面
間に高い高周波電圧が現われる。Further, an electric field exists in the space inside the waveguide 4 or the launcher 2, and in the case of high-power microwaves, a high high-frequency voltage appears between the facing conductor surfaces.
導波管4ないしはランチャ2内での放電を避けるために
、導体表面は突起物がない滑らかな仕上げにする必要が
ある。In order to avoid electrical discharge within the waveguide 4 or launcher 2, the conductor surface must have a smooth finish with no protrusions.
一方、ランチャは加熱,加工処理される誘電体または発
生プラズマに面しているので、これらの照射体3からの
影響で無視できない。すなわち、急速な加熱から照射体
が破裂してその破片が四散し、ランチャ2の表面に衝突
することがある。また、高温になった照射体3からの熱
線,発生プラズマの一部,プラズマ中に生成された活性
化物質等も飛来する。高温プラズマになると、核反応が
起って中性子なども飛来する。これら照射体3から放射
される物質およびエネルギの量は、大電力マイクロ波と
なる程大きくなるので、ランチャ2の表面は損傷を受け
る。すなわち、熱線および粒子線の衝突でランチャ2の
表面は損傷し、表面剥離または突起を生じる。On the other hand, since the launcher faces the dielectric material to be heated and processed or the generated plasma, the influence from these irradiators 3 cannot be ignored. That is, the irradiator may burst due to rapid heating, and its fragments may scatter and collide with the surface of the launcher 2. In addition, heat rays from the irradiator 3 which has reached a high temperature, a part of the generated plasma, an activated substance generated in the plasma, etc. also fly. When it becomes a high-temperature plasma, nuclear reactions occur and neutrons and other particles are also released. Since the amount of material and energy emitted from these irradiators 3 increases as the power of the microwave increases, the surface of the launcher 2 is damaged. That is, the surface of the launcher 2 is damaged by the collision of the heat rays and particle beams, resulting in surface peeling or protrusions.
前述したように大電力マイクロ波の伝播にとって導体表
面の状態は極めて重要であるから、表面剥離が生じると
高周波電流路が遮られて発熱を起こしたり、突起物先端
から放電する可能性がある。As mentioned above, the condition of the conductor surface is extremely important for the propagation of high-power microwaves, so when surface peeling occurs, the high-frequency current path is blocked, causing heat generation, and there is a possibility of discharge from the tips of the protrusions.
高周波電流が流れなくなったり、放電を起こしてしまっ
ては、本来の機能であるマイクロ波の発射が困難となる
から、ランチャ2は照射体3からの影響を受けないよう
に保護しなければならない。If the high frequency current stops flowing or discharge occurs, it will be difficult to emit microwaves, which is the original function, so the launcher 2 must be protected from being affected by the irradiator 3.
照射体3からの熱線および粒子線を遮る手段としては、
一般にシャッタとよばれるものが知られている。第3図
はその一例を模式的に図示したもので、照射体と保護す
べきものとの間のボート6をスライド板17で遮る構造
である。As means for blocking heat rays and particle rays from the irradiator 3,
What is generally known as a shutter is known. FIG. 3 schematically shows an example of this, in which the boat 6 between the irradiation object and the object to be protected is blocked by a slide plate 17.
スライド板17はシャフト9により駆動機構8と連結し
てあり、ここには図示しない制御装置で必要時にのみ開
口することができる。The slide plate 17 is connected to the drive mechanism 8 by a shaft 9, and can be opened only when necessary by a control device (not shown).
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、第3図に示したようなシャッタを大電力
マイクロ波発射用ランチャ2を保護するために用いよう
とすると、次に述べる新たな課題か生じる。スライド板
17は通常金属製で形成されており、照射体からの熱線
および粒子線を遮ると同時にマイクロ波もほぼ完全に反
射する。大電力マイクロ波が発射されている時にスライ
ド板17が閉じた位置にあると、反射電力はランチャ2
から導波管4を逆方向に伝播し、発振器1に環流して発
振器1を破損してしまう。反射電力による発振器1の損
傷を避けるためランチャ2と発振器1の中間にサーキュ
レーターなどを設けようとしても大電力用のサーキュレ
ーターが見当たらないのが現状である。またスライド板
17が閉じた位置にある時はマイクロ波の発振を禁止す
る制御機構も考えられるが、マイクロ波の発射が制限さ
れてしまい、高温プラズマの動向を監視しながらマイク
ロ波で加熱する場合には適さない課題がある。(Problems to be Solved by the Invention) However, if a shutter as shown in FIG. 3 is used to protect the high-power microwave launcher 2, a new problem will arise as described below. The slide plate 17 is usually made of metal, and at the same time blocks heat rays and particle beams from the irradiator, it also almost completely reflects microwaves. If the slide plate 17 is in the closed position while the high power microwave is being emitted, the reflected power will be reflected from the launcher 2.
The wave propagates in the opposite direction through the waveguide 4, flows back into the oscillator 1, and damages the oscillator 1. Even if it is attempted to provide a circulator or the like between the launcher 2 and the oscillator 1 in order to avoid damage to the oscillator 1 due to reflected power, the current situation is that no circulator for high power has been found. Furthermore, a control mechanism that prohibits microwave oscillation when the slide plate 17 is in the closed position can be considered, but the emission of microwaves is restricted, and if heating is performed using microwaves while monitoring the trend of high-temperature plasma. There are some tasks that are not suitable for
上述したように、大電力マイクロ波を発射するランチャ
2は照射体3からの熱線,粒子線などの影響を受けた表
面が損傷を受け、マイクロ波発射に支障を来すおそれが
ある。ランチャ2をこれらの熱線,粒子線から保護する
ために、従来のシャッターを用いたのでは反射電力によ
る発振器の破損,マイクロ波の発射制限などがあって、
効果的な発射ができない課題がある。As described above, the surface of the launcher 2 that emits high-power microwaves may be damaged by heat rays, particle beams, etc. from the irradiator 3, which may impede microwave emission. If a conventional shutter was used to protect the launcher 2 from these heat rays and particle rays, it would damage the oscillator due to reflected power and limit microwave emission.
There is an issue that prevents effective firing.
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、加
熱,加工処理,プラズマ生戊などに用いる大電力マイク
ロ波の発射ランチャを保護できるランチャ保護用シャッ
タを提供することにある。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a launcher protection shutter capable of protecting a high-power microwave launcher used for heating, processing, plasma generation, etc.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明はマイクロ波を発射するランチャと、このランチ
ャからマイクロ波が照射される照射体との途中に配置さ
れた反射ミラーと、この反射ミラーを前記マイクロ波伝
播路上に駆動する駆動機構と、前記反射ミラーから反射
されたマイクロ波を吸収する電磁的な模擬負荷とを具備
したことを特徴とする。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention provides a launcher that emits microwaves, a reflection mirror disposed in the middle of an irradiation body to which microwaves are irradiated from the launcher, and this reflection mirror. The present invention is characterized in that it includes a drive mechanism that drives the microwave onto the microwave propagation path, and an electromagnetic simulating load that absorbs the microwave reflected from the reflection mirror.
つまり、本発明に係るシャッタは反射ミラーからの反射
波を集光して模擬負荷に導くことを特徴とする。That is, the shutter according to the present invention is characterized in that the reflected waves from the reflecting mirror are focused and guided to the simulated load.
(作 用)
本発明に係るシャッタにおいては、大電力マイクロ波を
反射させて模擬負荷に導き、その電力を吸収させるから
、導波管を逆に伝播して発振器に至る反射電力がほとん
どなく発振器を損傷することはない。(Function) In the shutter according to the present invention, the high-power microwave is reflected and guided to the simulated load, and the power is absorbed. Therefore, there is almost no reflected power that propagates backward through the waveguide and reaches the oscillator. will not damage.
従って、発振器の動作に制限されず、必要な時間だけ開
くことができ、ランチャを保護する期間が長くとれる。Therefore, it is not limited to the operation of the oscillator, and can be opened only for the necessary time, so that the launcher can be protected for a long period of time.
また、模擬負荷に吸収させた電力を測定することによっ
て従来導波管の途中に設けたパワーモニタの役割を果た
すことができる。Furthermore, by measuring the power absorbed by the simulated load, it can function as a power monitor that is conventionally provided in the middle of a waveguide.
(実施例)
第l図を参照しながら本発明に係るランチャ保護用シャ
ッタの一実施例を説明する。(Embodiment) An embodiment of the launcher protection shutter according to the present invention will be described with reference to FIG.
図中第2図と同一部分には同一符号で示し、重複する部
分の説明を省略する。なお、本実施例は大電力マイクロ
波がランチャ2から発射された後のポート6に適用した
ものである。すなわち、発振器lは大電力マイクロ波を
生成し、ランチャ2が照射体3へ向けマイクロ波を発射
する。本発明のシャッタはランチャ2と照射体3との間
のポート6に位置し、反射ミラー7,駆動機構8および
シャフト9から構成される。In the figure, the same parts as in FIG. 2 are indicated by the same reference numerals, and the explanation of the overlapping parts will be omitted. Note that this embodiment is applied to the port 6 after the high-power microwave is emitted from the launcher 2. That is, the oscillator 1 generates high-power microwaves, and the launcher 2 emits the microwaves toward the irradiator 3. The shutter of the present invention is located at a port 6 between the launcher 2 and the irradiator 3, and is composed of a reflecting mirror 7, a drive mechanism 8, and a shaft 9.
反射ミラー7はランチャ2から発射されたマイクロ波伝
播路10上の途上に設置されていて、反射ミラー7で反
射されたマイクロ波はランチャ2と異なる位置に設置し
た模擬負荷11に向うように大電力マイクロ波伝播路に
対する角度を調整する。反射ミラー7は集光作用をもつ
曲面7aを形成しており、反射波を集束し細い入口スリ
ットを有する模擬負荷11の中に入射させる。一旦模擬
負荷11に入射したマイクロ波は入口スリットが十分小
さければそこから出てくる量は極めてわずかであり、逆
方向に伝播しても発振器1を破損することはない。The reflecting mirror 7 is installed in the middle of the microwave propagation path 10 emitted from the launcher 2, and the microwave reflected by the reflecting mirror 7 is directed toward the simulated load 11 installed at a different position from the launcher 2. Adjust the angle to the power microwave propagation path. The reflecting mirror 7 forms a curved surface 7a having a light-concentrating effect, and focuses the reflected waves to make them enter the simulated load 11 having a narrow entrance slit. Once the microwave has entered the simulated load 11, if the entrance slit is sufficiently small, the amount of microwave that will come out from the entrance slit is extremely small, and even if it propagates in the opposite direction, it will not damage the oscillator 1.
反射ミラー7は反射波が模擬負荷l1に向うような角度
に設置されているばかりでなく、シャフト9を経由して
駆動機構8により経由して駆動機構8によりボート6内
のマイクロ波伝播路10から引き抜くことが可能である
。引き抜かれた位置ではランチャ2から発射された大電
力マイクロ波は照射体3を加熱,加工処理したり、プラ
ズマを生成する。The reflecting mirror 7 is not only installed at an angle such that the reflected wave is directed toward the simulated load l1, but also is directed to the microwave propagation path 10 in the boat 6 via the shaft 9 and by the drive mechanism 8. It is possible to extract it from. At the pulled-out position, the high-power microwave emitted from the launcher 2 heats and processes the irradiator 3 and generates plasma.
本発明によれば、シャッタがマイクロ波伝播路10を遮
る位置にあった時、マイクロ波を発射しても発振器1を
破損することがないので、シャツタ閉じてランチャを保
護する時間を長くとることができる。その結果、加熱,
加工処理効率を損なうことなくランチャの損傷を最小限
に抑えることができる。According to the present invention, when the shutter is in a position that blocks the microwave propagation path 10, the oscillator 1 will not be damaged even if the microwave is emitted, so it is possible to take a long time to close the shutter and protect the launcher. I can do it. As a result, heating,
Damage to the launcher can be minimized without compromising processing efficiency.
さらに、本発明によれば、発振器1で生成された大電力
マイクロ波は模擬負荷11で吸収させるので、模擬負荷
11を冷却する冷却配管12の途上に設けた温度センサ
13a,13bと流量計を読み取ることにより、マイク
ロ波の電力を算定することができる。すなわち、従来の
導波管の途中に方向性結合器などを設けて微小電力を検
出して全体の電力を算定したパワーモニタに代って、熱
量測定によるパワーモニタとして利用できる。なお、電
力較正が単純かつ正確にできる利点もある。Furthermore, according to the present invention, since the high-power microwave generated by the oscillator 1 is absorbed by the simulated load 11, the temperature sensors 13a and 13b and the flow meter provided in the middle of the cooling pipe 12 that cools the simulated load 11 are By reading it, the power of the microwave can be calculated. That is, it can be used as a power monitor based on calorimetry instead of a conventional power monitor in which a directional coupler or the like is provided in the middle of a waveguide to detect minute power and calculate the total power. Note that there is also the advantage that power calibration can be performed simply and accurately.
なお、本発明は上記励磁したころに限定されない。例え
ば、反射ミラー7のシャフト9と駆動機構8はマイクロ
波伝播路10に対し垂直などの角度をもって取付けるこ
とができる。また反射ミラー7を回転運動によりマイク
ロ波伝播路10を開閉することもできる。Note that the present invention is not limited to the above-mentioned excited roller. For example, the shaft 9 of the reflection mirror 7 and the drive mechanism 8 can be attached at an angle such as perpendicular to the microwave propagation path 10. Furthermore, the microwave propagation path 10 can be opened and closed by rotating the reflecting mirror 7.
[発明の効果]
本発明によれば、大電力マイクロ波を発射するランチャ
を照射体からの熱線または粒子線から保護することがで
き、かつ反射電力による発振器の破損のおそれがないの
で、大電力マイクロ波の利用を図る上で益するところが
大である。[Effects of the Invention] According to the present invention, the launcher that emits high-power microwaves can be protected from heat rays or particle beams from the irradiator, and there is no risk of damage to the oscillator due to reflected power. There are many benefits to using microwaves.
第1図は本発明に係るランチャ保護用シャッタの一実施
例を示す模式図、第2図は従来のマイクロ波加熱,加工
処理する装置を一示す模式図、第3図は従来シャッター
を示す模式図である。
1・・・発振器
2・・・ランチャ
3・・・照射体
4・・・導波管
5・・・整合器
6・・・ポート
7・・・反射ミラー
8・・・駆動装置
9・・・シャフト
10・・・マイクロ波伝播路
11・・・模擬負荷
12・・・冷却配管
13a,13b・・・温度センサ
14・・・流量計
15・・・パワーモニタ
16・・・チャンバ
17・・・スライド板
(8733)代理人 弁理士 猪 股 祥 晃(ほか
1名)
第1図
第3図Fig. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a launcher protection shutter according to the present invention, Fig. 2 is a schematic diagram showing a conventional microwave heating and processing device, and Fig. 3 is a schematic diagram showing a conventional shutter. It is a diagram. 1... Oscillator 2... Launcher 3... Irradiator 4... Waveguide 5... Matching device 6... Port 7... Reflection mirror 8... Drive device 9... Shaft 10... Microwave propagation path 11... Simulated load 12... Cooling pipes 13a, 13b... Temperature sensor 14... Flow meter 15... Power monitor 16... Chamber 17... Slide board (8733) Agent Patent attorney Yoshiaki Inomata (and others)
1 person) Figure 1 Figure 3
Claims (1)
イクロ波が照射される照射体との途中に配置された反射
ミラーと、この反射ミラーを前記マイクロ波伝播路上に
駆動する駆動機構と、前記反射ミラーから反射されたマ
イクロ波を吸収する電磁的な模擬負荷とを具備したこと
を特徴とするランチャ保護用シャッタ。a launcher that emits microwaves, a reflection mirror disposed midway between the irradiator to which the microwaves are irradiated from the launcher, a drive mechanism that drives the reflection mirror onto the microwave propagation path, and a drive mechanism that drives the reflection mirror onto the microwave propagation path; A launcher protective shutter characterized by comprising an electromagnetic simulated load that absorbs reflected microwaves.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24009089A JPH03102795A (en) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | Shutter for protection of launcher |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24009089A JPH03102795A (en) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | Shutter for protection of launcher |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03102795A true JPH03102795A (en) | 1991-04-30 |
Family
ID=17054342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24009089A Pending JPH03102795A (en) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | Shutter for protection of launcher |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03102795A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006132960A (en) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Japan Atomic Energy Agency | High frequency power measuring device in high frequency heating device |
| WO2006098180A1 (en) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Shimane Prefecture | Electromagnetic wave heating device |
| JP2008021465A (en) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Tokyo Electron Ltd | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
| JP2011155013A (en) * | 2011-03-30 | 2011-08-11 | Masaji Miyake | Electromagnetic wave heating device |
-
1989
- 1989-09-18 JP JP24009089A patent/JPH03102795A/en active Pending
Cited By (5)
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| JP2006260915A (en) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Masaji Miyake | Electromagnetic heating device |
| JP2008021465A (en) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Tokyo Electron Ltd | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
| JP2011155013A (en) * | 2011-03-30 | 2011-08-11 | Masaji Miyake | Electromagnetic wave heating device |
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